Výkon rôznych vákuových vývev sa líši okrem schopnosti pumpovať vákuum do komory aj inak. Preto je pri výbere veľmi dôležité objasniť prácu, ktorú výveva vykonáva vo vákuovom systéme, a úloha, ktorú výveva zohráva v rôznych pracovných oblastiach, je zhrnutá nasledovne.
1. Ako hlavné čerpadlo v systéme
Hlavné čerpadlo je vákuové čerpadlo, ktoré priamo pumpuje čerpanú komoru vákuového systému, aby sa dosiahol stupeň vákua potrebný na splnenie procesných požiadaviek.
2. Čerpadlo na hrubé čerpanie
Hrubé čerpacie čerpadlo je vákuové čerpadlo, ktoré začína znižovať tlak vzduchu a tlak vákuového systému dosahuje iný čerpací systém, ktorý môže začať pracovať.
3. Predbežné čerpadlo
Predbežné čerpadlo je vákuové čerpadlo používané na udržiavanie predbežného tlaku iného čerpadla pod jeho najvyšším povoleným predbežným tlakom.
4. Zádržné čerpadlo
Zádržné čerpadlo je čerpadlo, ktoré nedokáže efektívne využiť hlavné predbežné čerpadlo, keď je čerpanie vákuového systému veľmi malé. Z tohto dôvodu sa vo vákuovom systéme používa iný druh pomocného predbežného čerpadla s nižšou čerpacou rýchlosťou, aby sa udržala normálna prevádzka hlavného čerpadla alebo aby sa udržal nízky tlak potrebný pre vyprázdnenú nádobu.
5. Hrubé vákuové čerpadlo alebo nízkovákuové čerpadlo
Hrubé alebo nízke vákuové čerpadlo je vákuové čerpadlo, ktoré začína so vzduchom a pracuje v rozsahu nízkeho alebo hrubého vákuového tlaku po znížení tlaku v čerpanej nádobe.
6. Vysokovákuové čerpadlo
Vysokovýkuové čerpadlo označuje vákuové čerpadlo pracujúce vo vysokom vákuovom rozsahu.
7, Ultravysoké vákuové čerpadlo
Ultravysoké vákuové čerpadlo označuje vákuové čerpadlo pracujúce v rozsahu ultravysokého vákua.
8. Posilňovacie čerpadlo
Posilňovacie čerpadlo sa zvyčajne vzťahuje na vákuové čerpadlo, ktoré pracuje medzi nízkovákuovým čerpadlom a vysokovákuovým čerpadlom, aby sa zvýšila čerpacia kapacita čerpacieho systému v strednom tlakovom rozsahu alebo aby sa znížila požiadavka na čerpaciu rýchlosť predchádzajúceho čerpadla.
Úvod do iónového čističa
Plazmový čistič
1. Plazma je ionizovaný plyn, v ktorom sú hustoty kladných iónov a elektrónov približne rovnaké. Skladá sa z iónov, elektrónov, voľných radikálov a neutrálnych častíc.
2. Je to štvrté skupenstvo hmoty. Keďže plazma je kombináciou vyššej energie ako plyn, látka v plazmovom prostredí môže získať viac fyzikálno-chemických a iných reakčných charakteristík.
3. Mechanizmus plazmového čistiaceho stroja spočíva v tom, že sa na odstránenie povrchových škvŕn spolieha na „aktivačný efekt“ materiálu v „plazmovom stave“.
4. Plazmové čistenie je tiež najbezodním spôsobom odstraňovania spomedzi všetkých čistiacich metód. Môže sa široko používať v polovodičových, mikroelektronických, COG, LCD, LCM a LED procesoch.
5. Presné čistenie pred balením zariadení, vákuová elektronika, konektory a relé, solárny fotovoltaický priemysel, čistenie plastových, gumových, kovových a keramických povrchov, leptanie, spopolňovanie, aktivácia povrchu a ďalšie oblasti experimentov v oblasti biologických vied.
Čas uverejnenia: 7. novembra 2022