Өндөр энергийн плазм нь полимер материалыг бөмбөгдөж, цацраг туяагаар цацаж, тэдгээрийн молекулын гинжийг тасалдуулж, идэвхтэй бүлгүүдийг үүсгэж, гадаргуугийн энергийг нэмэгдүүлж, сийлбэр үүсгэдэг. Плазмын гадаргуугийн боловсруулалт нь их хэмжээний материалын дотоод бүтэц, гүйцэтгэлд нөлөөлдөггүй, харин зөвхөн гадаргуугийн шинж чанарыг мэдэгдэхүйц өөрчилдөг.
Материалын өөрийнх нь шинж чанарыг гэмтээхгүйн тулд плазмын гадаргуугийн өөрчлөлтийн боловсруулалт нь ихэвчлэн өндөр чадлын нягтралтай плазмыг ашигладаггүй. Энэхүү боловсруулалт болон бусад плазмын боловсруулалтын хоорондох ялгаа нь:
1) Боловсруулсан гадаргуу руу ион эсвэл атом шахаж болохгүй (жишээлбэл, ион суулгах).
2) Том хэмжээтэй материалыг (жишээлбэл, цацах эсвэл сийлэх) бүү ав.
3) Гадаргуу дээр хэд хэдэн дан (атомын) давхаргаас илүү материал нэмж болохгүй (жишээлбэл, тунадасжилт).
Товчхондоо, плазмын гадаргуугийн боловсруулалт нь зөвхөн хамгийн цөөн тооны атомын давхаргыг хамардаг.
Плазмын гадаргуугийн өөрчлөлтийн процессын параметрүүдэд голчлон хийн даралт, цахилгаан орны давтамж, цэнэг алдалтын хүч, үйлчлэх хугацаа гэх мэт орно. Процессын параметрүүдийг тохируулахад хялбар байдаг. Плазмын өөрчлөлтийн процессын явцад олон идэвхтэй хэсгүүд хүрэлцсэн боловсруулсан гадаргуутайгаа урвалд орох хандлагатай байдаг бөгөөд материалын гадаргууг боловсруулахад ашиглаж болно. Уламжлалт аргуудтай харьцуулахад плазмын гадаргуугийн өөрчлөлт нь энгийн процесс, энгийн ажиллагаа, бага өртөг, бохирдолгүй, хаягдалгүй, аюулгүй үйлдвэрлэл, өндөр үр ашигтай зэрэг давуу талуудтай.
Нийтэлсэн цаг: 2023 оны 6-р сарын 7