Tekonolosi o ata manifinifi taimane-mataupu 1

O le CVD o le filament vevela o le auala muamua ma sili ona lauiloa o le totoina o taimane i le mamafa maualalo. 1982 Na fa'avevela e Matsumoto ma isi se filament u'amea e le ma'alili i le silia ma le 2000°C, ma i le vevela lea e faigofie ai ona maua e le kesi H2 e ui atu i le filament ni atomu hydrogen. O le gaosiga o le hydrogen atomic i le taimi o le pyrolysis o le hydrocarbon na fa'ateleina ai le fua faatatau o le teuina o ata tifaga taimane. E teuina fa'apitoa le taimane ma taofia ai le fausiaina o le graphite, ma i'u ai i le fua faatatau o le teuina o ata tifaga taimane i le mm/h, o se fua faatatau maualuga tele mo metotia e masani ona fa'aaogaina i pisinisi. E mafai ona faia le HFCVD e fa'aaoga ai le tele o punaoa o le carbon, e pei o le methane, propane, acetylene, ma isi hydrocarbons, ma e o'o lava i nisi hydrocarbons e iai le okesene, e pei o le acetone, ethanol, ma le methanol. O le fa'aopoopoina o vaega e iai le okesene e fa'alauteleina ai le vevela mo le teuina o taimane.

I le fa’aopoopoga i le faiga masani a le HFCVD, e tele fo’i suiga i le faiga HFCVD. O le faiga e sili ona taatele o le tu’ufa’atasia lea o le faiga DC plasma ma le HFCVD. I totonu o lenei faiga, e mafai ona fa’aogaina se voltage fa’aitu’au i le substrate ma le filament. O se fa’aitu’au lelei faifai pea i luga o le substrate ma se fa’aitu’au leaga i luga o le filament e mafua ai ona osofa’ia e electrons le substrate, ma fa’ataga ai le hydrogen i luga e fa’ate’a ese. O le i’uga o le fa’ate’aina o le fa’ateleina lea o le fua fa’atatau o le fa’aputuina o le ata taimane (pe tusa ma le 10 mm/h), o se metotia e ta’ua o le electron-assisted HFCVD. A lava le maualuga o le voltage fa’aitu’au e fausia ai se plasma discharge mautu, e fa’ateleina tele le fa’aleagaina o le H2 ma hydrocarbons, lea e iu ai ina fa’ateleina le fua fa’atatau o le tuputupu a’e. A suia le polarity o le fa’aitu’au (ua fa’ate’aina leaga le substrate), e tupu le osofa’ia o le ion i luga o le substrate, e mafua ai ona fa’ateleina le nucleation taimane i luga o substrates e le o taimane. O le isi suiga o le suia lea o se filament vevela e tasi i ni filament eseese ina ia maua ai le fa'aputuga tutusa ma iu ai ina maua ai se vaega tele o le ata taimane. O le le lelei o le HFCVD o le fa'avevela o le filament e mafai ona fa'atupuina ai ni mea leaga i totonu o le ata taimane.

(2) CVD o le Microwave Plasma (MWCVD)

I le vaitau o le 1970, na iloa ai e saienitisi e mafai ona faʻateleina le tele o le haitorosene atomika e faʻaaoga ai le plasma DC. O le iʻuga, na avea ai le plasma ma se isi metotia e faʻalauiloa ai le fausiaina o ata tifaga taimane e ala i le faʻaleagaina o le H2 i le haitorosene atomika ma le faʻagaoioia o vaega atomika e faʻavae i le kaponi. I le faʻaopoopoga i le plasma DC, e lua isi ituaiga plasma ua maua ai foʻi le gauai. O le plasma microwave CVD e 2.45 GHZ le televave o le faʻaosofia, ma le plasma RF CVD e 13.56 MHz le televave o le faʻaosofia. E tulaga ese plasma microwave ona o le televave o le microwave e faʻaosofia ai le gatete o eletise. A fetoʻai eletise ma atomu kesi poʻo molelaʻau, e maua ai se fua faatatau maualuga o le faʻaseseina. E masani ona taʻua le plasma microwave o mea ma eletise "vevela", ion "malulu" ma vaega e le faʻaituau. I le taimi o le teuina o ata tifaga manifinifi, e ulufale atu microwave i le potu faʻaputu CVD ua faʻaleleia e le plasma e ala i se faʻamalama. O le plasma luminescent e masani ona foliga faʻatafafā, ma e faʻateleina le tele o le sphere i le malosi o le microwave. E totōina ata manifinifi o taimane i luga o se mea fa'apipi'i i le tulimanu o le vaega e pupula, ma e le mana'omia ona fa'afeso'ota'i tuusa'o le mea fa'apipi'i ma le vaega e pupula.

–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua