Bienvenidos a Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Noticias
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Aspectos técnicos clave que suelen pasarse por alto en las actualizaciones de equipos de recubrimiento al vacío.
En la industria del recubrimiento al vacío, la actualización de equipos suele entenderse como la adición de más cátodos, el aumento de la capacidad de potencia, la ampliación de la cámara o la mejora del nivel de automatización. Estas actualizaciones pueden, en efecto, aumentar la capacidad de producción. Sin embargo, en proyectos de producción reales, el éxito de una actualización de equipos...Leer más -
Solución de recubrimiento de plata por pulverización catódica de Zhenhua: Reduzca los costos de metalización de plata en un 70 % y vaya más allá de la plata gruesa.
En la fabricación de varistores, condensadores cerámicos y sustratos cerámicos relacionados, la metalización de los electrodos terminales ha sido durante mucho tiempo un proceso crítico que determina directamente el rendimiento, la estructura de costos y la consistencia del producto. Tradicionalmente, la industria se basa en la impresión por transferencia de pasta de plata...Leer más -
Tipos de equipos de recubrimiento al vacío
La tecnología de recubrimiento al vacío es ampliamente reconocida por su respeto al medio ambiente, alta eficiencia, excelente uniformidad de la película y densidad superior de la misma. En aplicaciones industriales, los equipos de recubrimiento al vacío generalmente se clasifican en dos categorías principales: deposición física de vapor (PVD) y recubrimiento químico...Leer más -
De antenas de PCB a estructuras de guía de ondas: por qué las antenas de radar de ondas milimétricas están recurriendo a la metalización.
En la última década, el radar de ondas milimétricas (mmWave) ha evolucionado de ser un sensor especializado en algunos vehículos de alta gama a convertirse en una infraestructura perceptiva fundamental en los vehículos inteligentes. Desde el control de crucero adaptativo (ACC) y el frenado automático de emergencia (AEB) hasta la navegación a alta velocidad, cada vez más extendida...Leer más -
Zhenhua Vacuum: Tecnología de pulverización catódica de plata al vacío, un avance para la reducción de costes y la mejora de la eficiencia.
En el sector de la fabricación de productos electrónicos, la conductividad y la fiabilidad de los condensadores y resistencias cerámicas son factores determinantes de la vida útil del producto. Tradicionalmente, la industria ha recurrido a la galvanoplastia de plata o a la serigrafía con pasta de plata para crear una capa de plata de 20 μm de espesor, lo que garantiza...Leer más -
Mejora del rendimiento de las microperforaciones para la fabricación avanzada de PCB con tecnología de recubrimiento al vacío de alto rendimiento.
A medida que la industria de PCB continúa su evolución hacia la interconexión de alta densidad (HDI), los sustratos de circuitos integrados y las tecnologías de empaquetado avanzadas, la microbroca se ha convertido en una herramienta de procesamiento fundamental cuya precisión, durabilidad y estabilidad afectan directamente la eficiencia de la producción y la calidad del producto.Leer más -
La importancia de la conmutación multiobjetivo en el control de la composición de películas delgadas
En los procesos avanzados de recubrimiento al vacío, el control preciso de la composición de la película delgada es esencial para lograr las propiedades ópticas, mecánicas y funcionales deseadas. La conmutación de múltiples objetivos, una técnica ampliamente aplicada en sistemas de PVD, pulverización catódica por magnetrón y deposición asistida por iones, desempeña un papel fundamental...Leer más -
Problemas de estabilidad de los equipos de recubrimiento al vacío en la producción continua
La producción continua en entornos de recubrimiento al vacío presenta desafíos únicos que afectan directamente la estabilidad del equipo, la repetibilidad del proceso y la calidad de la película delgada. En líneas de PVD, pulverización catódica por magnetrón, ALD o PECVD de alto rendimiento, mantener parámetros de deposición consistentes durante un funcionamiento prolongado...Leer más -
¿Está fallando su microtaladro en placas de circuitos impresos y sustratos de circuitos integrados de alta frecuencia 5G?
Prefacio: De las interconexiones a los desafíos a nivel micrométrico. Con el rápido avance de las comunicaciones 5G, los servidores de IA y las tecnologías de empaquetado avanzadas, la fabricación de PCB (placas de circuito impreso) ha evolucionado hacia una plataforma de alta densidad basada en microvías. La adopción de placas HDI, PCB multicapa,...Leer más -
Diferencias de equipo entre recubrimientos de alta y baja reflectividad en la deposición al vacío
En las tecnologías de recubrimiento al vacío, las películas delgadas de alta reflectividad (HR) y baja reflectividad (AR) presentan desafíos y requisitos distintos que influyen directamente en el diseño de los equipos, el control de procesos y las estrategias de deposición. Si bien ambos tipos de recubrimientos dependen de un control preciso del espesor de la película, la estequiometría...Leer más -
El impacto de los gases residuales en las propiedades de las películas delgadas en los procesos de recubrimiento al vacío.
En las tecnologías de recubrimiento al vacío, la presencia de gases residuales dentro de la cámara de deposición puede influir significativamente en las propiedades estructurales, ópticas y mecánicas de las películas delgadas. Ya sea en los procesos PVD, pulverización catódica por magnetrón, ALD o PECVD, las especies de gases residuales, incluyendo vapor de agua, oxígeno...Leer más -
Mantenimiento del funcionamiento estable de los equipos de recubrimiento al vacío en condiciones de alta carga.
En la producción moderna de recubrimientos al vacío, las condiciones operativas de alta carga presentan desafíos significativos para la estabilidad y consistencia de la deposición de películas delgadas. A medida que aumentan las demandas de alto rendimiento, grandes tamaños de sustrato y recubrimientos complejos multicapa, los sistemas de recubrimiento al vacío, ya sean PVD, magnéticos, etc., se ven obligados a someterse a cambios.Leer más -
El papel determinante de la composición del material objetivo en el rendimiento óptico de las películas delgadas
En las tecnologías modernas de recubrimiento al vacío, el rendimiento óptico de las películas delgadas está intrínsecamente ligado a la composición y calidad del material objetivo utilizado en los procesos de deposición. Ya sea en PVD, pulverización catódica por magnetrón o sistemas avanzados de ALD y PECVD, el objetivo sirve como elemento fundamental...Leer más -
El impacto del bombeo a alta velocidad en la pureza de las películas delgadas
En la deposición física de vapor (PVD) y los procesos de recubrimiento al vacío relacionados, la pureza de la película a menudo se asocia de forma simplista con la pureza intrínseca de los materiales objetivo o de origen. Sin embargo, en la producción práctica, la pureza final de una película depositada no solo está determinada por la composición del material, sino también por...Leer más -
Relación entre la tasa de deposición y la calidad de la película
En los procesos de recubrimiento al vacío, la velocidad de deposición es uno de los parámetros clave que determinan tanto la eficiencia de la producción como las propiedades de la película. Sin embargo, velocidades de deposición excesivamente altas o bajas pueden afectar directamente la calidad de la película, influyendo así en su rendimiento óptico, eléctrico y mecánico.Leer más
