③ Високо качество на покритието. Тъй като йонното бомбардиране може да подобри плътността на мембраната, да подобри организационната структура на мембраната, което прави мембранния слой по-еднороден, плътно нанасян, с по-малко дупки и мехурчета, като по този начин подобрява качеството на мембранния слой.
④Висока скорост на отлагане, бърза скорост на образуване на филм, може да се приготви филм с дебелина 30 μm.
⑤ Материалът на основата и филмовият материал, приложими за покритието, са сравнително широки. Приложими са за метални или неметални повърхностни покрития върху метални съединения, неметални материали, като стомана, цветни метали, кварц, керамика, пластмаси и други материали върху повърхността на покритието. Тъй като плазмената активност е благоприятна за понижаване на температурата на синтез на съединенията, йонното покритие улеснява нанасянето на различни свръхтвърди филми от съединения.
Тъй като йонното покритие има горепосочените характеристики, то има изключително широк спектър от приложения. Технологията на йонното покритие може да се използва за покриване на метали, сплави, проводими материали и дори непроводящи материали (с помощта на високочестотно напрежение) върху субстрат. Йонното покритие може да бъде метално фолио, многосплавно фолио, комбинирано фолио, може да бъде еднослойно, може да бъде композитно покритие; може да бъде градиентно покритие и нано-многослойно покритие. Използването на различни мембранни материали, различни реакционни газове и различни технологични методи и параметри може да доведе до укрепване на повърхността, твърдо износоустойчиво покритие, плътно и химически стабилно, устойчиво на корозия покритие, твърд смазочен слой, разнообразие от цветове на декоративен заключващ слой, както и до необходимостта от специални функционални покрития в електрониката, оптиката, енергетиката и други области. Технологията на йонното покритие и продуктите за йонно покритие са широко използвани.
–Тази статия е публикувана отпроизводител на машини за вакуумно покритиеГуандун Джънхуа
Време на публикуване: 12 януари 2024 г.