Meatotino plasma
O le natura o le plasma i le faʻaogaina o le ausa vailaʻau e faʻaleleia e le plasma e faʻalagolago i le malosi o le eletise o le eletise i le plasma e faʻagaoioia ai gaioiga faʻasolosolo i le vaega o le kesi. Talu ai o le plasma o se aofaʻiga o ion, electrons, atoms le mautonu ma molelaʻau, e le faʻaituau eletise i le maualuga o le macroscopic. I totonu o se plasma, o le tele o le malosi o loʻo teuina i totonu ole malosi ole plasma. O le plasma ua muai vaevaeina i le plasma vevela ma le plasma malulu. i le faiga PECVD o le plasma malulu lea e faia e ala i le maualalo o le mamafa o le kasa. O lenei plasma na gaosia e le maualalo o le mamafa o le alu i lalo ifo o nai selau Pa o se plasma kasa e le paleni.
Ole natura ole plasma e fa'apea:
(1) O le fe'avea'i fe'avea'i o le eletise ma ions e sili atu i lo latou fa'atonuga.
(2) O lona ionization faagasologa e masani lava ona mafua mai i le fetoaiga o electrons vave ma mole kesi.
(3) O le averesi o le vevela o le malosi o le eletise e 1 i le 2 poloaiga o le maualuga e sili atu nai lo mea mamafa, e pei o mole, atoms, ions ma radical free.
(4) O le gau o le malosi pe a maeʻa le faʻafefe o electrons ma vaega mamafa e mafai ona totogi mai le eletise eletise i le va o faʻalavelave.
E faigata ona faʻaalia se plasma maualalo le vevela ma se numera laʻititi o faʻamau, aua o se plasma e leai se paleni maualalo i totonu o le PECVD system, lea e le tutusa le vevela eletise Te ma le vevela Tj o vaega mamafa. I le tekonolosi PECVD, o le galuega autu a le plasma o le gaosia lea o ions faʻamalosi ma free-radicals. O nei ions ma free-radicals tali atu i isi ions, atoms ma molelaula i le vaega kesi po o mafua ai le faaleagaina lattice ma faʻamaʻi faʻamaʻi i luga o le substrate, ma o le gaosiga o mea galue o se galuega o le electron density, reactant concentration ma fua faʻatatau. I se isi faaupuga, o le gaosiga o mea faʻamalosi e faʻalagolago i le malosi o le eletise, mamafa o le kesi, ma le fua faʻatatau fua o vaega i le taimi o le faʻalavelave. Aʻo vavae ese le kesi faʻafefe i totonu o le plasma ona o le faʻalavelaveina o eletise eletise maualuga, e mafai ona faʻatoʻilaloina le pa faʻagaoioia o le faʻamaʻi vailaʻau ma mafai ona faʻaitiitia le vevela o le kesi. O le eseesega tele i le va o le PECVD ma le CVD masani o le thermodynamic mataupu faavae o le gaioiga faʻamaʻi e eseese. O le vavaeeseina o mole kesi i totonu o le plasma e le filifilia, o lea o le ata tifaga na teuina e le PECVD e matua ese lava mai le CVD masani. O le vaega tu'ufa'atasiga na gaosia e le PECVD atonu e le'o tu'ufa'atasi tulaga ese, ma o lona fa'avaeina e le toe fa'atapula'aina e le kinetics equilibrium. O le ata tifaga sili ona masani o le tulaga amorphous.
PECVD vaega
(1) Maulalo le vevela vevela.
(2) Faʻaitiitia le faʻalavelave i totonu e mafua mai i le le fetaui o le faʻalauteleina o laina laina o le membrane / mea faʻavae.
(3) O le fua faatatau o le teuina e fai si maualuga, aemaise lava le maualalo o le vevela, lea e mafai ona maua ai ata amorphous ma microcrystalline.
Ona o le tulaga maualalo o le vevela o le PECVD, e mafai ona faʻaitiitia le faʻaleagaina o le vevela, fefaʻasoaaʻi faʻatasi ma le tali i le va o le ata tifaga ma mea faʻapipiʻi e mafai ona faʻaitiitia, ma isi mea, ina ia mafai ona faʻapipiʻiina mea faʻaeletoroni aʻo leʻi faia pe ona o le manaʻomia mo le toe faʻaleleia. Mo le gaosiga o ultra-large scale integrated circuits (VLSI, ULSI), PECVD tekinolosi ua faʻaaogaina ma le manuia i le faʻavaeina o le silicon nitride film (SiN) e avea ma ata puipui mulimuli ina ua maeʻa le faʻavaeina o le Al electrode wiring, faʻapea foʻi ma le faʻamafolaina ma le faʻavaeina o le kasa oxide ata e pei o le interlayer insulation. I le avea ai ma masini manifinifi, ua faʻaaogaina foi ma le manuia le tekonolosi PECVD i le gaosiga o transistors manifinifi (TFTs) mo faʻaaliga LCD, ma isi, faʻaaogaina tioata e fai ma sui i le auala matrix galue. Faatasi ai ma le atinaʻeina o fesoʻotaʻiga tuʻufaʻatasia i le lapoʻa tele ma le maualuga o le tuʻufaʻatasia ma le faʻaogaina lautele o masini semiconductor faʻapipiʻi, e manaʻomia le PECVD e faia i le maualalo o le vevela ma le maualuga o le eletise eletise. Ina ia ausia lenei manaʻoga, e tatau ona atiaʻe tekinolosi e mafai ona tuʻufaʻatasia ata mafolafola maualuga i le vevela maualalo. O ata o le SiN ma le SiOx na suʻesuʻeina tele i le faʻaaogaina o le ECR plasma ma se tekonolosi fou a le plasma chemical vapor deposition (PCVD) faʻatasi ai ma se plasma helical, ma ua oʻo i se tulaga faʻapitoa i le faʻaogaina o ata faʻapipiʻi interlayer mo le tele o lapopoa faʻatasi, ma isi.
Taimi meli: Nov-08-2022