Utangulizi wa historia ya maendeleo ya teknolojia ya uvukizi

Mchakato wa kupasha joto nyenzo ngumu katika mazingira ya utupu wa juu ili kusalia au kuyeyuka na kuziweka kwenye substrate maalum ili kupata filamu nyembamba inajulikana kama mipako ya uvukizi wa utupu (inayojulikana kama mipako ya uvukizi).

Historia ya utayarishaji wa filamu nyembamba kwa mchakato wa uvukizi wa utupu inaweza kupatikana nyuma hadi miaka ya 1850. Mnamo 1857, M. Farrar alianza jaribio la mipako ya utupu kwa kuyeyusha waya za chuma katika nitrojeni ili kuunda filamu nyembamba. Kutokana na teknolojia ya chini ya utupu wakati huo, maandalizi ya filamu nyembamba kwa njia hii ilikuwa ya muda mrefu sana na sio ya vitendo. Hadi 1930 pampu ya utbredningen mafuta pampu mitambo pampu pamoja kusukumia mfumo ilianzishwa, teknolojia ya utupu inaweza kuwa maendeleo ya haraka, tu kufanya uvukizi na sputtering mipako kuwa teknolojia ya vitendo.

Ingawa uvukizi wa utupu ni teknolojia ya zamani ya utuaji wa filamu nyembamba, lakini ni maabara na maeneo ya viwanda yanayotumiwa kwa njia ya kawaida. Faida zake kuu ni operesheni rahisi, udhibiti rahisi wa vigezo vya uwekaji na usafi wa juu wa filamu zinazosababisha. Mchakato wa mipako ya utupu unaweza kugawanywa katika hatua tatu zifuatazo.

1) nyenzo za chanzo huwashwa na kuyeyuka ili kuyeyuka au kusaga; 2) mvuke hutolewa kutoka kwa nyenzo za chanzo ili kuyeyuka au kusaga.

2) Mvuke huhamishwa kutoka kwa nyenzo za chanzo hadi kwenye substrate.

3) Mvuke hujilimbikiza kwenye uso wa substrate ili kuunda filamu imara.

Uvukizi wa utupu wa filamu nyembamba, kwa ujumla ni polycrystalline filamu au filamu amofasi, filamu na ukuaji wa kisiwa ni kubwa, kwa njia ya nucleation na filamu michakato miwili. Atomi zilizovukizwa (au molekuli) hugongana na substrate, sehemu ya kiambatisho cha kudumu kwa substrate, sehemu ya adsorption na kisha kuyeyuka kutoka kwenye substrate, na sehemu ya kuakisi moja kwa moja nyuma kutoka kwenye uso wa substrate. Kushikamana na uso wa substrate ya atomi (au molekuli) kwa sababu ya harakati za joto kunaweza kusonga kando ya uso, kama vile kugusa atomi zingine itajilimbikiza katika vikundi. Nguzo zina uwezekano mkubwa wa kutokea pale ambapo mkazo kwenye uso wa substrate ni wa juu, au kwenye hatua za myeyusho wa substrate ya kioo, kwa sababu hii inapunguza nishati ya bure ya atomi za adsorbed. Huu ni mchakato wa nucleation. Utuaji zaidi wa atomi (molekuli) husababisha upanuzi wa makundi yenye umbo la kisiwa (nuclei) yaliyotajwa hapo juu hadi yanapanuliwa kuwa filamu inayoendelea. Kwa hiyo, muundo na mali ya filamu za polycrystalline za utupu zinahusiana kwa karibu na kiwango cha uvukizi na joto la substrate. Kwa ujumla, kadiri joto la substrate lilivyo chini, ndivyo kiwango cha uvukizi kinavyoongezeka, ndivyo nafaka ya filamu inavyokuwa laini na mnene.

- Nakala hii imetolewa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya utupuGuangdong Zhenhua