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  • Nichtleitende Vakuumbeschichtungsanlage

    Die nichtleitende Vakuumbeschichtungsanlage ist ein hochmodernes Gerät, das mithilfe von Vakuumbeschichtungstechnologie Beschichtungen auf verschiedene Oberflächen aufbringt. Im Gegensatz zu herkömmlichen Beschichtungsverfahren arbeitet die Anlage in einer kontrollierten Umgebung und erzeugt ein Vakuum, um eine gleichmäßige und makellose Beschichtung zu gewährleisten.
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  • Zylindrisches Magnetron-Sputtern: Fortschritte bei der Dünnschichtabscheidung

    Im Bereich der Dünnschichtabscheidungstechnologie hat sich das zylindrische Magnetron-Sputtern als effiziente und vielseitige Methode etabliert. Diese innovative Technologie ermöglicht es Forschern und Fachleuten aus der Industrie, Dünnschichten mit außergewöhnlicher Präzision und Gleichmäßigkeit abzuscheiden.
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  • Goldfarbene Sputter-Vakuumbeschichtungsanlage

    Gold-Sputteranlagen haben sich zu einer führenden Technologie entwickelt und die Art und Weise, wie wir dünne Goldschichten auf verschiedene Oberflächen aufbringen, revolutioniert. Dank ihrer außergewöhnlichen Leistung und Präzision haben diese Maschinen in Branchen von der Elektronik bis zur Optik neue Maßstäbe gesetzt. In diesem Artikel…
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  • Mini-PVD-Beschichtungsanlage

    In den letzten Jahren hat die Oberflächenbehandlungsindustrie dank der Einführung von Mini-PVD-Beschichtungsanlagen bedeutende Fortschritte erzielt. Diese innovative Technologie revolutioniert die Oberflächenveredelung und bietet beispiellose Effizienz und Präzision. In diesem Blogbeitrag gehen wir näher darauf ein…
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  • Hersteller optischer Maschinen

    Da sich die Technologie in beispiellosem Tempo weiterentwickelt, hat die optische Industrie dank der Innovationen und Durchbrüche führender Hersteller optischer Maschinen einen bemerkenswerten Wandel erlebt. Diese Unternehmen, ausgestattet mit modernsten Technologien und einem starken Engagement für...
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  • Koaxiale elektromagnetische Feldionenbeschichtungsanlage

    Koaxiale elektromagnetische Feldionenbeschichtungsanlage

    1. Hohlkathoden-Ionenbeschichtungsanlage und Heißdraht-Lichtbogen-Ionenbeschichtungsanlage: Die Hohlkathodenkanone und die Heißdraht-Lichtbogenkanone sind oben in der Beschichtungskammer installiert, die Anode unten und zwei elektromagnetische Spulen oben und unten in der Beschichtungskammer.
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  • Ionenstrahlzerstäubungsbeschichtung und Ionenstrahlätzen

    Ionenstrahlzerstäubungsbeschichtung und Ionenstrahlätzen

    1. Ionenstrahlzerstäubung: Die Oberfläche des Materials wird mit einem Ionenstrahl mittlerer Energie beschossen. Die Energie der Ionen dringt nicht in das Kristallgitter des Materials ein, sondern wird auf die Atome des Targets übertragen, wodurch diese von der Materialoberfläche abgesputtert werden.
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  • Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsanlage

    Im Bereich der fortschrittlichen Oberflächenbeschichtungstechnologie sticht ein Name besonders hervor: die Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsanlage. Diese hochmoderne Anlage revolutioniert die Branche durch zuverlässige und effiziente Oberflächenbeschichtungslösungen. Von der Elektronik über die Automobilindustrie bis hin zur Luft- und Raumfahrt...
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  • Beschichtungsanlage für optische Verbundfolien

    In den letzten Jahren haben optische Verbundfolien aufgrund ihrer beeindruckenden Eigenschaften und vielfältigen Anwendungsmöglichkeiten in verschiedenen Branchen stark an Popularität gewonnen. Ein Schlüsselfaktor für die hohe Qualität dieser Folien ist das fortschrittliche Beschichtungsverfahren, das zu ihrer Herstellung eingesetzt wird. Heute sprechen wir darüber…
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  • Beschichtungstechnologie in Kalzitonit-Solarzellen

    Beschichtungstechnologie in Kalzitonit-Solarzellen

    Als 2009 die ersten Calcit-Dünnschichtzellen auf den Markt kamen, lag der Wirkungsgrad bei lediglich 3,8 % und stieg rasant an. Bis 2018 überstieg der Wirkungsgrad im Labormaßstab 23 %. Die Grundformel einer Chalkogenidverbindung lautet ABX₃, wobei die Position A üblicherweise ein Metallion wie Cs⁺ ist.
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  • Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung

    Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung

    Bei der metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD) wird metallorganisches Verbindungsgas als gasförmiges Ausgangsmaterial verwendet, und der grundlegende Reaktionsprozess der Abscheidung ähnelt dem der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD). 1. MOCVD-Rohgas: Als gasförmige Quelle für die MOCVD dient metallorganisches Verbindungsgas (MOC). Metallorganische Verbindungen sind stabil…
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  • Die Vakuum-Aluminium-Metallisierungsbeschichtungsanlage

    Die Vakuum-Aluminium-Metallbeschichtungsanlage (VAMCM) ist eine Spitzentechnologie, die mithilfe eines speziellen Vakuumverfahrens eine dünne Aluminiumschicht auf verschiedenste Materialien aufbringt. Die außergewöhnliche Präzision und Genauigkeit der Maschine gewährleistet gleichmäßige Metallbeschichtungen, die selbst auf anspruchsvollsten Oberflächen haften.
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  • Wir stellen die Vakuummetallisierungsanlage vor: Revolutionierung der Beschichtungsindustrie

    In den letzten Jahren hat die Beschichtungsindustrie mit der Einführung von Vakuummetallisierungsanlagen einen bemerkenswerten Fortschritt erlebt. Diese hochmodernen Maschinen haben die Art und Weise, wie Beschichtungen auf verschiedene Oberflächen aufgebracht werden, revolutioniert und bieten eine überlegene Oberflächenbeschaffenheit und Haltbarkeit wie nie zuvor.
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  • Anwendungen von diamantähnlichen Kohlenstofffilmen

    Anwendungen von diamantähnlichen Kohlenstofffilmen

    (1) DLC-Beschichtungen, die im Bereich der Schneidwerkzeuge (z. B. Bohrer, Fräser, Hartmetall-Wendeschneidplatten usw.) eingesetzt werden, verbessern die Werkzeugstandzeit und die Schneidkantenhärte, reduzieren die Nachschärfzeiten und zeichnen sich zudem durch einen sehr niedrigen Reibungskoeffizienten, geringe Adhäsion und hervorragende Verschleißfestigkeit aus. Daher sind DLC-beschichtete Werkzeuge...
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  • Beschichtungstechnologie in CdTe-Solarzellen

    Beschichtungstechnologie in CdTe-Solarzellen

    Dünnschichtsolarzellen zählen seit jeher zu den Forschungsschwerpunkten der Branche; einige Dünnschichtbatterietechnologien, darunter Cadmiumtellurid (CdTe)-Dünnschichtbatterien und Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CICS, Abkürzung Cu, In, Ga, Se), erreichen Wirkungsgrade von über 20 %.
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