Nel mondo frenetico di oggi, in cui i contenuti visivi hanno una grande influenza, la tecnologia dei rivestimenti ottici gioca un ruolo importante nel migliorare la qualità dei display. Dagli smartphone agli schermi TV, i rivestimenti ottici hanno rivoluzionato il modo in cui percepiamo e sperimentiamo i contenuti visivi.
Il rivestimento mediante sputtering magnetron viene eseguito tramite scarica luminescente, con bassa densità di corrente di scarica e bassa densità di plasma nella camera di rivestimento. Questo fa sì che la tecnologia di sputtering magnetron presenti svantaggi quali bassa forza di adesione del film al substrato, bassa velocità di ionizzazione dei metalli e bassa velocità di deposizione...
1. Utile per lo sputtering e la placcatura di film isolanti. Il rapido cambio di polarità degli elettrodi può essere utilizzato per sputterare direttamente i target isolanti e ottenere film isolanti. Se si utilizza una fonte di alimentazione a corrente continua per sputtering e deposizione del film isolante, quest'ultimo impedirà agli ioni positivi di entrare...
1. Il processo di rivestimento per evaporazione sotto vuoto comprende l'evaporazione dei materiali filmici, il trasporto degli atomi di vapore in alto vuoto e il processo di nucleazione e crescita degli atomi di vapore sulla superficie del pezzo. 2. Il grado di vuoto di deposizione del rivestimento per evaporazione sotto vuoto è elevato, gene...
Il TiN è il primo rivestimento duro utilizzato negli utensili da taglio, con vantaggi quali elevata resistenza, elevata durezza e resistenza all'usura. È il primo materiale di rivestimento duro industrializzato e ampiamente utilizzato, ampiamente utilizzato in utensili e stampi rivestiti. Il rivestimento duro TiN è stato inizialmente depositato a 1000 °C...
Il plasma ad alta energia può bombardare e irradiare materiali polimerici, rompendone le catene molecolari, formando gruppi attivi, aumentando l'energia superficiale e generando un effetto di incisione. Il trattamento superficiale al plasma non influisce sulla struttura interna e sulle prestazioni del materiale, ma solo in modo significativo...
Il processo di rivestimento ionico con sorgente ad arco catodico è fondamentalmente lo stesso delle altre tecnologie di rivestimento e alcune operazioni, come l'installazione dei pezzi e l'aspirazione, non vengono più ripetute. 1. Pulizia a bombardamento dei pezzi Prima del rivestimento, il gas argon viene introdotto nella camera di rivestimento con un...
1. Caratteristiche del flusso di elettroni nella luce ad arco. La densità del flusso di elettroni, del flusso di ioni e degli atomi neutri ad alta energia nel plasma ad arco generato dalla scarica ad arco è molto più elevata rispetto a quella della scarica a bagliore. Ci sono più ioni gassosi e ioni metallici ionizzati, atomi ad alta energia eccitati e vari gruppi attivi...
1) La modifica superficiale al plasma si riferisce principalmente ad alcune modifiche di carta, film organici, tessuti e fibre chimiche. L'uso del plasma per la modifica tessile non richiede l'uso di attivatori e il processo di trattamento non danneggia le caratteristiche delle fibre stesse.
L'applicazione delle pellicole ottiche sottili è molto ampia e spazia dagli occhiali, agli obiettivi delle macchine fotografiche, alle fotocamere dei telefoni cellulari, agli schermi LCD per cellulari, computer e televisori, all'illuminazione a LED, ai dispositivi biometrici, ai finestrini a risparmio energetico nelle automobili e negli edifici, nonché agli strumenti medici, ai...
1. Tipo di pellicola nel display informativo: oltre ai film sottili TFT-LCD e OLED, i display informativi includono anche pellicole per elettrodi di cablaggio e pellicole trasparenti per pixel nel pannello del display. Il processo di rivestimento è il processo principale dei display TFT-LCD e OLED. Con la programmazione continua...
Durante il rivestimento per evaporazione, la nucleazione e la crescita dello strato di pellicola sono alla base di varie tecnologie di rivestimento ionico. 1.Nucleazione Nella tecnologia di rivestimento per evaporazione sotto vuoto, dopo che le particelle dello strato di pellicola sono evaporate dalla fonte di evaporazione sotto forma di atomi, volano direttamente verso...
1. La polarizzazione del pezzo è bassa. Grazie all'aggiunta di un dispositivo per aumentare la velocità di ionizzazione, la densità di corrente di scarica aumenta e la tensione di polarizzazione si riduce a 0,5~1 kV. Il backsputtering, causato dall'eccessivo bombardamento di ioni ad alta energia, e il conseguente danneggiamento della superficie del pezzo...
1) I target cilindrici hanno un tasso di utilizzo maggiore rispetto ai target planari. Nel processo di rivestimento, che si tratti di un target di sputtering cilindrico di tipo magnetico rotante o di un target di sputtering cilindrico a tubo rotante, tutte le parti della superficie del tubo target attraversano continuamente l'area di sputtering generata di fronte...
Processo di polimerizzazione diretta al plasma Il processo di polimerizzazione al plasma è relativamente semplice sia per le apparecchiature di polimerizzazione a elettrodo interno che per quelle a elettrodo esterno, ma nella polimerizzazione al plasma la selezione dei parametri è più importante, perché i parametri hanno una maggiore...