CFM1916

(1) Стійка для заготовок має циліндричну конструкцію з великою площею покриття. Вантажопідйомність продукту вдвічі більша, ніж у електронно-променевого випарного обладнання аналогічної специфікації. Стійка для заготовок має конструкцію обертання та обертання, що дозволяє їй адаптуватися до заготовок різної форми та використовується ширше.
(2) Завдяки використанню системи магнетронного циліндричного розпилення середньої частоти та допоміжної системи іонного джерела, плівка покриття є компактною, має високий та стабільний показник заломлення, міцну адгезію та нелегко адсорбує молекули водяної пари. У різних середовищах плівка зберігає стабільніші оптичні характеристики, ніж плівка, нанесена традиційним обладнанням для електронно-променевого випаровування.
(3) Оснащений системою моніторингу кристалічного контролю для точного контролю товщини плівки, процес має високу стабільність та хорошу повторюваність. Замкнута система автоматичного керування SPEEDFLO може ефективно покращити швидкість осадження SiO2.
(4) Конструкція термостатичного приладу може ефективно контролювати температуру продукту та адаптуватися до надтонких виробів з ПЕТ та ПК.