Katı maddelerin yüksek vakum ortamında ısıtılarak süblimleştirilmesi veya buharlaştırılması ve belirli bir alt tabaka üzerine biriktirilerek ince bir film elde edilmesi işlemine vakum buharlaştırma kaplaması (buharlaştırma kaplaması olarak da bilinir) denir.
Vakum buharlaştırma işlemiyle ince filmlerin hazırlanmasının tarihi 1850'lere kadar uzanmaktadır. 1857'de M. Farrar, ince filmler oluşturmak için metal telleri nitrojende buharlaştırarak vakum kaplama girişimini başlattı. O zamanki düşük vakum teknolojisi nedeniyle, bu şekilde ince filmlerin hazırlanması çok zaman alıcıydı ve pratik değildi. 1930'a kadar yağ difüzyon pompası mekanik bir pompa eklem pompalama sistemi kuruldu, vakum teknolojisi hızlı bir gelişme gösterebilir, sadece buharlaştırma ve püskürtme kaplamayı pratik bir teknoloji haline getirmek için.
Vakum buharlaştırma eski bir ince film biriktirme teknolojisi olmasına rağmen, laboratuvar ve endüstriyel alanlarda en yaygın kullanılan yöntemdir. Başlıca avantajları basit kullanım, biriktirme parametrelerinin kolay kontrolü ve elde edilen filmlerin yüksek saflığıdır. Vakum kaplama işlemi aşağıdaki üç adıma ayrılabilir.
1) Kaynak malzeme ısıtılıp eritilerek buharlaştırılır veya süblimleştirilir; 2) Buhar, kaynak malzemeden uzaklaştırılarak buharlaştırılır veya süblimleştirilir.
2) Buhar, kaynak malzemeden alt tabakaya aktarılır.
3) Buhar, alt tabaka yüzeyinde yoğunlaşarak katı bir film oluşturur.
İnce filmlerin vakum buharlaştırılması, genellikle polikristalin film veya amorf filmdir, filmden adaya büyüme baskındır, çekirdeklenme ve film iki işlem yoluyla. Buharlaşan atomlar (veya moleküller) alt tabaka ile çarpışır, alt tabakaya kalıcı bağlanmanın bir kısmı, adsorpsiyonun bir kısmı ve daha sonra alt tabakadan buharlaşır ve alt tabaka yüzeyinden doğrudan yansımanın bir kısmı. Atomların (veya moleküllerin) termal hareket nedeniyle alt tabaka yüzeyine yapışması, yüzey boyunca hareket edebilir, diğer atomlara dokunmak gibi kümeler halinde birikecektir. Kümelerin, alt tabaka yüzeyindeki stresin yüksek olduğu yerlerde veya kristal alt tabakanın solvasyon adımlarında meydana gelme olasılığı en yüksektir, çünkü bu, adsorbe edilen atomların serbest enerjisini en aza indirir. Bu çekirdeklenme sürecidir. Atomların (moleküllerin) daha fazla birikmesi, yukarıda belirtilen ada şeklindeki kümelerin (çekirdeklerin) sürekli bir filme uzanana kadar genişlemesine neden olur. Bu nedenle, vakum buharlaştırılmış polikristalin filmlerin yapısı ve özellikleri, buharlaşma hızı ve alt tabaka sıcaklığıyla yakından ilişkilidir. Genel olarak, alt tabaka sıcaklığı ne kadar düşükse buharlaşma hızı o kadar yüksek, film taneciği o kadar ince ve yoğun olur.
–Bu makale tarafından yayınlanmıştırvakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Gönderi zamanı: Mar-23-2024