Výkon rôznych vákuových púmp má okrem schopnosti pumpovať vákuum do komory aj iné rozdiely.Preto je veľmi dôležité pri výbere objasniť prácu, ktorú vykonáva čerpadlo vo vákuovom systéme, a úloha, ktorú čerpadlo zohráva v rôznych pracovných oblastiach, je zhrnutá nasledovne.
1、Ako hlavné čerpadlo v systéme
Hlavné čerpadlo je vákuové čerpadlo, ktoré priamo čerpá čerpaciu komoru vákuového systému, aby sa dosiahol stupeň vákua potrebný na splnenie požiadaviek procesu.
2, Hrubé čerpacie čerpadlo
Hrubé čerpacie čerpadlo je vákuové čerpadlo, ktoré sa začne znižovať z tlaku vzduchu a tlak vákuového systému dosiahne iný čerpací systém, ktorý môže začať pracovať.
3、Predstupňové čerpadlo
Predstupňová pumpa je vákuová pumpa používaná na udržanie predstupňového tlaku iného čerpadla pod jeho najvyšším povoleným predstupňovým tlakom.
4, Prídržné čerpadlo
Holding pumpa je pumpa, ktorá nemôže efektívne využívať hlavnú pumpu predstupňa, keď je pumpovanie vákuového systému veľmi malé.Z tohto dôvodu sa vo vákuovom systéme používa iný druh pomocného predstupňového čerpadla s menšou rýchlosťou čerpania na udržanie normálnej činnosti hlavného čerpadla alebo na udržanie nízkeho tlaku, ktorý vyžaduje vyprázdnená nádoba.
5、 Hrubé vákuové čerpadlo alebo nízke vákuové čerpadlo
Hrubá alebo nízka vákuová pumpa je vákuová pumpa, ktorá štartuje zo vzduchu a pracuje v rozsahu nízkeho alebo hrubého vákuového tlaku po znížení tlaku čerpanej nádoby.
6, Vysoké vákuové čerpadlo
Vysoké vákuové čerpadlo označuje vákuové čerpadlo pracujúce v rozsahu vysokého vákua.
7 、 Ultra vysoké vákuové čerpadlo
Ultravysoká vákuová pumpa označuje vákuovú pumpu pracujúcu v ultravysokom rozsahu vákua.
8, Pomocné čerpadlo
Posilňovacia pumpa sa zvyčajne vzťahuje na vákuovú pumpu pracujúcu medzi pumpou s nízkym vákuom a pumpou s vysokým vákuom, aby sa zvýšila čerpacia kapacita čerpacieho systému v strednom rozsahu tlaku alebo sa znížila požiadavka na rýchlosť čerpania bývalého čerpadla.
Úvod do iónového čističa
Plazmový čistič
1. Plazma je ionizovaný plyn, v ktorom sú hustoty kladných iónov a elektrónov približne rovnaké.Pozostáva z iónov, elektrónov, voľných radikálov a neutrálnych častíc.
2. Je to štvrté skupenstvo hmoty.Keďže plazma je kombináciou vyššej energie ako plyn, látka v prostredí plazmy môže získať viac fyzikálno-chemických a iných reakčných charakteristík.
3. mechanizmus plazmového čistiaceho stroja sa spolieha na „stav plazmy“ materiálového „aktivačného efektu“ pri odstraňovaní povrchových škvŕn.
4. Plazmové čistenie je tiež najbezodnejším typom čistenia spomedzi všetkých čistiacich metód.Môže byť široko používaný v procese polovodičov, mikroelektroniky, COG, LCD, LCM a LED.
5. Precízne čistenie pred balením zariadení, vákuová elektronika, konektory a relé, solárny fotovoltaický priemysel, čistenie plastov, gumy, kovov a keramických povrchov, úprava leptaním, úprava popola, aktivácia povrchu a ďalšie oblasti experimentov v oblasti biologických vied.
Čas uverejnenia: 7. novembra 2022