سی‌اف‌ام۱۹۱۶

(1) قفسه قطعه کار، طراحی استوانه‌ای با سطح پوشش بزرگ را اتخاذ می‌کند. ظرفیت بارگذاری محصول دو برابر تجهیزات تبخیر پرتو الکترونی با مشخصات مشابه است. قفسه قطعه کار با ساختار چرخشی و دورانی طراحی شده است که می‌تواند با قطعات کار با اشکال مختلف سازگار شود و کاربرد گسترده‌تری دارد.
(2) با استفاده از سیستم کندوپاش استوانه‌ای مگنترون با فرکانس متوسط ​​و سیستم کمکی منبع یون، فیلم پوشش فشرده، با ضریب شکست بالا و پایدار، چسبندگی قوی و جذب آسان مولکول‌های بخار آب است. در محیط‌های مختلف، این فیلم عملکرد نوری پایدارتری نسبت به فیلم رسوب داده شده توسط تجهیزات تبخیر پرتو الکترونی سنتی حفظ می‌کند.
(3) این فرآیند که به سیستم نظارت کنترل کریستالی برای کنترل دقیق ضخامت لایه نازک مجهز شده است، از پایداری بالا و تکرارپذیری خوبی برخوردار است. سیستم کنترل حلقه بسته و خودکار SPEEDFLO می‌تواند به طور مؤثری نرخ رسوب SiO2 را بهبود بخشد.
(4) طراحی ترموستاتیک فیکسچر می‌تواند به طور موثر دمای محصول را کنترل کند و با محصولات PET و PC فوق نازک سازگار باشد.