پوششهای PVD (رسوب فیزیکی بخار) تکنیکهای پرکاربردی برای ایجاد لایههای نازک و پوششهای سطحی هستند. در میان روشهای رایج، تبخیر حرارتی و کندوپاش دو فرآیند مهم PVD هستند. در اینجا به تفصیل هر یک از آنها میپردازیم: ۱. اصل تبخیر حرارتی: ماده در ... گرم میشود.
پوششدهی در خلاء با پرتو الکترونی یا رسوب فیزیکی بخار با پرتو الکترونی (EBPVD)، فرآیندی است که برای رسوبدهی لایههای نازک یا پوششها روی سطوح مختلف استفاده میشود. این فرآیند شامل استفاده از پرتو الکترونی برای گرم کردن و تبخیر یک ماده پوششدهنده (مانند فلز یا سرامیک) در یک محفظه خلاء بالا است. ماده تبخیر شده...
چین به پایگاه تولید قالب در جهان تبدیل شده است، سهم بازار قالب بیش از 100 میلیارد دلار است، صنعت قالب به اساس توسعه صنعتی مدرن تبدیل شده است. در سالهای اخیر، صنعت قالب چین به بیش از 10 درصد از نرخ رشد سالانه توسعه سریع دست یافته است. بنابراین، چگونه...
به دست آوردن خلاء همچنین به عنوان "پمپ خلاء" شناخته میشود، که به استفاده از پمپهای خلاء مختلف برای حذف هوای داخل ظرف اشاره دارد، به طوری که فشار داخل فضا به زیر یک اتمسفر کاهش مییابد. در حال حاضر، برای به دست آوردن خلاء و دستگاههای رایج از جمله پرههای دوار...
فرآیند رسوب بخار در خلاء عموماً شامل مراحلی مانند تمیز کردن سطح زیرلایه، آمادهسازی قبل از پوششدهی، رسوب بخار، جمعآوری قطعات، عملیات پس از آبکاری، آزمایش و محصولات نهایی است. (1) تمیز کردن سطح زیرلایه. دیوارههای محفظه خلاء، قاب زیرلایه و سایر...
چرا از خلاء استفاده کنیم؟ جلوگیری از آلودگی: در خلاء، عدم وجود هوا و سایر گازها از واکنش مواد رسوبی با گازهای جوی که میتوانند فیلم را آلوده کنند، جلوگیری میکند. چسبندگی بهبود یافته: عدم وجود هوا به این معنی است که فیلم مستقیماً به زیرلایه میچسبد بدون اینکه هوایی وجود داشته باشد...
رسوب لایه نازک یک فرآیند اساسی است که در صنعت نیمههادی و همچنین در بسیاری از زمینههای دیگر علم و مهندسی مواد مورد استفاده قرار میگیرد. این فرآیند شامل ایجاد یک لایه نازک از ماده روی یک زیرلایه است. لایههای رسوب شده میتوانند طیف وسیعی از ضخامتها را داشته باشند، از چند لایه تا ...
در زمینه اپتیک، در شیشه نوری یا سطح کوارتز، با آبکاری یک یا چند لایه از مواد مختلف پس از فیلم، میتوان به انعکاس بالا یا عدم انعکاس (یعنی افزایش نفوذپذیری فیلم) یا نسبت مشخصی از انعکاس یا انتقال نور دست یافت.
تجهیزات پوششدهی در خلاء نوعی فناوری رسوبگذاری لایه نازک در محیط خلاء است که به طور گسترده در الکترونیک، اپتیک، علوم مواد، انرژی و غیره مورد استفاده قرار میگیرد. تجهیزات پوششدهی در خلاء عمدتاً از بخشهای زیر تشکیل شده است: محفظه خلاء: این بخش اصلی دستگاه پوششدهی در خلاء است...
تجهیزات پوششدهی خلاء طیف وسیعی از کاربردها را شامل میشود و صنایع و زمینههای مختلفی را پوشش میدهد. زمینههای اصلی کاربرد عبارتند از: لوازم الکترونیکی مصرفی و مدارهای مجتمع: فناوری پوششدهی خلاء طیف گستردهای از کاربردها را در لوازم الکترونیکی مصرفی، مانند سازههای فلزی، دارد...
لامپ یکی از بخشهای مهم خودرو است و عملیات سطح بازتابنده لامپ میتواند عملکرد و تزئینات آن را افزایش دهد. فرآیند معمول عملیات سطح جام لامپ شامل آبکاری شیمیایی، رنگآمیزی، پوشش خلاء است. فرآیند پاشش رنگ و آبکاری شیمیایی، روش سنتیتر پوشش جام لامپ است...
تجهیزات پوششدهی در خلاء معمولاً از چندین جزء کلیدی تشکیل شدهاند که هر کدام عملکرد خاص خود را دارند و به طور هماهنگ برای دستیابی به رسوب فیلم یکنواخت و کارآمد کار میکنند. در زیر شرحی از اجزای اصلی و عملکرد آنها آمده است: اجزای اصلی محفظه خلاء: عملکرد: فراهم میکند...
تجهیزات پوشش تبخیری نوعی تجهیزات است که برای رسوب مواد فیلم نازک روی سطح بستر استفاده میشود و به طور گسترده در زمینههای دستگاههای نوری، دستگاههای الکترونیکی، پوششهای تزئینی و غیره مورد استفاده قرار میگیرد. پوشش تبخیری عمدتاً از دمای بالا برای تبدیل جامد به ... استفاده میکند.
دستگاه پوششدهی در خط وکیوم، نوع پیشرفتهای از سیستم پوششدهی است که برای محیطهای تولید پیوسته و با توان عملیاتی بالا طراحی شده است. برخلاف دستگاههای پوششدهی دستهای که زیرلایهها را در گروههای مجزا پردازش میکنند، دستگاههای پوششدهی در خط به زیرلایهها اجازه میدهند تا به طور پیوسته در مراحل مختلف فرآیند پوششدهی حرکت کنند. او...
دستگاه لایه نشانی در خلاء کندوپاش وسیلهای است که برای رسوب لایههای نازک مواد روی یک زیرلایه استفاده میشود. این فرآیند معمولاً در تولید نیمههادیها، سلولهای خورشیدی و انواع مختلف پوششها برای کاربردهای نوری و الکترونیکی استفاده میشود. در اینجا یک مرور کلی از نحوه عملکرد آن آورده شده است: 1.V...