CFM1916

(1) Arbeidsstykkestativet har en sylindrisk design med et stort beleggareal. Produktets lastekapasitet er dobbelt så høy som elektronstrålefordampningsutstyr med samme spesifikasjon. Arbeidsstykkestativet er designet med en rotasjons- og omdreiningstruktur, som kan tilpasses arbeidsstykker i forskjellige former og er mer utbredt.
(2) Ved bruk av det sylindriske målsputteringssystemet med mediumfrekvensmagnetron og hjelpesystemet for ionkilder, er beleggfilmen kompakt, med høy og stabil brytningsindeks, sterk vedheft og absorberer ikke lett vanndampmolekyler. I forskjellige miljøer opprettholder filmen mer stabil optisk ytelse enn filmen som er avsatt med tradisjonelt elektronstrålefordampningsutstyr.
(3) Prosessen er utstyrt med et krystallkontrollsystem for nøyaktig kontroll av filmtykkelsen, og har høy stabilitet og god repeterbarhet. SPEEDFLO lukket sløyfe og automatisk kontrollsystem kan effektivt forbedre avsetningshastigheten til SiO2.
(4) Den termostatiske armaturens design kan effektivt kontrollere produkttemperaturen, og kan tilpasses ultratynne PET- og PC-produkter.