CFM1916

(1) U rack per i pezzi di travagliu adotta un disignu cilindricu, cù una grande area di rivestimentu. A capacità di carica di u pruduttu hè duie volte quella di l'equipaggiu di evaporazione à fasciu elettronicu di a listessa specificazione. U rack per i pezzi di travagliu hè cuncipitu cù una struttura di rivoluzione è di rotazione, chì pò adattassi à pezzi di travagliu di varie forme è hè più largamente utilizata.
(2) Utilizendu u sistema di sputtering di bersagli cilindrici à magnetron di media frequenza è u sistema ausiliariu di fonte di ioni, u film di rivestimentu hè compactu, cù un indice di rifrazione altu è stabile, una forte adesione, è ùn hè micca faciule d'adsorbe e molecule di vapore acqueo. In diversi ambienti, u film mantene prestazioni ottiche più stabili cà u film depositatu da l'equipaggiu tradiziunale di evaporazione à fasciu elettronicu.
(3) Equipatu cù un sistema di monitoraghju di cuntrollu di cristalli per cuntrullà accuratamente u spessore di u film, u prucessu hà una alta stabilità è una bona ripetibilità. U sistema di cuntrollu automaticu è in circuitu chjusu SPEEDFLO pò migliurà efficacemente a velocità di deposizione di SiO2.
(4) U disignu di l'apparecchiu termostaticu pò cuntrullà efficacemente a temperatura di u pruduttu, è pò adattassi à i prudutti PET è PC ultra-sottili.