Гуандун Чжэнхуа Технология ОООга рәхим итегез.
single_banner

Алмаз нечкә фильмнар технологиясе-1 бүлек

Мәкалә чыганагы: Чжэнхуа вакуум
Уку: 10
Басылган: 24-06-19

Кайнар филамент CVD - түбән басымда бриллиантны үстерүнең иң популяр ысулы. 1982 Мацумото һ.б. 2000 ° C-тан артык металл филаментны җылыттылар, бу температурада филамент аша узучы H2 газы водород атомнарын тиз чыгара. Углеводород пиролизы вакытында атом водородын җитештерү бриллиант пленкаларның чүпләнү тизлеген арттырды. Алмаз сайлап алынган һәм графит формалашуы тыелган, нәтиҗәдә бриллиант пленка мм / с тәртибе буенча, бу тармакта еш кулланыла торган ысуллар өчен бик югары. HFCVD метан, пропан, ацетилен һәм башка углеводородлар кебек углерод чыганакларын кулланып башкарылырга мөмкин, һәм хәтта кислородлы углеводородлар, мәсәлән, ацетон, этанол, метанол. Кислород булган төркемнәрнең кушылуы бриллиантны саклау өчен температура диапазонын киңәйтә.

新大图

Типик HFCVD системасына өстәп, HFCVD системасына берничә үзгәртү бар. Иң еш очрый торган DC плазмасы һәм HFCVD системасы. Бу системада субстратка һәм филаментка икеләтә көчәнеш кулланылырга мөмкин. Субстратка даими уңай караш һәм филаменттагы билгеле тискәре тискәре күренеш электроннарның субстратны бомбардировать итүенә китерә, өслек водородын дезорбизацияләргә мөмкинлек бирә. Дезорпция нәтиҗәсе - алмаз пленкасының чүпләнү тизлеген арттыру (якынча 10 мм / сәг), электрон ярдәмче HFCVD дип аталган техника. тотрыклы көчәнеш тотрыклы плазма агызуны булдырыр өчен җитәрлек булганда, H2 һәм углеводородларның бозылуы кискен арта, ахыр чиктә үсеш темпларының үсүенә китерә. Ике якның полярлыгы кире кайткач (субстрат тискәре мөнәсәбәттә), ион бомбардирасы субстратта була, бу алмаз булмаган субстратларда бриллиант нуклеяциясенең артуына китерә. Тагын бер модификация - бердәм кайнар филаментны берничә төрле филамент белән алыштыру, бердәм чүплеккә ирешү һәм ахыр чиктә бриллиант пленкасының зур мәйданы. HFCVD-ның җитешсезлеге - филаментның җылылык парга әйләнүе алмаз пленкасында пычраткыч матдәләр барлыкка китерергә мөмкин.

(2) Микродулкынлы плазма CVD (MWCVD)

1970-нче елларда галимнәр атом водородының концентрациясен DC плазмасы ярдәмендә арттырырга мөмкинлеген ачыкладылар. Нәтиҗәдә, плазма H2 атом водородына бүленеп һәм углерод нигезендәге атом төркемнәрен активлаштырып, бриллиант пленкалар формалаштыруның тагын бер ысулы булды. DC плазмасына өстәп, тагын ике төр плазма да игътибарга лаек. Микродулкынлы плазмалы CVD дулкынлану ешлыгы 2,45 ГГц, һәм RF плазмалы CVD дулкынлану ешлыгы 13,56 МГц. микродулкынлы плазмалар уникаль, чөнки микродулкынлы ешлык электрон тибрәнүләргә китерә. Электроннар газ атомнары яки молекулалар белән бәрелешкәндә, югары аерылу дәрәҗәсе барлыкка килә. Микродулкынлы плазма еш "кайнар" электрон, "салкын" ион һәм нейтраль кисәкчәләр белән матдә дип атала. Нечкә пленка чүпләү вакытында микродулкыннар плазманы көчәйтелгән CVD синтез камерасына тәрәзә аша керәләр. Люминесцент плазма гадәттә сферик формада, һәм микродулкынлы көче белән сфераның зурлыгы арта. Алмаз нечкә пленкалар люминесцент өлкәсенең почмагында субстратта үстерелә, һәм субстрат люминесцент өлкәсе белән туры элемтәдә булырга тиеш түгел.

IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа


Пост вакыты: 19-2024 июнь