Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
စာမျက်နှာ_ဘန်နာ

သတင်းများ

  • စပန့်တာ ဖုန်စုပ်ကော်စက်

    sputtering vacuum coater ဆိုသည်မှာ substrate ပေါ်တွင် ပစ္စည်းအလွှာပါးများ ကပ်ရန်အသုံးပြုသော ကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်ကို semiconductor များ၊ solar cell များနှင့် optical နှင့် electronic application များအတွက် coating အမျိုးအစားအမျိုးမျိုး ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးများသည်။ ၎င်း၏အလုပ်လုပ်ပုံ အခြေခံအကျဉ်းချုပ်မှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်။ ၁။V...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဖုန်စုပ်အလွှာစနစ်မိတ်ဆက်

    ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာစနစ်ဆိုသည်မှာ ဖုန်စုပ်ပတ်ဝန်းကျင်ရှိ မျက်နှာပြင်တစ်ခုပေါ်တွင် ပါးလွှာသောအလွှာ သို့မဟုတ် အပေါ်ယံလွှာတစ်ခု လိမ်းရန်အသုံးပြုသည့် နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည် အီလက်ထရွန်းနစ်၊ မှန်ဘီလူး၊ မော်တော်ကားနှင့် အာကာသယာဉ်ကဲ့သို့သော စက်မှုလုပ်ငန်းအမျိုးမျိုးတွင် အရေးပါသော အရည်အသွေးမြင့်မားသော၊ တစ်ပြေးညီဖြစ်ပြီး တာရှည်ခံသော အပေါ်ယံလွှာကို သေချာစေသည်။ မတူညီသော ...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • sputtering optical in-line vacuum coating systems ဆိုတာဘာလဲ။

    မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတ္တာရင်း အလင်းတန်းဗန်းအပေါ်ယံလွှာစနစ်များသည် အမျိုးမျိုးသော အောက်ခံအလွှာများပေါ်တွင် ပါးလွှာသောဖလင်များကို ကပ်ရန်အသုံးပြုသည့် အဆင့်မြင့်နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်ပြီး အလင်းပညာ၊ အီလက်ထရွန်းနစ်နှင့် ပစ္စည်းသိပ္ပံကဲ့သို့သော စက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် အသုံးများသည်။ အောက်ပါတို့သည် အသေးစိတ်ခြုံငုံသုံးသပ်ချက်ဖြစ်သည်- အစိတ်အပိုင်းများနှင့် အင်္ဂါရပ်များ- ၁...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • စိန်ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာ - အခန်း ၂

    စိန်ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာ - အခန်း ၂

    (၃) ရေဒီယိုလှိုင်း ပလာစမာ CVD (RFCVD) RF ကို capacitive coupling နည်းလမ်းနှင့် inductive coupling နည်းလမ်းဟူ၍ နည်းလမ်းနှစ်မျိုးဖြင့် ပလာစမာထုတ်လုပ်ရန် အသုံးပြုနိုင်သည်။ RF ပလာစမာ CVD သည် 13.56 MHz ကြိမ်နှုန်းကို အသုံးပြုသည်။ RF ပလာစမာ၏ အားသာချက်မှာ မိုက်ခရိုဝေ့ဖ် ပလာစမာထက် များစွာပိုကြီးသော ဧရိယာတွင် ပျံ့နှံ့သွားခြင်းဖြစ်သည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • စိန်ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာ - အခန်း ၁

    စိန်ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာ - အခန်း ၁

    ဖိအားနည်းသော စိန်ကြီးထွားရန် အစောဆုံးနှင့် လူကြိုက်အများဆုံးနည်းလမ်းမှာ ပူပြင်းသော filament CVD ဖြစ်သည်။ ၁၉၈၂ ခုနှစ်တွင် Matsumoto နှင့်အဖွဲ့သည် အပူဒဏ်ခံနိုင်သော သတ္တု filament ကို ၂၀၀၀°C ကျော်အထိ အပူပေးခဲ့ပြီး ထိုအပူချိန်တွင် filament မှတစ်ဆင့် ဖြတ်သန်းသွားသော H2 ဓာတ်ငွေ့သည် ဟိုက်ဒရိုဂျင်အက်တမ်များကို အလွယ်တကူ ထုတ်လုပ်ပေးသည်။ အက်တမ်ဟိုက်ဒရိုဂျင်ထုတ်လုပ်မှုသည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာများ၏ အမျိုးအစားခွဲခြားမှုများကား အဘယ်နည်း။

    ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာနည်းပညာဆိုသည်မှာ ဖုန်စုပ်ပတ်ဝန်းကျင်အောက်ရှိ အောက်ခံပစ္စည်းများ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ပါးလွှာသောဖလင်ပစ္စည်းများကို စုပုံပေးသည့် နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်ပြီး အီလက်ထရွန်းနစ်၊ မှန်ဘီလူး၊ ထုပ်ပိုးမှု၊ အလှဆင်မှုနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။ ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများကို အဓိကအားဖြင့် အောက်ပါအမျိုးအစားများအဖြစ် ခွဲခြားနိုင်သည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာ၏ကောင်းမွန်သောအမှတ်တံဆိပ်ကိုမည်သို့ရွေးချယ်ရမည်နည်း။

    ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာသည် ဖုန်စုပ်နည်းပညာကို အသုံးပြု၍ မျက်နှာပြင်ပြုပြင်မွမ်းမံသည့် ပစ္စည်းကိရိယာတစ်မျိုးဖြစ်ပြီး အဓိကအားဖြင့် ဖုန်စုပ်ခန်း၊ ဖုန်စုပ်စနစ်၊ အပူအရင်းအမြစ်စနစ်၊ အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းစသည်တို့ ပါဝင်သည်။ လက်ရှိတွင် ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာများကို မော်တော်ကား၊ မိုဘိုင်းဖုန်းများ၊ မှန်ဘီလူးများ၊ စက်ပစ္စည်းများ...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဖုန်စုပ်အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံလွှာနည်းပညာမိတ်ဆက်

    ၁။ vacuum ion coating နည်းပညာ၏ အခြေခံမူ vacuum chamber တွင် vacuum arc discharge နည်းပညာကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် cathode ပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် arc အလင်းကို ထုတ်ပေးပြီး cathode ပစ္စည်းပေါ်တွင် အက်တမ်များနှင့် အိုင်းယွန်းများ ဖွဲ့စည်းစေသည်။ လျှပ်စစ်စက်ကွင်း၏ လုပ်ဆောင်ချက်အောက်တွင် အက်တမ်နှင့် အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်များသည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • Sputtering Coating စက် နည်းပညာဆိုင်ရာ အင်္ဂါရပ်များ

    Vacuum magnetron sputtering သည် reactive deposition coatings များအတွက် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။ အမှန်စင်စစ်၊ ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည် မည်သည့် oxide၊ carbide နှင့် nitride ပစ္စည်းများ၏ ပါးလွှာသောဖလင်များကိုမဆို deposition လုပ်နိုင်သည်။ ထို့အပြင်၊ ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည် opti... အပါအဝင် multilayer film structures များ၏ deposition အတွက်လည်း အထူးသင့်လျော်ပါသည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • DLC နည်းပညာမိတ်ဆက်

    “DLC ဆိုသည်မှာ “DIAMOND-LIKE CARBON” ဟူသော စကားလုံး၏ အတိုကောက်ဖြစ်ပြီး စိန်နှင့် သဘောသဘာဝဆင်တူသော ကာဗွန်ဒြပ်စင်များဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားပြီး ဂရပ်ဖိုက်အက်တမ်များ၏ ဖွဲ့စည်းပုံရှိသည်။ Diamond-Like Carbon (DLC) သည် tribological commu ၏ အာရုံကို ဆွဲဆောင်ခဲ့သော amorphous film တစ်ခုဖြစ်သည်။”
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • စိန်ဖလင်များ၏ ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အသုံးချမှုများ အခန်း ၂

    စိန်ဖလင်များ၏ ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အသုံးချမှုများ အခန်း ၂

    စိန်ဖလင်များ၏ လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အသုံးချမှုများ စိန်တွင် တားမြစ်ထားသော bandwidth၊ မြင့်မားသော carrier mobility၊ ကောင်းမွန်သော thermal conductivity၊ မြင့်မားသော saturation electron drift rate၊ သေးငယ်သော dielectric constant၊ မြင့်မားသော breakdown voltage နှင့် electron hole mobility စသည်တို့ ရှိသည်။ ၎င်း၏ breakdown voltage သည် နှစ်ခု သို့မဟုတ် နှစ်ခု...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • စိန်ဖလင်များ၏ ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အသုံးချမှုများ အခန်း ၁

    စိန်ဖလင်များ၏ ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် အသုံးချမှုများ အခန်း ၁

    ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ ခိုင်မာသော ပေါင်းစပ်မှုဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသော စိန်တွင် အထူးစက်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် ပျော့ပြောင်းနိုင်သော ဂုဏ်သတ္တိများ ရှိသည်။ စိန်၏ မာကျောမှု၊ သိပ်သည်းဆနှင့် အပူစီးကူးနိုင်စွမ်းတို့သည် လူသိများသော ပစ္စည်းများတွင် အမြင့်ဆုံးဖြစ်သည်။ စိန်သည် မည်သည့်ပစ္စည်းထက်မဆို အမြင့်ဆုံး modulus of elasticity ရှိသည်။ စိန်၏ ပွတ်တိုက်မှုကိန်းဂဏန်း ...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဆိုလာဆဲလ်အမျိုးအစား အခန်း ၂

    ဆိုလာဆဲလ်အမျိုးအစား အခန်း ၂

    ဂယ်လီယမ် အာဆင်းနိုက် (GaAs) III ~ V ဒြပ်ပေါင်းဘက်ထရီ ပြောင်းလဲခြင်း စွမ်းဆောင်ရည်သည် ၂၈% အထိရှိပြီး GaAs ဒြပ်ပေါင်းပစ္စည်းသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော optical band gap ရှိသည့်အပြင် စုပ်ယူမှု စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားခြင်း၊ ဓာတ်ရောင်ခြည်ဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း၊ အပူဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်မရှိခြင်း၊ မြင့်မားသော စွမ်းဆောင်ရည်ရှိသော single-junction b များ ထုတ်လုပ်ရန် သင့်လျော်ခြင်း...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဆိုလာဆဲလ်အမျိုးအစား အခန်း ၁

    ဆိုလာဆဲလ်အမျိုးအစား အခန်း ၁

    ဆိုလာဆဲလ်များကို တတိယမျိုးဆက်အထိ တီထွင်ထုတ်လုပ်ထားပြီး ပထမမျိုးဆက်မှာ monocrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များဖြစ်ပြီး ဒုတိယမျိုးဆက်မှာ amorphous silicon နှင့် polycrystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များဖြစ်ကာ တတိယမျိုးဆက်မှာ copper-steel-gallium-selenide (CIGS) များကို ကိုယ်စားပြုပါသည်။
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
  • ဖလင်အလွှာ၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာခိုင်ခံ့မှုကို မြှင့်တင်ရန် လုပ်ငန်းစဉ်နည်းလမ်းများ

    ဖလင်အလွှာ၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာခိုင်ခံ့မှုကို မြှင့်တင်ရန် လုပ်ငန်းစဉ်နည်းလမ်းများ

    အမြှေးပါးအလွှာ၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများကို ကပ်ငြိမှု၊ ဖိစီးမှု၊ စုစည်းမှုသိပ်သည်းဆ စသည်တို့က သက်ရောက်မှုရှိသည်။ အမြှေးပါးအလွှာပစ္စည်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အချက်များအကြား ဆက်နွယ်မှုမှ အမြှေးပါးအလွှာ၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာအစွမ်းသတ္တိကို မြှင့်တင်လိုပါက အာရုံစိုက်သင့်ကြောင်း တွေ့မြင်နိုင်သည်...
    ပိုပြီးဖတ်ပါ
<< < ယခင်9101112131415နောက်တစ်ခု >>> စာမျက်နှာ ၁၂ / ၃၀