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Nachricht

  • Einführung des PVD-Prinzips

    Einführung des PVD-Prinzips

    Einleitung: In der Welt der modernen Oberflächentechnik hat sich die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) als Standardverfahren zur Verbesserung der Leistungsfähigkeit und Haltbarkeit verschiedenster Materialien etabliert. Haben Sie sich jemals gefragt, wie diese innovative Technik funktioniert? Heute tauchen wir in die komplexen Mechanismen der PVD ein…
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  • Optische Beschichtungstechnologie: Verbesserte visuelle Effekte

    In der heutigen schnelllebigen Welt, in der visuelle Inhalte großen Einfluss haben, spielt die optische Beschichtungstechnologie eine wichtige Rolle bei der Verbesserung der Bildqualität verschiedenster Displays. Von Smartphones bis hin zu Fernsehbildschirmen haben optische Beschichtungen die Art und Weise, wie wir visuelle Inhalte wahrnehmen und erleben, revolutioniert.
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  • Verbesserung der Magnetron-Sputterbeschichtung mit Lichtbogenentladungsnetzteil

    Verbesserung der Magnetron-Sputterbeschichtung mit Lichtbogenentladungsnetzteil

    Die Magnetron-Sputterbeschichtung erfolgt mittels Glimmentladung bei niedriger Entladungsstromdichte und geringer Plasmadichte in der Beschichtungskammer. Dies führt zu Nachteilen wie geringer Haftung des Films am Substrat, niedriger Metallionisationsrate und geringer Abscheidungsrate.
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  • Nutzung der HF-Entladung

    Nutzung der HF-Entladung

    1. Vorteilhaft für das Sputtern und Abscheiden von Isolierschichten. Der schnelle Wechsel der Elektrodenpolarität ermöglicht das direkte Sputtern von Isoliertargets zur Gewinnung von Isolierschichten. Wird zum Sputtern und Abscheiden der Isolierschicht eine Gleichstromquelle verwendet, blockiert die Isolierschicht den Eintritt positiver Ionen.
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  • Technische Merkmale der Vakuumverdampfungsbeschichtung

    Technische Merkmale der Vakuumverdampfungsbeschichtung

    1. Das Vakuumverdampfungsverfahren umfasst die Verdampfung von Filmmaterialien, den Transport von Dampfatomen im Hochvakuum sowie die Keimbildung und das Wachstum von Dampfatomen auf der Werkstückoberfläche. 2. Das Vakuum bei der Vakuumverdampfung ist hoch, im Allgemeinen...
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  • Arten von Hartbeschichtungen

    Arten von Hartbeschichtungen

    TiN ist die erste Hartbeschichtung, die in Schneidwerkzeugen eingesetzt wurde und Vorteile wie hohe Festigkeit, hohe Härte und Verschleißfestigkeit bietet. Es ist das erste industriell gefertigte und weit verbreitete Hartbeschichtungsmaterial und findet breite Anwendung in beschichteten Werkzeugen und Formen. Die TiN-Hartbeschichtung wurde ursprünglich bei 1000 °C abgeschieden…
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  • Charakteristika der Plasma-Oberflächenmodifizierung

    Charakteristika der Plasma-Oberflächenmodifizierung

    Hochenergetisches Plasma kann Polymermaterialien bombardieren und bestrahlen, wodurch deren Molekülketten aufgebrochen, aktive Gruppen gebildet, die Oberflächenenergie erhöht und Ätzprozesse erzeugt werden. Die Plasma-Oberflächenbehandlung beeinflusst weder die innere Struktur noch die Eigenschaften des Grundmaterials, sondern nur dessen Oberfläche signifikant.
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  • Das Verfahren der Ionenbeschichtung mit kleinen Lichtbogenquellen

    Das Verfahren der Ionenbeschichtung mit kleinen Lichtbogenquellen

    Das Verfahren der Kathodenbogen-Ionenbeschichtung ist im Prinzip dasselbe wie bei anderen Beschichtungstechnologien, und einige Arbeitsschritte wie das Einlegen der Werkstücke und das Absaugen entfallen. 1. Reinigung der Werkstücke durch Ionenstrahlverfahren: Vor der Beschichtung wird Argongas mit einem... in die Beschichtungskammer eingeleitet.
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  • Charakteristika und Erzeugungsmethoden des Lichtbogenelektronenflusses

    Charakteristika und Erzeugungsmethoden des Lichtbogenelektronenflusses

    1. Charakteristika des Elektronenflusses im Lichtbogenplasma: Die Dichte des Elektronenflusses, des Ionenflusses und der hochenergetischen neutralen Atome im durch Lichtbogenentladung erzeugten Lichtbogenplasma ist wesentlich höher als bei einer Glimmentladung. Es gibt mehr ionisierte Gas- und Metallionen, angeregte hochenergetische Atome und verschiedene aktive Gruppen…
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  • Anwendungsgebiete der Plasma-Oberflächenmodifizierung

    Anwendungsgebiete der Plasma-Oberflächenmodifizierung

    1) Die Plasmaoberflächenmodifizierung bezieht sich hauptsächlich auf bestimmte Modifikationen von Papier, organischen Folien, Textilien und Chemiefasern. Die Anwendung von Plasma zur Textilmodifizierung erfordert keine Aktivatoren, und der Behandlungsprozess beeinträchtigt die Eigenschaften der Fasern selbst nicht.
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  • Anwendung der Ionenbeschichtung im Bereich optischer Dünnschichten

    Anwendung der Ionenbeschichtung im Bereich optischer Dünnschichten

    Die Anwendung optischer Dünnschichten ist sehr vielfältig und reicht von Gläsern, Kameraobjektiven, Handykameras, LCD-Bildschirmen für Mobiltelefone, Computer und Fernseher, LED-Beleuchtung, biometrischen Geräten bis hin zu energiesparenden Fenstern in Autos und Gebäuden sowie medizinischen Instrumenten, ...
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  • Informationsdisplayfolien und Ionenbeschichtungstechnologie

    Informationsdisplayfolien und Ionenbeschichtungstechnologie

    1. Filmtypen in Informationsdisplays: Neben TFT-LCD- und OLED-Dünnschichten umfassen Informationsdisplays auch Leiterbahn- und transparente Pixelleiterbahnen im Displaypanel. Der Beschichtungsprozess ist der Kernprozess von TFT-LCD- und OLED-Displays. Mit dem kontinuierlichen Fortschritt…
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  • Das Wachstumsgesetz der Vakuumverdampfungsbeschichtungsschicht

    Das Wachstumsgesetz der Vakuumverdampfungsbeschichtungsschicht

    Bei der Aufdampfbeschichtung bilden die Keimbildung und das Wachstum der Schicht die Grundlage verschiedener Ionenbeschichtungstechnologien. 1. Keimbildung: Bei der Vakuumaufdampfbeschichtung werden die Schichtpartikel nach dem Verdampfen aus der Verdampfungsquelle in Form von Atomen direkt auf die Oberfläche aufgebracht.
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  • Gemeinsame Merkmale der verbesserten Glimmentladungs-Ionenbeschichtungstechnologie

    Gemeinsame Merkmale der verbesserten Glimmentladungs-Ionenbeschichtungstechnologie

    1. Die Werkstückvorspannung ist gering. Durch den Einsatz einer Vorrichtung zur Erhöhung der Ionisierungsrate wird die Entladungsstromdichte erhöht, die Vorspannung jedoch auf 0,5–1 kV reduziert. Das durch den übermäßigen Beschuss mit hochenergetischen Ionen verursachte Rückspritzen und die damit einhergehende Schädigung der Werkstückoberfläche...
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  • Vorteile zylindrischer Ziele

    Vorteile zylindrischer Ziele

    1) Zylindrische Targets weisen eine höhere Ausnutzungsrate als planare Targets auf. Beim Beschichtungsprozess, egal ob es sich um ein rotierendes Magnet- oder ein rotierendes Rohr-Sputtertarget handelt, durchläuft die gesamte Oberfläche des Targetrohrs kontinuierlich die davor erzeugte Sputterzone.
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