ଗୁଆଙ୍ଗଡଙ୍ଗ ଜେନହୁଆ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କୋ।, ଲିମିଟେଡ୍ କୁ ସ୍ Welcome ାଗତ |
single_banner

ପ୍ଲାଜ୍ମା ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​ବୃଦ୍ଧି |

ପ୍ରବନ୍ଧ ଉତ୍ସ: ଜେନହୁଆ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ |
ପ Read ଼ନ୍ତୁ: ୧୦
ପ୍ରକାଶିତ: 22-11-08

ପ୍ଲାଜ୍ମା ଗୁଣ |
ପ୍ଲାଜ୍ମା-ବର୍ଦ୍ଧିତ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଡିପୋଜୋନ୍ରେ ପ୍ଲାଜ୍ମା ର ପ୍ରକୃତି ହେଉଛି ଯେ ଏହା ଗ୍ୟାସ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ସକ୍ରିୟ କରିବା ପାଇଁ ପ୍ଲାଜ୍ମାରେ ଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ୍ର ଗତିଜ ଶକ୍ତି ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ |ଯେହେତୁ ପ୍ଲାଜମା ଆୟନ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍, ନିରପେକ୍ଷ ପରମାଣୁ ଏବଂ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ସଂଗ୍ରହ ଅଟେ, ଏହା ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ସ୍ତରରେ ବ r ଦୁତିକ ଭାବରେ ନିରପେକ୍ଷ |ଏକ ପ୍ଲାଜାରେ, ବହୁ ପରିମାଣର ଶକ୍ତି ପ୍ଲାଜାର ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଶକ୍ତିରେ ଗଚ୍ଛିତ ହୁଏ |ପ୍ଲାଜ୍ମା ମୂଳତ hot ଗରମ ପ୍ଲାଜ୍ମା ଏବଂ କୋଲ୍ଡ ପ୍ଲାଜ୍ମା ରେ ବିଭକ୍ତ |PECVD ସିଷ୍ଟମରେ ଏହା ଶୀତଳ ପ୍ଲାଜମା ଯାହା ନିମ୍ନ ଚାପ ଗ୍ୟାସ୍ ନିଷ୍କାସନ ଦ୍ୱାରା ଗଠିତ |ଅଳ୍ପ ଶହେ ପା ତଳେ ଏକ ନିମ୍ନ ଚାପ ନିଷ୍କାସନ ଦ୍ୱାରା ଉତ୍ପାଦିତ ଏହି ପ୍ଲାଜ୍ମା ଏକ ଅସନ୍ତୁଳିତ ଗ୍ୟାସ ପ୍ଲାଜ୍ମା |
ଏହି ପ୍ଲାଜାର ପ୍ରକୃତି ନିମ୍ନଲିଖିତ ଅଟେ:
(1) ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଆୟନର ଅନିୟମିତ ତାପଜ ଗତି ସେମାନଙ୍କ ନିର୍ଦ୍ଦେଶିତ ଗତିଠାରୁ ଅଧିକ |
(୨) ଏହାର ଆୟନାଇଜେସନ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମୁଖ୍ୟତ gas ଗ୍ୟାସ୍ ଅଣୁ ସହିତ ଦ୍ରୁତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଧକ୍କା ହେତୁ ହୋଇଥାଏ |
()) ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକର ହାରାହାରି ତାପଜ ଗତି ଶକ୍ତି ହେଉଛି ଅଣୁ, ପରମାଣୁ, ଆୟନ ଏବଂ ମୁକ୍ତ ରେଡିକାଲ ପରି ଭାରୀ କଣିକା ତୁଳନାରେ 1 ରୁ 2 ଅର୍ଡର ଅଧିକ |
(4) ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଏବଂ ଭାରୀ କଣିକାର ଧକ୍କା ପରେ ଶକ୍ତି କ୍ଷୟକୁ ଧକ୍କା ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ବ electric ଦ୍ୟୁତିକ କ୍ଷେତ୍ରରୁ କ୍ଷତିପୂରଣ ଦିଆଯାଇପାରେ |
ଅଳ୍ପ ସଂଖ୍ୟକ ପାରାମିଟର ସହିତ ଏକ ନିମ୍ନ-ତାପମାତ୍ରା ଅସନ୍ତୁଳନ ପ୍ଲାଜମାକୁ ବର୍ଣ୍ଣିତ କରିବା କଷ୍ଟକର, କାରଣ ଏହା ଏକ PECVD ସିଷ୍ଟମରେ ଏକ ନିମ୍ନ-ତାପମାତ୍ରା ଅସନ୍ତୁଳନ ପ୍ଲାଜମା, ଯେଉଁଠାରେ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ତାପମାତ୍ରା Te ଭାରୀ କଣିକାର ତାପମାତ୍ରା Tj ସହିତ ସମାନ ନୁହେଁ |PECVD ଟେକ୍ନୋଲୋଜିରେ, ପ୍ଲାଜାର ପ୍ରାଥମିକ କାର୍ଯ୍ୟ ହେଉଛି ରାସାୟନିକ ଭାବରେ ସକ୍ରିୟ ଆୟନ ଏବଂ ଫ୍ରି-ରେଡିକାଲ୍ ଉତ୍ପାଦନ |ଏହି ଆୟନ ଏବଂ ଫ୍ରି-ରେଡିକାଲ୍ ଗ୍ୟାସ୍ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ଅନ୍ୟ ଆୟନ, ପରମାଣୁ ଏବଂ ଅଣୁ ସହିତ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରନ୍ତି କିମ୍ବା ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଲାଟାଇସ୍ କ୍ଷତି ଏବଂ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ସୃଷ୍ଟି କରନ୍ତି, ଏବଂ ସକ୍ରିୟ ପଦାର୍ଥର ଅମଳ ହେଉଛି ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା, ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଏକାଗ୍ରତା ଏବଂ ଅମଳ କୋଏଫିସିଣ୍ଟେଣ୍ଟ୍ |ଅନ୍ୟ ଅର୍ଥରେ, ସକ୍ରିୟ ପଦାର୍ଥର ଅମଳ ବିଦ୍ୟୁତ୍ କ୍ଷେତ୍ରର ଶକ୍ତି, ଗ୍ୟାସ୍ ଚାପ ଏବଂ ଧକ୍କା ସମୟରେ କଣିକାର ହାରାହାରି ମୁକ୍ତ ପରିସର ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ |ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ବିଶିଷ୍ଟ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନଗୁଡିକର ଧକ୍କା ହେତୁ ପ୍ଲାଜାରେ ଥିବା ରିଆକ୍ଟାଣ୍ଟ ଗ୍ୟାସ୍ ବିଚ୍ଛିନ୍ନ ହୋଇଥିବାରୁ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର ସକ୍ରିୟତା ପ୍ରତିବନ୍ଧକ ଦୂର ହୋଇପାରିବ ଏବଂ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଗ୍ୟାସର ତାପମାତ୍ରା ହ୍ରାସ ହୋଇପାରେ |PECVD ଏବଂ ପାରମ୍ପାରିକ CVD ମଧ୍ୟରେ ମୁଖ୍ୟ ପାର୍ଥକ୍ୟ ହେଉଛି ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାର ଥର୍ମୋଡାଇନାମିକ୍ ନୀତି ଭିନ୍ନ |ପ୍ଲାଜାମାରେ ଗ୍ୟାସ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ବିଚ୍ଛେଦ ଅଣ-ଚୟନକାରୀ, ତେଣୁ PECVD ଦ୍ୱାରା ଜମା ହୋଇଥିବା ଫିଲ୍ମ ସ୍ତର ପାରମ୍ପାରିକ CVD ଠାରୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭିନ୍ନ |PECVD ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ରଚନା ଅଣ-ସନ୍ତୁଳନ ଅନନ୍ୟ ହୋଇପାରେ, ଏବଂ ଏହାର ଗଠନ ଆଉ ସନ୍ତୁଳନ ଗତିଜ ଦ୍ୱାରା ସୀମିତ ନୁହେଁ |ସବୁଠାରୁ ସାଧାରଣ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସ୍ତର ହେଉଛି ଆମୋରଫସ୍ ସ୍ଥିତି |

ପ୍ଲାଜ୍ମା ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​ବୃଦ୍ଧି |

PECVD ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ
(1) ନିମ୍ନ ଜମା ତାପମାତ୍ରା |
()) ମେମ୍ବ୍ରେନ୍ / ବେସ୍ ସାମଗ୍ରୀର ର ar ଖ୍ୟ ବିସ୍ତାର କୋଏଫିସିଣ୍ଟେଣ୍ଟର ମେଳ ନହେବା ଦ୍ୱାରା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଚାପକୁ ହ୍ରାସ କର |
()) ଜମା ହାର ଅପେକ୍ଷାକୃତ ଅଧିକ, ବିଶେଷତ low ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ଜମା, ଯାହା ଆମୋରଫସ୍ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋକ୍ରିଷ୍ଟାଲାଇନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପାଇବା ପାଇଁ ଅନୁକୂଳ ଅଟେ |

PECVD ର ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରକ୍ରିୟା ହେତୁ, ତାପଜ କ୍ଷତି ହ୍ରାସ ହୋଇପାରେ, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସ୍ତର ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ମଧ୍ୟରେ ପାରସ୍ପରିକ ବିସ୍ତାର ଏବଂ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ହ୍ରାସ ହୋଇପାରେ, ଯାହା ଦ୍ electronic ାରା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ତିଆରି ହେବା ପୂର୍ବରୁ କିମ୍ବା ଆବଶ୍ୟକତା ହେତୁ ଆବୃତ ହୋଇପାରିବ | ପୁନ work କାର୍ଯ୍ୟ ପାଇଁଅଲ୍ଟ୍ରା-ବୃହତ ସ୍କେଲ୍ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ (VLSI, ULSI) ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ, PECVD ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ସଫଳତାର ସହିତ ସିଲିକନ୍ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍ ଫିଲ୍ମ (ସିଏନ୍) ଗଠନରେ ଅଲ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ତାରର ଗଠନ ପରେ ଚୂଡ଼ାନ୍ତ ପ୍ରତିରକ୍ଷା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଭାବରେ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ | ଇଣ୍ଟରଲେୟର ଇନସୁଲେସନ୍ ଭାବରେ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ଫିଲ୍ମର ଗଠନ |ପତଳା-ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଉପକରଣ ଭାବରେ, ସକ୍ରିୟ ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସ ପଦ୍ଧତିରେ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଭାବରେ ଗ୍ଲାସ୍ ବ୍ୟବହାର କରି LCD ପ୍ରଦର୍ଶନ ଇତ୍ୟାଦି ପାଇଁ ପତଳା-ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଟ୍ରାନଜିଷ୍ଟର (TFT) ଉତ୍ପାଦନରେ PECVD ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ମଧ୍ୟ ସଫଳତାର ସହିତ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଇଛି |ବୃହତ ମାପ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଏକୀକରଣ ପାଇଁ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ର ବିକାଶ ଏବଂ ଯ ound ଗିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର ବହୁଳ ବ୍ୟବହାର ସହିତ, PECVD ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଶକ୍ତି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ କରାଯିବା ଆବଶ୍ୟକ |ଏହି ଆବଶ୍ୟକତାକୁ ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ, ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଯାହା ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରାରେ ଅଧିକ ଫ୍ଲାଟନେସ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରକୁ ସିନ୍ଥାଇଜ୍ କରିପାରିବ |ଏକ ହେଲିକାଲ୍ ପ୍ଲାଜ୍ମା ସହିତ ECR ପ୍ଲାଜ୍ମା ଏବଂ ଏକ ନୂତନ ପ୍ଲାଜ୍ମା ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଡିପୋଜୋନ୍ (PCVD) ଟେକ୍ନୋଲୋଜିକୁ ବ୍ୟବହାର କରି ସିଏନ୍ ଏବଂ ସିଓଏକ୍ସ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଗୁଡ଼ିକ ବିସ୍ତୃତ ଭାବେ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଛି ଏବଂ ବଡ଼ ଆକାରର ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଇତ୍ୟାଦି ପାଇଁ ଇଣ୍ଟରଲେୟାର ଇନସୁଲେସନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ବ୍ୟବହାରରେ ଏକ ପ୍ରାକ୍ଟିକାଲ୍ ସ୍ତରରେ ପହ have ୍ଚିଛି |


ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ନଭେମ୍ବର -08-2022 |