hollow cathode arc light ကို မီးညှိရန်အတွက် အောက်ပါအခြေအနေများ လိုအပ်ပါသည်။
- တန္တလမ်ပြွန်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော အခေါင်းပါ ကက်သုတ်သေနတ်ကို အပေါ်ယံလွှာအခန်းနံရံတွင် တပ်ဆင်ထားပြီး ပူပြင်းသော အီလက်ထရွန်စီးဆင်းမှုကို ထုတ်လွှတ်ရန် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ပြားချပ်ချပ်ပြွန်၏ အတွင်းပိုင်းအချင်းမှာ φ 6~ φ 15mm ရှိပြီး နံရံအထူ 0.8-2mm ရှိသည်။
- ပါဝါထောက်ပံ့မှုကို arc စတင်သည့် ပါဝါထောက်ပံ့မှုနှင့် parallel arc ထိန်းသိမ်းသည့် ပါဝါထောက်ပံ့မှုတို့ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည်။ arc striking power supply ၏ ဗို့အားမှာ 800-1000V ဖြစ်ပြီး arc striking current မှာ 30-50A ဖြစ်သည်။ arc voltage မှာ 40-70V ဖြစ်ပြီး arc current မှာ 80-300A ဖြစ်သည်။
hollow cathode arc discharge လုပ်ငန်းစဉ်သည် “volt ampere characteristic curve” တွင် ပုံမှန်မဟုတ်သော glow discharge မှ arc discharge သို့ပြောင်းလဲခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို လိုက်နာသည်။ ပထမဦးစွာ၊ tantalum tube တွင် glow discharge ထုတ်လုပ်ရန် 800V စတင်ဗို့အားကို ပံ့ပိုးပေးရန်အတွက် power supply တစ်ခုလိုအပ်သည်။ tantalum tube အတွင်းရှိ high-density argon ions များသည် tube ကို ပူသော electron များထုတ်လွှတ်သည့်အပူချိန်အထိ ပစ်ခတ်ပြီး အပူပေးကာ plasma electron စီးဆင်းမှုများစွာဖြစ်ပေါ်စေပြီး hollow cathode arc ၏ current ကို ရုတ်တရက်မြင့်တက်စေသည်။ ထို့နောက် arc discharge ကိုထိန်းသိမ်းရန်အတွက် high current power supply တစ်ခုလည်းလိုအပ်သည်။ glow discharge မှ arc discharge သို့ပြောင်းလဲခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်သည် အလိုအလျောက်ဖြစ်သောကြောင့် high voltage နှင့် high current နှစ်မျိုးလုံးကိုထုတ်ပေးနိုင်သော power supply တစ်ခုကို configure လုပ်ရန်လိုအပ်သည်။
ဤလိုအပ်ချက်နှစ်ခုကို တစ်ခုတည်းသော ပါဝါအရင်းအမြစ်ပေါ်တွင် အာရုံစိုက်ပါက၊ ပါဝါထရန်စဖော်မာ၏ ဒုတိယထွက်ရှိမှုအဆုံးကို မြင့်မားသောဗို့အားနှင့် မြင့်မားသောလျှပ်စီးကြောင်းကို ထုတ်ပေးရန် အလွန်ထူသောဝါယာကြိုးများဖြင့် လှည့်ပတ်ရမည်ဖြစ်ပြီး ၎င်းသည် ကြီးမားသောပမာဏရှိသော ပါဝါအရင်းအမြစ်ဖြစ်လာမည်ဖြစ်သည်။ နှစ်ပေါင်းများစွာ တိုးတက်မှုအပြီးတွင်၊ arc စတင်သည့် ပါဝါထောက်ပံ့မှုငယ်တစ်ခုကို ထိန်းသိမ်းခြင်း arc ပါဝါထောက်ပံ့မှုဖြင့် parallel လုပ်နိုင်သည်။ arc စတင်သည့် ပါဝါထောက်ပံ့မှုသည် ပါးလွှာသောဝါယာကြိုးများကို အသုံးပြု၍ လှည့်ပတ်မှုများစွာကို လှည့်ပတ်စေပြီး၊ ၎င်းသည် tantalum ပြွန်များကို မီးညှိရန်နှင့် glow discharge ထုတ်လုပ်ရန် 800V ၏ မြင့်မားသောဗို့အားကို ထုတ်လွှတ်နိုင်သည်။ arc ပါဝါထောက်ပံ့မှုသည် hollow cathode arc discharge ၏တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန် လှည့်ပတ်မှုနည်းပါးသော ထူသောဝါယာကြိုးကို လှည့်ပတ်ခြင်းဖြင့် ဗို့အားဆယ်ဂဏန်းနှင့် ampere ရာပေါင်းများစွာကို ထုတ်လွှတ်နိုင်သည်။ tantalum ပြွန်များပေါ်ရှိ ပါဝါထောက်ပံ့မှုနှစ်ခု၏ parallel ချိတ်ဆက်မှုကြောင့်၊ ပုံမှန်မဟုတ်သော glow discharge မှ arc discharge သို့ပြောင်းလဲသည့်လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ ပါဝါထောက်ပံ့မှုနှစ်ခုသည် မြင့်မားသောဗို့အားနှင့် နိမ့်သောလျှပ်စီးကြောင်းမှ နိမ့်သောဗို့အားနှင့် မြင့်မားသောလျှပ်စီးကြောင်းသို့ အလိုအလျောက်ချိတ်ဆက်ပြီး ပြောင်းလဲလိမ့်မည်။
- လေဟာနယ်အဆင့်ကို လျင်မြန်စွာ ချိန်ညှိပါ။ တန္တလမ်ပြွန်များတွင် တောက်ပသောထုတ်လွှတ်မှုအတွက် လေဟာနယ်အဆင့်သည် 100Pa ခန့်ရှိပြီး ထိုကဲ့သို့သော လေဟာနယ်နိမ့်သောအခြေအနေများတွင် စုပုံနေသော ဖလင်ဖွဲ့စည်းပုံသည် မလွဲမသွေ ကြမ်းတမ်းပါသည်။ ထို့ကြောင့် arc ထုတ်လွှတ်မှုကို မီးရှို့ပြီးနောက် လေစီးဆင်းမှုပမာဏကို ချက်ချင်းလျှော့ချပြီး လေဟာနယ်အဆင့်ကို 8×10-1~2Pa သို့ လျင်မြန်စွာ ချိန်ညှိရန် လိုအပ်ပြီး ကောင်းမွန်သော အစပိုင်းဖလင်ဖွဲ့စည်းပုံကို ရရှိရန် လိုအပ်ပါသည်။
- workpiece turntable ကို coating chamber ပတ်ပတ်လည်တွင် တပ်ဆင်ထားပြီး workpiece ကို bias power supply ၏ negative pole နှင့် ချိတ်ဆက်ထားပြီး vacuum chamber ကို positive pole နှင့် ချိတ်ဆက်ထားသည်။ hollow cathode arc ၏ မြင့်မားသော current density ကြောင့် ion coated workpiece ၏ bias voltage သည် 1000V၊ ပုံမှန်အားဖြင့် 50-200V သို့ ရောက်ရှိရန် မလိုအပ်ပါ။
၅။ Gan ပြိုကျမှုပတ်လည်တွင် အာရုံစူးစိုက်မှုလျှပ်စစ်သံလိုက်ကွိုင်တစ်ခုထားပါ၊ ကွိုင်သို့ လျှပ်စီးကြောင်းသက်ရောက်ခြင်းဖြင့် ထုတ်ပေးသော လျှပ်စစ်သံလိုက်စက်ကွင်းသည် သတ္တုအချောင်း၏အလယ်ဗဟိုတွင် အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ကို အာရုံစူးစိုက်စေပြီး အီလက်ထရွန်စီးဆင်းမှု၏ ပါဝါသိပ်သည်းဆကို တိုးမြင့်စေနိုင်သည်။
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၃ ခုနှစ်၊ ဇူလိုင်လ ၂၀ ရက်