Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Tegumenta PVD: Evaporatio thermalis et pulverisatio cathodica
Tegumenta PVD (Depositio Vaporis Physica) late adhibentur ad pelliculas tenues et tegumenta superficialia creanda. Inter methodos communes, evaporatio thermalis et pulverisatio cathodica duo processus PVD magni momenti sunt. Hic est analysis utriusque: 1. Principium Evaporationis Thermalis: Materia calefactur...Plura lege -
Votatio Vacui Fasciculi Electronici
Depositio vaporis physica fasciculi electronici (EBPVD) est processus adhibitus ad tenues pelliculas vel obductiones in varias superficies deponendas. Implicat usum fasciculi electronici ad materiam obductionis (ut metallum vel ceramicam) in camera vacui alti calefaciendam et vaporandam. Materia vaporata...Plura lege -
Technologia obductionis PVD in applicatione formae
Sina basis productionis formarum in mundo facta est, portio mercatus formarum plus quam centum miliardorum est, industria formarum fundamentum progressionis industrialis modernae facta est. Recentibus annis, industria formarum Sinarum ad plus quam decem centesimas incrementi annui celeris progressus pervenit. Ergo, quomodo...Plura lege -
Significatio pompae vacui
Vacuum obtinendum etiam "pumpatio vacui" appellatur, quod ad usum variarum antliarum vacui ad aerem intra receptaculum extrahendum refertur, ita ut pressio intra spatium infra unam atmosphaeram descendat. In praesenti, ut vacuum obtineatur, instrumenta communiter adhibita, inter quae sunt rotatoriae...Plura lege -
Processus depositionis vaporis vacui
Processus depositionis vaporis vacui plerumque gradus comprehendit ut purgationem superficiei substrati, praeparationem ante obductionem, depositionem vaporis, collectionem fragmentorum, tractationem post obductionem, probationem, et producta perfecta. (1) Purgatio superficiei substrati. Parietes camerae vacui, structura substrati et alia...Plura lege -
Introductio ad Obductionem Vacuam
Cur Vacuum Utere? Contaminationem Prohibens: In vacuo, absentia aeris aliorumque gasorum impedit ne materia depositionis cum gasibus atmosphaericis reagat, quae pelliculam contaminare possent. Adhaesio Emendata: Absentia aeris significat pelliculam directe substrato adhaerere sine aere...Plura lege -
Technologia Depositionis Pelliculae Tenuis
Depositio pellicularum tenuium est processus fundamentalis adhibitus in industria semiconductorum, necnon in multis aliis campis scientiae et machinationis materialium. Implicat creationem tenuis strati materiae in substrato. Pelliculae depositae possunt habere amplam varietatem crassitudinis, a paucis tantum atomis...Plura lege -
Variae Pelliculae Opticae in Industria Optica Adhibitae
In optica arte, in vitro optico vel superficie quartz, strato vel pluribus stratis diversarum substantiarum post pelliculam obductis, reflexionem magnam vel non-reflectantem (id est, permeabilitatem pelliculae auctam) vel certam proportionem reflexionis vel transmissionis m obtinere potes...Plura lege -
Partes instrumentorum ad obductionem vacui
Apparatus ad pelliculas tenues deponendas in vacuo est genus technologiae ad pelliculas tenues deponendas in ambitu vacuo, quod late in electronicis, opticis, scientia materialium, energia, et cetera adhibetur. Apparatus ad pelliculas vacuo imprimis ex his partibus constat: Camera Vacui: Haec est pars principalis apparatus vacui...Plura lege -
Applicatio Instrumentorum Tegendi Vacuum
Apparatus ad obductionem vacui applicandam latam applicationum varietatem habet, multas industrias et campos comprehendens. Inter applicationes principales sunt: Electronica ad usum domesticum et circuitus integrati: Technologia ad obductionem vacui applicandam latam applicationum varietatem in electronicis ad usum domesticum habet, ut in structuris metallicis...Plura lege -
Applicatio Zhenhua ad superficiem tractandam pro lucernis autocinetorum ab industria autocinetica fabricata.
Lucerna est una ex partibus magni momenti currus, et tractatio superficiei reflectoris lucernae potest eius functionem et ornatum augere; processus communis tractationis superficiei calicis lucernae includit incrustationem chemicam, picturam, et obductionem vacuo. Processus pulverizationis picturae et incrustatio chemica est modus traditionalis calicis lucernae...Plura lege -
Partes apparatus ad obductionem in vacuo
Apparatus ad obducendum vacuum plerumque constat ex pluribus elementis principalibus, quorum unumquodque propriam functionem habet, quae una operantur ad efficientem et uniformem depositionem pelliculae efficiendam. Infra descriptio elementorum principalium et functionum earum invenitur: Elementa Principalia Camera vacui: Functio: Praebet...Plura lege -
Principium Operationis Systematis Tegumenti Evaporativi Thermalis
Apparatus ad materiam evaporativam applicandam est genus apparatus ad materiam tenuem pelliculae in superficie substrati deponendam, quod late in campis instrumentorum opticorum, instrumentorum electronicorum, obductionum decorativarum, et cetera adhibetur. Obductio evaporativa praecipue temperaturam altam ad solidum convertendum utitur...Plura lege -
Introductio Obducentis Inlineae
Machina obducendi in linea vacui est genus systematis obductionis provectum destinatum ad ambitus productionis continuae et magnae productionis. Dissimiliter machinis obductionis per seriem, quae substrata in gregibus discretis tractant, machinae obductionis in linea permittunt substrata continue per varias gradus processus obductionis moveri. Eius...Plura lege -
Sputtering Vacuum Coater
Machina ad obducendum vapore per pulverizationem est instrumentum ad deponendas tenues membranas materiae in substratum. Hic processus vulgo adhibetur in productione semiconductorum, cellularum solarium, et variorum generum obductionum ad usus opticos et electronicos. Hic est conspectus fundamentalis quomodo operatur: 1.V...Plura lege
