Перформансе различитих вакуум пумпи имају и друге разлике осим могућности пумпања вакуума у комору. Стога је веома важно разјаснити рад који пумпа обавља у вакуумском систему приликом избора, а улога коју пумпа игра у различитим радним областима је сумирана на следећи начин.
1, Као главна пумпа у систему
Главна пумпа је вакуум пумпа која директно пумпа пумпну комору вакуумског система како би се постигао степен вакуума потребан за испуњавање захтева процеса.
2, Пумпа за грубо пумпање
Груба пумпа је вакуумска пумпа која почиње да се смањује због притиска ваздуха, а притисак вакуумског система достиже други систем пумпе који може почети да ради.
3, Претходна пумпа
Претходна пумпа је вакуум пумпа која се користи за одржавање претходног притиска друге пумпе испод њеног највишег дозвољеног претходног притиска.
4, Задржавајућа пумпа
Задржавајућа пумпа је пумпа која не може ефикасно да користи главну претходну пумпу када је пумпање вакуумског система веома мало. Из тог разлога, у вакуумском систему се користи друга врста помоћне претходне пумпе са мањом брзином пумпе како би се одржао нормалан рад главне пумпе или како би се одржао низак притисак потребан за испражњени контејнер.
5, Груба вакуум пумпа или пумпа са ниским вакуумом
Груба или ниска вакуумска пумпа је вакуумска пумпа која почиње од ваздуха и ради у опсегу ниског или грубог вакуумског притиска након смањења притиска пумпане посуде.
6, Пумпа високог вакуума
Високовакуумска пумпа се односи на вакуумску пумпу која ради у опсегу високог вакуума.
7, Ултра-висока вакуумска пумпа
Ултра-високовакуумска пумпа односи се на вакуумску пумпу која ради у ултра-високом вакуумском опсегу.
8, Појачивач пумпе
Бустер пумпа се обично односи на вакуум пумпу која ради између пумпе ниског вакуума и пумпе високог вакуума како би се повећао капацитет пумпе система за пумпање у средњем опсегу притиска или смањила потребна брзина пумпе претходне пумпе.
Увод у јонски чистач
Плазма чистач
1. Плазма је јонизовани гас у коме су густине позитивних јона и електрона приближно једнаке. Састоји се од јона, електрона, слободних радикала и неутралних честица.
2. То је четврто агрегатно стање материје. Пошто је плазма комбинација веће енергије од гаса, супстанца у плазма окружењу може добити више физичко-хемијских и других реакционих карактеристика.
3. Механизам машине за плазма чишћење је да се ослања на „ефекат активације“ материјала у „плазма стању“ како би се уклониле површинске мрље.
4. Плазма чишћење је такође најбезбеднији тип чишћења за скидање дна међу свим методама чишћења. Може се широко користити у полупроводничким, микроелектронски, COG, LCD, LCM и LED процесима.
5. Прецизно чишћење пре паковања уређаја, вакуумска електроника, конектори и релеји, соларна фотонапонска индустрија, чишћење површина од пластике, гуме, метала и керамике, третман нагризањем, третман пепела, активација површине и друга поља експеримената у природним наукама.
Време објаве: 07.11.2022.