Aféierung an d'Geschicht vun der Entwécklung vun der Verdampfungstechnologie

De Prozess fir fest Materialien an enger Héichvakuumumgebung ze erhëtzen, fir se ze subliméieren oder ze verdampfen, an se op engem spezifesche Substrat ofzesetzen, fir e dënne Film ze kréien, ass bekannt als Vakuumverdampfungsbeschichtung (bezeechent als Verdampfungsbeschichtung).

D'Geschicht vun der Virbereedung vun Dënnschichten duerch Vakuumverdampfung geet bis an d'1850er Joren zréck. Am Joer 1857 huet den M. Farrar de Versuch ugefaangen, d'Dënnschichten duerch Vakuumbeschichtung ze maachen, andeems Metalldrot a Stéckstoff verdampft goufen, fir dënn Schichte ze bilden. Wéinst der deemoleger Niddervakuumtechnologie war d'Virbereedung vun Dënnschichten op dës Manéier ganz zäitopwänneg an net praktesch. Bis 1930 gouf eng Uelegdiffusiounspompel e mechanescht Pompelsystem entwéckelt, an d'Vakuumtechnologie konnt sech séier weiderentwéckelen, ier d'Verdampfungs- a Sputterbeschichtung eng praktesch Technologie gouf.

Obwuel Vakuumverdampfung eng al Dënnschichtoflagerungstechnologie ass, ass et awer déi heefegst Method a Laboratoiren an Industrieberäicher. Seng Haaptvirdeeler sinn einfach Operatioun, einfach Kontroll vun den Oflagerungsparameteren an héich Rengheet vun de resultéierende Schichten. De Vakuumbeschichtungsprozess kann an déi folgend dräi Schrëtt opgedeelt ginn.

1) d'Quellmaterial gëtt erhëtzt a geschmolz fir ze verdampfen oder ze subliméieren; 2) den Damp gëtt aus dem Quellmaterial ewechgeholl fir ze verdampfen oder ze subliméieren.

2) Damp gëtt vum Quellmaterial op de Substrat iwwerdroen.

3) Den Damp kondenséiert op der Substratoberfläche a bildt e feste Film.

Vakuumverdampfung vun dënne Schichten, meeschtens polykristalline Filmer oder amorphe Filmer, ass dominant Film-zu-Insel-Wuesstum, duerch déi zwee Prozesser vun der Keimbildung a Filmbildung. Verdampft Atomer (oder Molekülle) kollidéieren mam Substrat, deelweis fir eng permanent Uschloss un de Substrat, deelweis fir d'Adsorptioun an dann d'Verdampfung vum Substrat, an deelweis fir d'direkt Reflexioun vun der Substratoberfläch. D'Adhäsioun vun den Atomer (oder Molekülle) un d'Substratoberfläch duerch thermesch Bewegung kann sech laanscht d'Uewerfläch beweegen, sou wéi d'Beréierung vun aneren Atomer, déi sech zu Cluster sammelen. Cluster entstinn am wahrscheinlechsten do wou d'Spannung op der Substratoberfläch héich ass, oder an de Solvatatiounsschrëtt vum Kristallsubstrat, well dëst d'fräi Energie vun den adsorbéierten Atomer miniméiert. Dëst ass de Keimbildungsprozess. Weider Oflagerung vun Atomer (Molekülle) féiert zu der Expansioun vun den uewe genannten inselfërmegen Cluster (Kären), bis se zu engem kontinuéierleche Film ausgedehnt sinn. Dofir sinn d'Struktur an d'Eegeschafte vu vakuumverdampften polykristalline Filmer enk mat der Verdampfungsquote an der Substrattemperatur verbonnen. Allgemeng gesot, wat méi niddreg d'Substrattemperatur ass, wat méi héich d'Verdampfungsquote ass, wat méi fein a méi dicht d'Filmerkorrel ass.

– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua