1. ಬೇಡಿಕೆಯ ವಿಕಸನ: ಉನ್ನತ ಮಟ್ಟದ ಬುದ್ಧಿವಂತ ಚಾಲನೆಯು ಆಂಟೆನಾ ರಚನೆಗಳ ಮೇಲೆ ಹೊಸ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಇರಿಸುತ್ತದೆ
ಬುದ್ಧಿವಂತ ಚಾಲನೆಯು ಮುಂದುವರಿದ NOA ಕಡೆಗೆ ವಿಕಸನಗೊಳ್ಳುತ್ತಿದ್ದಂತೆ, ಮುಂದೆ ನೋಡುವ ದೀರ್ಘ-ಶ್ರೇಣಿಯ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ತರಂಗ ರಾಡಾರ್ ವ್ಯವಸ್ಥಿತ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ನವೀಕರಣಗಳಿಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಎದುರಿಸುತ್ತಿದೆ. ಪತ್ತೆ ವ್ಯಾಪ್ತಿ, ಕೋನೀಯ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಮತ್ತು ಸಿಗ್ನಲ್ ಸ್ಥಿರತೆಯಲ್ಲಿನ ಸುಧಾರಣೆಗಳು ಆಧಾರವಾಗಿರುವ ಆಂಟೆನಾ ರಚನೆಗಳ RF ಪ್ರಸರಣ ದಕ್ಷತೆಯ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೇಡಿಕೆಗಳನ್ನು ಇರಿಸುತ್ತಿವೆ.
ಮಾರುಕಟ್ಟೆಯ ಬೆಳವಣಿಗೆಯು ಈ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ವೇಗಗೊಳಿಸುತ್ತಿದೆ. ಜೋಸ್ ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ರಿಸರ್ಚ್‌ನ ಅಂಕಿಅಂಶಗಳ ಪ್ರಕಾರ, 4D ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್‌ನ ಅಳವಡಿಕೆ ಪ್ರಮಾಣವು 2024 ರಲ್ಲಿ 2.737 ಮಿಲಿಯನ್ ಯುನಿಟ್‌ಗಳನ್ನು ತಲುಪಿದೆ. ಈ ಅಂಕಿ ಅಂಶವು 2025 ರಲ್ಲಿ 11.06 ಮಿಲಿಯನ್ ಯುನಿಟ್‌ಗಳಿಗೆ ಏರುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ ಮತ್ತು 2030 ರ ವೇಳೆಗೆ 50 ಮಿಲಿಯನ್ ಯುನಿಟ್‌ಗಳನ್ನು ಮೀರುತ್ತದೆ. ಏತನ್ಮಧ್ಯೆ, 4D ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್‌ನ ನುಗ್ಗುವ ದರವು 2025 ರಲ್ಲಿ 26.0% ರಿಂದ 2030 ರಲ್ಲಿ 54.5% ಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಾಗುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ. ಮುಂದೆ ನೋಡುವ 4D ರಾಡಾರ್ ಮತ್ತು 4D ಕಾರ್ನರ್ ರಾಡಾರ್‌ನ ಅಳವಡಿಕೆ ಪಾಲು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಲೇ ಇರುವುದರಿಂದ, ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್ ಮೂಲಭೂತ ಸಂವೇದನಾ ಸಂರಚನೆಯಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿಖರತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆಯಿಂದ ನಿರೂಪಿಸಲ್ಪಟ್ಟ ಸಿಸ್ಟಮ್ ಅಪ್‌ಗ್ರೇಡ್ ಕಡೆಗೆ ಚಲಿಸುತ್ತಿದೆ.
77 GHz ಆವರ್ತನ ಬ್ಯಾಂಡ್‌ನಲ್ಲಿ, ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ PCB ಮೈಕ್ರೋಸ್ಟ್ರಿಪ್ ಪ್ಯಾಚ್ ಆಂಟೆನಾಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ನಷ್ಟ ಮತ್ತು ನಿರ್ಬಂಧಿತ ವಿಕಿರಣ ದಕ್ಷತೆಯಂತಹ ಭೌತಿಕ ಮಿತಿಗಳನ್ನು ಎದುರಿಸುತ್ತವೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ 300-ಮೀಟರ್-ಮಟ್ಟದ ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಲಾಂಗ್-ರೇಂಜ್ ಪತ್ತೆ ಮತ್ತು 4D ಇಮೇಜಿಂಗ್‌ನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಪೂರೈಸುವುದು ಕಷ್ಟಕರವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಹಿನ್ನೆಲೆಯಲ್ಲಿ, ಕಡಿಮೆ-ನಷ್ಟ, ಹೆಚ್ಚಿನ-ಗಳಿಕೆಯ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳು ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಿನ-ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ರಾಡಾರ್‌ಗೆ ಪ್ರಮುಖ ಆಯ್ಕೆಯಾಗುತ್ತಿವೆ.
ಪ್ರಸ್ತುತ, ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಲೋಹದ ವೇವ್‌ಗೈಡ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್‌ಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಮೆಟಲ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್‌ಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಯಂತ್ರೋಪಕರಣ ವೆಚ್ಚ ಮತ್ತು ಭಾರವಾದ ತೂಕವನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತವೆ, ಇದು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಸಾಮೂಹಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಅಡಚಣೆಗಳನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸುತ್ತದೆ. ಇಂಜೆಕ್ಷನ್-ಮೋಲ್ಡ್ 3D ಕುಳಿಗಳನ್ನು PVD ವಾಹಕ ಫಿಲ್ಮ್ ಶೇಖರಣೆಯೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸುವ ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್‌ಗಳು, ಹಗುರವಾದ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ಸ್ಥಿರತೆಯಲ್ಲಿ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಉದ್ಯಮ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯ ಪ್ರಮುಖ ನಿರ್ದೇಶನವಾಗುತ್ತಿವೆ.
ಆದಾಗ್ಯೂ, ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಅನುಕೂಲಗಳು ಸಾಮೂಹಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಪರಿಪಕ್ವತೆಯನ್ನು ಅರ್ಥೈಸುವುದಿಲ್ಲ. ವಿನ್ಯಾಸ ರೇಖಾಚಿತ್ರಗಳಿಂದ ಹಿಡಿದು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಆಟೋಮೋಟಿವ್-ದರ್ಜೆಯ ಉತ್ಪಾದನೆಯವರೆಗೆ, ಲೋಹೀಕರಿಸಿದ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತರಂಗ ಮಾರ್ಗದರ್ಶಿಗಳು ಇನ್ನೂ ವಸ್ತುಗಳು, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಉಪಕರಣಗಳಲ್ಲಿನ ಬಹು ಅಡೆತಡೆಗಳನ್ನು ನಿವಾರಿಸಬೇಕಾಗಿದೆ.
2. ವಿನ್ಯಾಸದ ಅನುಕೂಲಗಳಿಂದ ಹಿಡಿದು ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಸ್ಥಿರತೆಯವರೆಗೆ: ಲೋಹೀಕೃತ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತರಂಗ ಮಾರ್ಗದರ್ಶಕರು ಇನ್ನೂ ಇಳುವರಿ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಎದುರಿಸುತ್ತಾರೆ.
ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಹಂತದಲ್ಲಿ, ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳು ರಚನಾತ್ಮಕ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅತ್ಯುತ್ತಮೀಕರಣದ ಮೂಲಕ ಬಲವಾದ RF ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಅವು ಬ್ಯಾಚ್ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸಿದ ನಂತರ, ಇಳುವರಿ ಸ್ಥಿರತೆಯು ಯೋಜನೆಯ ಅನುಷ್ಠಾನದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಪ್ರಮುಖ ಸಮಸ್ಯೆಯಾಗುತ್ತದೆ.
ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ತರಂಗ ಮಾರ್ಗದರ್ಶಿ ರಚನೆಗಳಿಗೆ, ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಮೋಲ್ಡಿಂಗ್ ನಿಖರತೆ, ವಸ್ತು ಸ್ಥಿರತೆ, ಮೇಲ್ಮೈ ಸ್ಥಿತಿ, ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪೂರ್ವ-ಚಿಕಿತ್ಸೆ, ಫಿಕ್ಸ್ಚರ್ ಸ್ಥಾನೀಕರಣ ಮತ್ತು PVD ಲೋಹೀಕರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಎಲ್ಲವೂ ಅಂತಿಮ ಫಲಿತಾಂಶದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಈ ಹಂತಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದರಲ್ಲಿನ ಯಾವುದೇ ಏರಿಳಿತವು ಫಿಲ್ಮ್ ಸ್ಥಗಿತ, ಸಾಕಷ್ಟು ಸ್ಥಳೀಯ ವಾಹಕತೆ, ಕಡಿಮೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಸ್ವಲ್ಪ ರಚನಾತ್ಮಕ ವಿರೂಪಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಅಂತಿಮವಾಗಿ S-ಪ್ಯಾರಾಮೀಟರ್‌ಗಳು, ಅಳವಡಿಕೆ ನಷ್ಟ ಮತ್ತು ಲಾಭದಂತಹ RF ಸೂಚಕಗಳ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.
ಕೆಲವು ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನಾತ್ಮಕ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಪರಿಚಯದ ಹಂತದಲ್ಲಿ, ಲೋಹೀಕರಣದ ಮೊದಲ-ಪಾಸ್ ಇಳುವರಿ ಇನ್ನೂ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಏರಿಳಿತಗೊಳ್ಳಬಹುದು. ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ ಇಳುವರಿ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ ಮುಂದುವರಿದರೆ, ಇದರರ್ಥ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್-ಮೋಲ್ಡ್ ಭಾಗಗಳನ್ನು ಸ್ಕ್ರ್ಯಾಪ್ ಮಾಡುವುದು ಮಾತ್ರವಲ್ಲ, ಗುರಿ ವಸ್ತು ಬಳಕೆ, ಉಪಕರಣಗಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಸಮಯ, ಕಾರ್ಮಿಕ ವೆಚ್ಚಗಳು ಮತ್ತು ತಪಾಸಣೆ ವೆಚ್ಚಗಳಲ್ಲಿ ನಿರಂತರ ಹೆಚ್ಚಳ. ಆಂಟೆನಾ ತಯಾರಕರು ಮತ್ತು ಹಾರ್ಡ್‌ವೇರ್ OEM ಗಳಿಗೆ, ನಿಜವಾದ ಸವಾಲು ಉತ್ಪನ್ನವನ್ನು ಲೇಪಿಸಬಹುದೇ ಎಂಬುದು ಮಾತ್ರವಲ್ಲ, ನಿರಂತರ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರ, ಪುನರಾವರ್ತನೀಯ ಮತ್ತು ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದೇ ಎಂಬುದು.
ಇದರರ್ಥ ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳಿಗೆ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಸ್ಪರ್ಧೆಯು ಅಂತಿಮವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸ ಭಾಗದಿಂದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಭಾಗಕ್ಕೆ ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತದೆ. ಸಂಕೀರ್ಣ-ರಚನೆ ಲೋಹೀಕರಣ, ಉಷ್ಣ ವಿರೂಪ ನಿಯಂತ್ರಣ ಮತ್ತು ಬ್ಯಾಚ್ ಸ್ಥಿರತೆಗಾಗಿ ಸ್ಥಿರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಿಂಡೋವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಬಹುದಾದ ಕಂಪನಿಗಳು ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್‌ನ ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಸರಪಳಿಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಉತ್ತಮ ಸ್ಥಾನದಲ್ಲಿರುತ್ತವೆ.
3. ಇಳುವರಿ ಏರಿಳಿತದ ಪ್ರಮುಖ ಕಾರಣ: ಸಂಕೀರ್ಣ 3D ರಚನೆಗಳು PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೇಡಿಕೆಗಳನ್ನು ಇಡುತ್ತವೆ.
ಫ್ಲಾಟ್ ಸಬ್‌ಸ್ಟ್ರೇಟ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿ, ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್‌ಗಾಗಿ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು, ಕಿರಿದಾದ ಸ್ಲಾಟ್‌ಗಳು, ಕುರುಡು ರಂಧ್ರಗಳು, ಪಕ್ಕದ ಗೋಡೆಗಳು ಮತ್ತು ಬಹು-ಪದರದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಕುಹರದ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತವೆ. ಈ ರಚನೆಗಳು PVD ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ವಿಧಿಸುತ್ತವೆ, ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಎರಡು ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ.
3.1 ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯ ತೊಂದರೆ: ಸಾಕಷ್ಟು ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವು ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು ಮತ್ತು ಪಕ್ಕದ ಗೋಡೆಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು.
PVD ಶೇಖರಣೆಯು ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮಟ್ಟದ ದಿಕ್ಕನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ತರಂಗ ಮಾರ್ಗದರ್ಶಿ ರಚನೆಗಳೊಂದಿಗೆ ವ್ಯವಹರಿಸುವಾಗ, ಗುರಿ ಮೂಲ ವಿನ್ಯಾಸ, ಅಯಾನು ಸಹಾಯ, ಫಿಕ್ಸ್ಚರ್ ಚಲನೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಿಯತಾಂಕ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಸಾಕಷ್ಟಿಲ್ಲದಿದ್ದರೆ, ತೆರೆಯುವಿಕೆಗಳು ಅಥವಾ ಅಂಚಿನ ಪ್ರದೇಶಗಳ ಸುತ್ತಲೂ ದಪ್ಪವಾದ ಶೇಖರಣೆ ಸಂಭವಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು, ಒಳ ಗೋಡೆಗಳು ಮತ್ತು ಪಕ್ಕದ ಗೋಡೆಗಳ ಕೆಳಭಾಗವು ತೆಳುವಾದ ಲೇಪನ ಅಥವಾ ಸಾಕಷ್ಟು ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಿಂದ ಬಳಲುತ್ತಬಹುದು.
77 GHz ನಿಂದ 79 GHz ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ತರಂಗ ಸಂಕೇತಗಳಿಗೆ, ಲೋಹದ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ನಿರಂತರತೆ ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆಯು RF ಪ್ರಸರಣ ದಕ್ಷತೆಯ ಮೇಲೆ ನೇರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಗಳ ಒಳಗೆ ಸ್ಥಳೀಯ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವು ಸಾಕಷ್ಟಿಲ್ಲದಿದ್ದರೆ, ವಿದ್ಯುತ್ಕಾಂತೀಯ ತರಂಗ ಶಕ್ತಿಯ ನಷ್ಟವು ಹೆಚ್ಚಾಗಬಹುದು, ಇದು ಆಂಟೆನಾದ ಅಳವಡಿಕೆ ನಷ್ಟ, ಲಾಭ ಮತ್ತು ಸಿಗ್ನಲ್ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಮೆಟಾಲೈಸೇಶನ್ ಸರಳವಾದ ಅಲಂಕಾರಿಕ ಮೇಲ್ಮೈ ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲ, ಆದರೆ RF ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಗುರಿಯಾಗಿಟ್ಟುಕೊಂಡು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮೆಟಾಲೈಸೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ.
3.2 ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್‌ಗಳು ಉಷ್ಣ ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿರುತ್ತವೆ: ಪಿವಿಡಿ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಶಾಖದ ಶೇಖರಣೆ ಆಯಾಮದ ವಿಚಲನಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು.
ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ PPS ನಂತಹ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತವೆ. ಈ ವಸ್ತುಗಳು ಉತ್ತಮ ಶಾಖ ನಿರೋಧಕತೆ ಮತ್ತು ಆಯಾಮದ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತವೆಯಾದರೂ, PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಕಣಗಳ ಬಾಂಬ್ ದಾಳಿ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪರಿಸರಗಳು ಮತ್ತು ನಿರಂತರ ಶೇಖರಣಾ ಶಾಖದಿಂದ ಅವು ಇನ್ನೂ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗಿವೆ.
ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್‌ಗಳ ಸೀಮಿತ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯಿಂದಾಗಿ, ಉಪಕರಣಗಳ ತಾಪಮಾನ ನಿಯಂತ್ರಣ, ತಂಪಾಗಿಸುವ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಉತ್ಪಾದನಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಸರಿಯಾಗಿ ನಿರ್ವಹಿಸದಿದ್ದರೆ, ಸ್ಥಳೀಯ ಶಾಖವು ಸುಲಭವಾಗಿ ಸಂಗ್ರಹವಾಗಬಹುದು, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಉಷ್ಣ ಒತ್ತಡ ಮತ್ತು ಸ್ವಲ್ಪ ವಿರೂಪ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ. ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ತರಂಗ ರಾಡಾರ್ ಆಂಟೆನಾಗಳಿಗೆ, ಕುಹರದ ರಚನೆಯಲ್ಲಿನ ಆಯಾಮದ ಬದಲಾವಣೆಗಳು ಅನುರಣನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು RF ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರಬಹುದು. ಸಣ್ಣ ವಿರೂಪತೆಯು ಸಹ ಅಂತಿಮ ಪರೀಕ್ಷಾ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ವಿನ್ಯಾಸದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿಂದ ವಿಮುಖವಾಗಲು ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು.
ಆದ್ದರಿಂದ, ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳಿಗೆ PVD ಉಪಕರಣಗಳು ಒಂದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಎರಡು ಪ್ರಮುಖ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಬೇಕು: ಸಂಕೀರ್ಣ-ರಚನೆ ವ್ಯಾಪ್ತಿ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ಉಷ್ಣ ವಿರೂಪ ನಿಯಂತ್ರಣ. ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ಆಯಾಮದ ಸ್ಥಿರತೆ ಎರಡನ್ನೂ ನಿರ್ವಹಿಸಿದಾಗ ಮಾತ್ರ ಸ್ಥಿರವಾದ ಡೌನ್‌ಸ್ಟ್ರೀಮ್ RF ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು.
4. ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಕಂಟಿನ್ಯೂಯಸ್ ಪಿವಿಡಿ ಪರಿಹಾರ: ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ರಾಡಾರ್ ಆಂಟೆನಾ ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್‌ಗಾಗಿ ಒಂದು ಸಿಸ್ಟಮ್-ಲೆವೆಲ್ ಅಪ್ರೋಚ್
ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳ ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು, ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ರಚನೆಯ ಲೋಹೀಕರಣದ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವ ಹೆಚ್ಚಿನ ಇಳುವರಿ ನಿರಂತರ PVD ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದೆ. ಪರಿಹಾರವು ಫಿಲ್ಮ್ ಕವರೇಜ್ ಏಕರೂಪತೆ, ವಾಹಕ ನಿರಂತರತೆ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತಲಾಧಾರಗಳ ಆಯಾಮದ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಉಪಕರಣಗಳ ರಚನೆ, ತಂಪಾಗಿಸುವ ನಿಯಂತ್ರಣ, ಶೇಖರಣಾ ವಿಧಾನ, ಫಿಕ್ಚರ್ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಿಂಡೋ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ಅನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸುತ್ತದೆ.
4.1 ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಯಾನೀಕರಣ ಠೇವಣಿ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಗುರಿ ವಿನ್ಯಾಸವು ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪ್ತಿ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ
ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು, ಕುರುಡು ರಂಧ್ರಗಳು ಮತ್ತು ಪಕ್ಕದ ಗೋಡೆಗಳ ಕವರೇಜ್ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು, ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಅಯಾನು-ಸಹಾಯಕ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಮತ್ತು ಗುರಿ ಮೂಲ ವಿನ್ಯಾಸವನ್ನು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿಸಿದೆ. ಲೋಹದ ಕಣಗಳ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಮೂಲಕ ಮತ್ತು ಘಟನೆ ಕೋನಗಳ ವಿತರಣೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಪರಿಹಾರವು ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ರಚನೆಗಳ ಒಳಗೆ ಫಿಲ್ಮ್ ಕವರೇಜ್ ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.
ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಫ್ಲಾಟ್-ಸಬ್‌ಸ್ಟ್ರೇಟ್ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ಈ ಪರಿಹಾರವು ಆಳವಾದ ಚಡಿಗಳು, ಪಾರ್ಶ್ವಗೋಡೆಯ ಪ್ರದೇಶಗಳು ಮತ್ತು ರಚನಾತ್ಮಕ ಮೂಲೆಗಳ ಕೆಳಭಾಗದಲ್ಲಿ ಫಿಲ್ಮ್ ನಿರಂತರತೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಇದು ಸ್ಥಳೀಯ ಅಂಡರ್‌ಕೋಟಿಂಗ್, ತಪ್ಪಿದ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಸಾಕಷ್ಟು ವಾಹಕತೆಯ ಅಪಾಯಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಸಂಕೀರ್ಣ ತರಂಗ ಮಾರ್ಗದರ್ಶಿ ರಚನೆಗಳಲ್ಲಿ ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಒಟ್ಟಾರೆ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.
4.2 ಬಹು-ಹಂತದ ಕೂಲಿಂಗ್ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಶಾಖದ ಶೇಖರಣೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಆಯಾಮದ ಅಪಾಯಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ
PVD ಸಂಸ್ಕರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್‌ಗಳ ತಾಪಮಾನ ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು, ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ತನ್ನ ನಿರಂತರ ಲೇಪನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಬಹು-ಹಂತದ ತಂಪಾಗಿಸುವ ವಿನ್ಯಾಸವನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸಿದೆ. ಹಂತ ಹಂತದ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪದ ತಂಪಾಗಿಸುವ ನಿಯಂತ್ರಣದ ಮೂಲಕ, ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಶಾಖವನ್ನು ಸಮಯಕ್ಕೆ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಬಹುದು, ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತಲಾಧಾರಗಳ ಆಯಾಮದ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಸ್ಥಳೀಯ ಶಾಖ ಸಂಗ್ರಹಣೆಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.
ಈ ವಿನ್ಯಾಸವು ಸೂಕ್ಷ್ಮ-ವಿರೂಪ, ವಾರ್ಪೇಜ್ ಮತ್ತು ರಚನಾತ್ಮಕ ವಿಚಲನದ ಅಪಾಯಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಲೋಹೀಕರಣದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಕುಹರವು ಉತ್ತಮ ಆಯಾಮದ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಂತರದ RF ಪರೀಕ್ಷೆಗೆ ಸ್ಥಿರವಾದ ರಚನಾತ್ಮಕ ಅಡಿಪಾಯವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.
4.3 ಸ್ವತಂತ್ರ ಕೊಠಡಿ ವಿನ್ಯಾಸವು ನಿರಂತರ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ
ದೀರ್ಘಾವಧಿಯ ಲೇಪನದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಶಾಖದ ಶೇಖರಣೆ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಏರಿಳಿತ ಮತ್ತು ಟ್ಯಾಕ್ಟ್-ಟೈಮ್ ಮಿತಿಗಳಿಗೆ ಗುರಿಯಾಗುವ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಸಿಂಗಲ್-ಚೇಂಬರ್ ಬ್ಯಾಚ್ ಲೇಪನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ನಿರಂತರ ಉತ್ಪಾದನಾ ವಾಸ್ತುಶಿಲ್ಪವನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಂಡಿದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಸ್ವತಂತ್ರ ಕೋಣೆಗಳಲ್ಲಿ ವಿಭಿನ್ನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಹಂತಗಳನ್ನು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಸ್ವತಂತ್ರ ಚೇಂಬರ್ ವಿನ್ಯಾಸವು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆ, ಟ್ಯಾಕ್ಟ್ ನಿಯಂತ್ರಣ ಮತ್ತು ನಿಯತಾಂಕ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ವಿಭಿನ್ನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಹಂತಗಳ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಹಸ್ತಕ್ಷೇಪವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್‌ಗಳನ್ನು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಕೋಣೆಗಳ ನಡುವೆ ನಿರಂತರವಾಗಿ ವರ್ಗಾಯಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಪೂರ್ವ-ಚಿಕಿತ್ಸೆ, ಶೇಖರಣೆ, ತಂಪಾಗಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಇತರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಹಂತಗಳನ್ನು ಉತ್ಪನ್ನ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಮೃದುವಾಗಿ ಕಾನ್ಫಿಗರ್ ಮಾಡಬಹುದು. ಇದು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳ ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಥಿರವಾದ ಸಲಕರಣೆಗಳ ಅಡಿಪಾಯವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.
5. ಸಲಕರಣೆಗಳಿಂದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಮೌಲ್ಯೀಕರಣದವರೆಗೆ: ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾ ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್‌ನ ಸಾಮೂಹಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುವುದು.
ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳ ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್ ಒಂದೇ ಸಲಕರಣೆ ನಿಯತಾಂಕವನ್ನು ಆಧರಿಸಿದ ಸ್ಪರ್ಧೆಯಲ್ಲ, ಆದರೆ ವಸ್ತುಗಳು, ರಚನೆಗಳು, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಉಪಕರಣಗಳಾದ್ಯಂತ ಸಂಘಟಿತ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಗಳ ಸ್ಪರ್ಧೆಯಾಗಿದೆ. ಸಾಮೂಹಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ನಿಜವಾಗಿಯೂ ಸೂಕ್ತವಾದ PVD ಪರಿಹಾರವು ಈ ಕೆಳಗಿನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಬೇಕು: ಫಿಲ್ಮ್ ಉತ್ತಮ ನಿರಂತರತೆ ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರಬೇಕು; ಸಂಕೀರ್ಣ ಆಂತರಿಕ ರಚನೆಗಳು ಸ್ಥಿರ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬೇಕು; ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತಲಾಧಾರವು ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಆಯಾಮದ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕಾಯ್ದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು; ಬ್ಯಾಚ್ ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಾಗಿರಬೇಕು; ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ನಂತರದ RF ಪರೀಕ್ಷೆ ಮತ್ತು ಆಟೋಮೋಟಿವ್-ಗ್ರೇಡ್ ಮೌಲ್ಯೀಕರಣದೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಿಕೆಯಾಗಬೇಕು.
ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್‌ನ ನಿರಂತರ PVD ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಈ ಪ್ರಮುಖ ಸೂಚಕಗಳ ಸುತ್ತಲೂ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಗ್ರಾಹಕರ ಮಾದರಿ ರಚನೆಗಳು, ವಸ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು, ಫಿಲ್ಮ್ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಮತ್ತು ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಗುರಿಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಪರಿಹಾರವು ಕಸ್ಟಮೈಸ್ ಮಾಡಿದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮಾದರಿ ಮತ್ತು ಪ್ಯಾರಾಮೀಟರ್ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ಅನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ. ಇದು ಗ್ರಾಹಕರು ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ, ಕವರೇಜ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆ ಮತ್ತು ಬ್ಯಾಚ್ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಪರಿಶೀಲಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ, S-ಪ್ಯಾರಾಮೀಟರ್‌ಗಳು, ಅಳವಡಿಕೆ ನಷ್ಟ ಮತ್ತು ಲಾಭ ಸೇರಿದಂತೆ ನಂತರದ RF ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೌಲ್ಯೀಕರಣಕ್ಕಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾದ ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್ ಅಡಿಪಾಯವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.
ತೀರ್ಮಾನ
ಆಟೋಮೋಟಿವ್ ಮಿಲಿಮೀಟರ್-ವೇವ್ ರಾಡಾರ್ ಸೆನ್ಸಿಂಗ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳ ಅಪ್‌ಗ್ರೇಡ್ ಮಾಡುವುದು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಚಿಪ್‌ಗಳು, ಅಲ್ಗಾರಿದಮ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಸಿಸ್ಟಮ್ ಆರ್ಕಿಟೆಕ್ಚರ್‌ನ ಸ್ಪರ್ಧೆಯಂತೆ ಕಾಣುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಆಳವಾದ ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ, ಇದು ವಸ್ತುಗಳು, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಉನ್ನತ-ಮಟ್ಟದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಉಪಕರಣಗಳ ಸಂಘಟಿತ ವಿಕಸನವಾಗಿದೆ.
ಮೆಟಲೈಸ್ಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳಿಗೆ, ಕಡಿಮೆ ನಷ್ಟ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಲಾಭ ಮತ್ತು ಹಗುರವಾದ ರಚನೆಯ ವಿನ್ಯಾಸ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಅಂತಿಮವಾಗಿ ಸ್ಥಿರ, ಪುನರಾವರ್ತನೀಯ ಮತ್ತು ಸ್ಕೇಲೆಬಲ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ಮೂಲಕ ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಬೇಕು. ಪಿವಿಡಿ ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್ ಉಪಕರಣಗಳು ಮೇಲ್ಮೈ ಲೇಪನಕ್ಕಾಗಿ ಕೇವಲ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಾಧನವಲ್ಲ; ಇದು ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ, ಬ್ಯಾಚ್ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಸಾಮೂಹಿಕ-ಉತ್ಪಾದನಾ ಇಳುವರಿಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುವ ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶವಾಗಿದೆ.
-ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ತಯಾರಕರು ಪ್ರಕಟಿಸಿದ್ದಾರೆ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಆಂಟೆನಾಗಳಿಗೆ PVD ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್ ಉಪಕರಣಗಳು.
ಪೋಸ್ಟ್ ಸಮಯ: ಮೇ-19-2026