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소식
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광학 코팅 기술: 향상된 시각 효과
오늘날처럼 빠르게 변화하는 세상에서 시각적 콘텐츠의 영향력은 매우 크기 때문에 광학 코팅 기술은 다양한 디스플레이의 품질을 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다. 스마트폰부터 TV 화면까지, 광학 코팅은 우리가 시각적 콘텐츠를 인식하고 경험하는 방식에 혁명을 일으켰습니다.더 읽어보세요 -
아크 방전 전원 공급 장치를 이용한 마그네트론 스퍼터링 코팅 강화
마그네트론 스퍼터링 코팅은 글로우 방전 방식으로 수행되며, 방전 전류 밀도가 낮고 코팅 챔버 내 플라즈마 밀도가 낮습니다. 이로 인해 마그네트론 스퍼터링 기술은 박막 기판 결합력 저하, 금속 이온화율 저하, 증착 속도 저하 등의 단점을 가지고 있습니다.더 읽어보세요 -
RF 방전 활용
1. 스퍼터링 및 절연막 도금에 효과적입니다. 전극 극성의 빠른 변화를 이용하여 절연 타겟을 직접 스퍼터링하여 절연막을 형성할 수 있습니다. DC 전원을 사용하여 스퍼터링하고 절연막을 증착하면 절연막이 양이온의 유입을 차단합니다.더 읽어보세요 -
진공증착코팅의 기술적 특성
1. 진공 증착 코팅 공정은 박막 재료의 증발, 고진공 상태에서의 증기 원자의 이동, 그리고 작업물 표면에서 증기 원자의 핵 생성 및 성장 과정을 포함합니다. 2. 진공 증착 코팅의 증착 진공도는 높고, 생성...더 읽어보세요 -
경질 코팅의 종류
TiN은 절삭 공구에 사용된 최초의 경질 코팅으로, 고강도, 고경도, 내마모성 등의 장점을 가지고 있습니다. 최초로 산업화되어 널리 사용되는 경질 코팅재로, 코팅 공구와 코팅 금형에 널리 사용됩니다. TiN 경질 코팅은 1000℃에서 처음 증착되었습니다.더 읽어보세요 -
플라즈마 표면 개질의 특성
고에너지 플라즈마는 고분자 재료에 충격을 가하고 조사하여 분자 사슬을 절단하고, 활성기를 형성하고, 표면 에너지를 증가시키고, 에칭을 발생시킬 수 있습니다. 플라즈마 표면 처리는 벌크 재료의 내부 구조와 성능에는 영향을 미치지 않지만, 상당한 영향을 미칩니다.더 읽어보세요 -
소형 아크 소스 이온 코팅 공정
음극 아크 소스 이온 코팅의 공정은 기본적으로 다른 코팅 기술과 동일하며, 작업물 설치 및 진공 청소와 같은 일부 작업은 더 이상 반복되지 않습니다. 1. 작업물의 폭격 세척 코팅하기 전에 아르곤 가스를 코팅 챔버에 주입합니다...더 읽어보세요 -
아크 전자 흐름의 특성 및 생성 방법
1. 아크 광 전자 흐름의 특성 아크 방전에 의해 생성된 아크 플라즈마는 글로우 방전보다 전자 흐름, 이온 흐름, 그리고 고에너지 중성 원자의 밀도가 훨씬 높습니다. 더 많은 가스 이온과 금속 이온이 이온화되고, 여기된 고에너지 원자, 그리고 다양한 활성 입자들이 존재합니다.더 읽어보세요 -
플라즈마 표면 개질의 응용 분야
1) 플라즈마 표면 개질은 주로 종이, 유기 필름, 직물, 화학 섬유 등의 특정 표면 개질을 의미합니다. 플라즈마를 이용한 직물 개질은 활성제를 사용할 필요가 없으며, 처리 과정에서 섬유 자체의 특성이 손상되지 않습니다.더 읽어보세요 -
광학 박막 분야에서 이온 코팅의 응용
광학 박막의 적용 분야는 매우 광범위하여 안경, 카메라 렌즈, 휴대전화 카메라, 휴대전화, 컴퓨터, 텔레비전용 LCD 화면, LED 조명, 생체 인식 장치에서 자동차와 건물의 에너지 절약형 창문, 의료 기기에 이르기까지 다양합니다.더 읽어보세요 -
정보 표시 필름 및 이온 코팅 기술
1. 정보 디스플레이용 필름 종류 정보 디스플레이는 TFT-LCD 및 OLED 박막 필름 외에도 디스플레이 패널 내부에 배선 전극 필름과 투명 픽셀 전극 필름을 포함합니다. 코팅 공정은 TFT-LCD 및 OLED 디스플레이의 핵심 공정입니다. 지속적인 공정을 통해...더 읽어보세요 -
진공증착코팅막층의 성장법칙
증발 코팅 동안, 필름 층의 핵 생성 및 성장은 다양한 이온 코팅 기술의 기초입니다. 1. 핵 생성 진공 증발 코팅 기술에서 필름 층 입자는 원자 형태로 증발원에서 증발한 후, w로 직접 날아갑니다...더 읽어보세요 -
향상된 글로우 방전 이온 코팅 기술의 공통적인 특징
1. 작업물 바이어스가 낮음 이온화율을 높이는 장치를 추가하여 방전 전류 밀도가 증가하고 바이어스 전압이 0.5~1kV로 낮아졌습니다. 고에너지 이온의 과도한 충격으로 인한 백스퍼터링과 작업물 표면 손상이 발생하여...더 읽어보세요 -
원통형 타겟의 장점
1) 원통형 타겟은 평면형 타겟보다 활용도가 높습니다. 코팅 공정에서 회전 자기식이든 회전 튜브형 원통형 스퍼터링 타겟이든, 타겟 튜브 표면의 모든 부분이 타겟 튜브 앞에 형성된 스퍼터링 영역을 지속적으로 통과합니다.더 읽어보세요 -
플라즈마 직접 중합 공정
플라즈마 직접 중합 공정 플라즈마 중합 공정은 내부 전극 중합 장비와 외부 전극 중합 장비 모두에서 비교적 간단하지만, 플라즈마 중합에서는 매개변수 선택이 더 중요합니다. 매개변수가 더 큰 영향을 미치기 때문입니다.더 읽어보세요
