CFM1916

(1) Suportul pentru piese de prelucrat adoptă un design cilindric, cu o suprafață mare de acoperire. Capacitatea de încărcare a produsului este dublă față de cea a echipamentului de evaporare cu fascicul de electroni cu aceleași specificații. Suportul pentru piese de prelucrat este proiectat cu o structură de revoluție și rotație, care se poate adapta la piese de prelucrat de diferite forme și este utilizat pe scară largă.
(2) Folosind sistemul de pulverizare cu țintă cilindrică cu magnetron de medie frecvență și sistemul auxiliar cu sursă de ioni, pelicula de acoperire este compactă, cu un indice de refracție ridicat și stabil, o aderență puternică și nu adsorbe ușor moleculele de vapori de apă. În diverse medii, pelicula menține performanțe optice mai stabile decât pelicula depusă de echipamentul tradițional de evaporare cu fascicul de electroni.
(3) Echipat cu un sistem de monitorizare a controlului cristalului pentru a controla cu precizie grosimea peliculei, procesul are o stabilitate ridicată și o repetabilitate bună. Sistemul de control automat și în buclă închisă SPEEDFLO poate îmbunătăți eficient rata de depunere a SiO2.
(4) Designul dispozitivului termostatic poate controla eficient temperatura produsului și se poate adapta la produse PET și PC ultra-subțiri.