ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ

ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನದ ಮೂಲ ಸಿದ್ಧಾಂತ
ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಕಿರಣದಲ್ಲಿನ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳಿಗೆ ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧಕ ಸಾಧನದ ಶೋಧಕ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನವು ಈ ಕೆಳಗಿನಂತಿರುತ್ತದೆ:
ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮತ್ತು ಚಾರ್ಜ್-ಟು-ಮಾಸ್ ಅನುಪಾತದಲ್ಲಿರುವ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳ ನಡುವಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು, ತಲಾಧಾರ ಮತ್ತು ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಮೇಲ್ಮೈ ನಡುವೆ "ತಡೆ" (ಬ್ಯಾಫಲ್ ಅಥವಾ ಬಾಗಿದ ಕೊಳವೆಯ ಗೋಡೆ) ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ನಡುವೆ ನೇರ ರೇಖೆಯಲ್ಲಿ ಚಲಿಸುವ ಯಾವುದೇ ಕಣಗಳನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದ ತಿರುಗಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು "ತಡೆ" ಮೂಲಕ ತಲಾಧಾರಕ್ಕೆ ಹಾದು ಹೋಗಬಹುದು.

ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧಕ ಸಾಧನದ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ತತ್ವ

ಕಾಂತಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ, Pe<

Pe ಮತ್ತು Pi ಕ್ರಮವಾಗಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಅಯಾನುಗಳ ಲಾರ್ಮರ್ ತ್ರಿಜ್ಯಗಳಾಗಿವೆ, ಮತ್ತು a ಎಂಬುದು ಕಾಂತೀಯ ಫಿಲ್ಟರ್‌ನ ಒಳಗಿನ ವ್ಯಾಸವಾಗಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಲ್ಲಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳು ಲೊರೆಂಟ್ಜ್ ಬಲದಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಅಕ್ಷೀಯವಾಗಿ ತಿರುಗುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರವು ಲಾರ್ಮರ್ ತ್ರಿಜ್ಯದಲ್ಲಿನ ಅಯಾನುಗಳು ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳ ನಡುವಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸದಿಂದಾಗಿ ಅಯಾನುಗಳ ಕ್ಲಸ್ಟರಿಂಗ್ ಮೇಲೆ ಕಡಿಮೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಕಾಂತೀಯ ಫಿಲ್ಟರ್ ಸಾಧನದ ಅಕ್ಷದ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಚಲನೆಯಾದಾಗ, ಅದರ ಗಮನ ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ಋಣಾತ್ಮಕ ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಿಂದಾಗಿ ಅದು ತಿರುಗುವಿಕೆಯ ಚಲನೆಗಾಗಿ ಅಕ್ಷೀಯ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಆಕರ್ಷಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವೇಗವು ಅಯಾನುಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಅಯಾನನ್ನು ಮುಂದಕ್ಕೆ ಎಳೆಯುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಯಾವಾಗಲೂ ಅರೆ-ವಿದ್ಯುತ್ ತಟಸ್ಥವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳು ವಿದ್ಯುತ್ ತಟಸ್ಥವಾಗಿರುತ್ತವೆ ಅಥವಾ ಸ್ವಲ್ಪ ಋಣಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಚಾರ್ಜ್ ಆಗಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಗುಣಮಟ್ಟವು ಅಯಾನುಗಳು ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ದೊಡ್ಡದಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಮೂಲತಃ ಜಡತ್ವದ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರ ಮತ್ತು ರೇಖೀಯ ಚಲನೆಯಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಸಾಧನದ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯೊಂದಿಗೆ ಡಿಕ್ಕಿ ಹೊಡೆದ ನಂತರ ಫಿಲ್ಟರ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಬಾಗುವ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ವಕ್ರತೆ ಮತ್ತು ಗ್ರೇಡಿಯಂಟ್ ಡ್ರಿಫ್ಟ್ ಮತ್ತು ಅಯಾನು-ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಘರ್ಷಣೆಗಳ ಸಂಯೋಜಿತ ಕಾರ್ಯದ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನದಲ್ಲಿ ತಿರುಗಿಸಬಹುದು. ಇಂದು ಬಳಸಲಾಗುವ ಸಾಮಾನ್ಯ ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಮಾದರಿಗಳೆಂದರೆ ಮೊರೊಜೊವ್ ಫ್ಲಕ್ಸ್ ಮಾದರಿ ಮತ್ತು ಡೇವಿಡ್ಸನ್ ರಿಜಿಡ್ ರೋಟರ್ ಮಾದರಿ, ಇವು ಈ ಕೆಳಗಿನ ಸಾಮಾನ್ಯ ಲಕ್ಷಣವನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ: ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳನ್ನು ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಾಗಿ ಸುರುಳಿಯಾಕಾರದ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಚಲಿಸುವಂತೆ ಮಾಡುವ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರವಿದೆ.
ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧಕ ಸಾಧನದಲ್ಲಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಅಕ್ಷೀಯ ಚಲನೆಯನ್ನು ಮಾರ್ಗದರ್ಶಿಸುವ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಬಲವು ಹೀಗಿರಬೇಕು:

Mi, Vo, ಮತ್ತು Z ಕ್ರಮವಾಗಿ ಅಯಾನು ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ, ಸಾಗಣೆ ವೇಗ ಮತ್ತು ಸಾಗಿಸಲಾದ ಚಾರ್ಜ್‌ಗಳ ಸಂಖ್ಯೆ. a ಎಂಬುದು ಕಾಂತೀಯ ಫಿಲ್ಟರ್‌ನ ಒಳಗಿನ ವ್ಯಾಸ, ಮತ್ತು e ಎಂಬುದು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಚಾರ್ಜ್.
ಕೆಲವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣವು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಬಂಧಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ ಎಂಬುದನ್ನು ಗಮನಿಸಬೇಕು. ಅವು ಕಾಂತೀಯ ಫಿಲ್ಟರ್‌ನ ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ತಲುಪಬಹುದು, ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ಧನಾತ್ಮಕ ವಿಭವದಲ್ಲಿ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಅಯಾನುಗಳು ಒಳಗಿನ ಗೋಡೆಯನ್ನು ತಲುಪುವುದನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ನಷ್ಟವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.
ಈ ವಿದ್ಯಮಾನದ ಪ್ರಕಾರ, ಗುರಿ ಅಯಾನು ಸಾಗಣೆ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಅಯಾನುಗಳ ಘರ್ಷಣೆಯನ್ನು ತಡೆಯಲು ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಫಿಲ್ಟರ್ ಸಾಧನದ ಗೋಡೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಧನಾತ್ಮಕ ಪಕ್ಷಪಾತ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು.

ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನದ ವರ್ಗೀಕರಣ
(1) ರೇಖೀಯ ರಚನೆ. ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರವು ಅಯಾನು ಕಿರಣದ ಹರಿವಿಗೆ ಮಾರ್ಗದರ್ಶಿಯಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ, ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಸ್ಪಾಟ್‌ನ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಕಣ ಸಮೂಹಗಳ ಅನುಪಾತವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದೊಳಗಿನ ಘರ್ಷಣೆಗಳನ್ನು ತೀವ್ರಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ತಟಸ್ಥ ಕಣಗಳನ್ನು ಅಯಾನುಗಳಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಲು ಪ್ರೇರೇಪಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಕಣ ಸಮೂಹಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಬಲ ಹೆಚ್ಚಾದಂತೆ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯನ್ನು ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಬಹು-ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನು ಲೇಪನ ವಿಧಾನದೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ಈ ರಚನಾತ್ಮಕ ಸಾಧನವು ಇತರ ವಿಧಾನಗಳಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ದಕ್ಷತೆಯಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಕಡಿತವನ್ನು ನಿವಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯನ್ನು ಸುಮಾರು 60% ರಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವಾಗ ಮೂಲಭೂತವಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಶೇಖರಣಾ ದರವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.
(2) ವಕ್ರ-ಮಾದರಿಯ ರಚನೆ. ರಚನೆಯು ವಿವಿಧ ರೂಪಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದರೂ, ಮೂಲ ತತ್ವವು ಒಂದೇ ಆಗಿರುತ್ತದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವು ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರ ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಸಂಯೋಜಿತ ಕಾರ್ಯದ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಚಲಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರವನ್ನು ಕಾಂತೀಯ ಬಲ ರೇಖೆಗಳ ದಿಕ್ಕಿನಲ್ಲಿ ಚಲನೆಯನ್ನು ತಿರುಗಿಸದೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಸೀಮಿತಗೊಳಿಸಲು ಮತ್ತು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮತ್ತು ಚಾರ್ಜ್ ಮಾಡದ ಕಣಗಳು ರೇಖೀಯ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಚಲಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಬೇರ್ಪಡಿಸಲ್ಪಡುತ್ತವೆ. ಈ ರಚನಾತ್ಮಕ ಸಾಧನದಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಕಡಿಮೆ ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನ, ಉತ್ತಮ ಸಾಂದ್ರತೆ, ಏಕರೂಪದ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಬೇಸ್ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. XPS ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯು ಈ ರೀತಿಯ ಸಾಧನದೊಂದಿಗೆ ಲೇಪಿತವಾದ ta-C ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈ ಗಡಸುತನವು 56 GPa ತಲುಪಬಹುದು ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ಹೀಗಾಗಿ ಬಾಗಿದ ರಚನೆಯ ಸಾಧನವು ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಮತ್ತು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಗುರಿ ಅಯಾನು ಸಾಗಣೆ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ಸುಧಾರಿಸಬೇಕಾಗಿದೆ. 90° ಬಾಗಿದ ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನವು ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಬಾಗಿದ ರಚನೆ ಸಾಧನಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. Ta-C ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈ ಪ್ರೊಫೈಲ್‌ನ ಮೇಲಿನ ಪ್ರಯೋಗಗಳು 90° ಬೆಂಡ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಫಿಲ್ಟರೇಶನ್ ಸಾಧನಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ 360° ಬೆಂಡ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಫಿಲ್ಟರೇಶನ್ ಸಾಧನದ ಮೇಲ್ಮೈ ಪ್ರೊಫೈಲ್ ಹೆಚ್ಚು ಬದಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳಿಗೆ 90° ಬೆಂಡ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಫಿಲ್ಟರೇಶನ್‌ನ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಮೂಲತಃ ಸಾಧಿಸಬಹುದು. 90° ಬೆಂಡ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಫಿಲ್ಟರೇಶನ್ ಸಾಧನವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಎರಡು ರೀತಿಯ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ: ಒಂದು ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾದ ಬೆಂಡ್ ಸೊಲೆನಾಯ್ಡ್, ಮತ್ತು ಇನ್ನೊಂದು ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯಿಂದ ಹೊರಗೆ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ನಡುವಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ. 90° ಬೆಂಡ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ಫಿಲ್ಟರೇಶನ್ ಸಾಧನದ ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡವು 10-2Pa ಕ್ರಮದಲ್ಲಿದೆ ಮತ್ತು ಇದನ್ನು ಲೇಪನ ನೈಟ್ರೈಡ್, ಆಕ್ಸೈಡ್, ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಕಾರ್ಬನ್, ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಮತ್ತು ಲೋಹ ಅಥವಾ ಲೋಹವಲ್ಲದ ಫಿಲ್ಮ್‌ನಂತಹ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಬಹುದು.

ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನದ ದಕ್ಷತೆ
ಗೋಡೆಯೊಂದಿಗೆ ನಿರಂತರ ಘರ್ಷಣೆಯಲ್ಲಿ ಎಲ್ಲಾ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳು ಚಲನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಕಳೆದುಕೊಳ್ಳಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲದ ಕಾರಣ, ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಂಖ್ಯೆಯ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳು ಪೈಪ್ ಔಟ್ಲೆಟ್ ಮೂಲಕ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ತಲುಪುತ್ತವೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಉದ್ದ ಮತ್ತು ಕಿರಿದಾದ ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನವು ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶೋಧನೆ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದರೆ ಈ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅದು ಗುರಿ ಅಯಾನುಗಳ ನಷ್ಟವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ರಚನೆಯ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನವು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ದೊಡ್ಡ ಕಣ ತೆಗೆಯುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಅಯಾನು ಸಾಗಣೆಯ ಹೆಚ್ಚಿನ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಬಹು-ಚಾಪ ಅಯಾನು ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾದ ಅನ್ವಯಿಕ ನಿರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ಹೊಂದಲು ಅಗತ್ಯವಾದ ಪೂರ್ವಾಪೇಕ್ಷಿತವಾಗಿದೆ. ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನದ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯು ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಶಕ್ತಿ, ಬೆಂಡ್ ಬಯಾಸ್, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಬ್ಯಾಫಲ್ ದ್ಯುತಿರಂಧ್ರ, ಆರ್ಕ್ ಮೂಲ ಪ್ರವಾಹ ಮತ್ತು ಚಾರ್ಜ್ಡ್ ಕಣ ಘಟನೆ ಕೋನದಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಕಾಂತೀಯ ಶೋಧನೆ ಸಾಧನದ ಸಮಂಜಸವಾದ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿಸುವ ಮೂಲಕ, ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳ ಫಿಲ್ಟರಿಂಗ್ ಪರಿಣಾಮ ಮತ್ತು ಗುರಿಯ ಅಯಾನು ವರ್ಗಾವಣೆ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು.