ಗೇರ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ

PVD ಠೇವಣಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಹಲವು ವರ್ಷಗಳಿಂದ ಹೊಸ ಮೇಲ್ಮೈ ಮಾರ್ಪಾಡು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿ ಅಭ್ಯಾಸ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತಿದೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ನಿರ್ವಾತ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ, ಇದು ಇತ್ತೀಚಿನ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಗಳಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಈಗ ಉಪಕರಣಗಳು, ಅಚ್ಚುಗಳು, ಪಿಸ್ಟನ್ ಉಂಗುರಗಳು, ಗೇರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಘಟಕಗಳ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿದೆ. ನಿರ್ವಾತ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾದ ಲೇಪಿತ ಗೇರ್‌ಗಳು ಘರ್ಷಣೆ ಗುಣಾಂಕವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಉಡುಗೆ-ವಿರೋಧಿ ಮತ್ತು ಕೆಲವು ತುಕ್ಕು-ವಿರೋಧಿಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಗೇರ್ ಮೇಲ್ಮೈ ಬಲಪಡಿಸುವ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಸಂಶೋಧನೆಯ ಕೇಂದ್ರಬಿಂದು ಮತ್ತು ಹಾಟ್ ಸ್ಪಾಟ್ ಆಗಿ ಮಾರ್ಪಟ್ಟಿದೆ.

ಗೇರ್‌ಗಳಿಗೆ ಬಳಸುವ ಸಾಮಾನ್ಯ ವಸ್ತುಗಳು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ನಕಲಿ ಉಕ್ಕು, ಎರಕಹೊಯ್ದ ಉಕ್ಕು, ಎರಕಹೊಯ್ದ ಕಬ್ಬಿಣ, ನಾನ್-ಫೆರಸ್ ಲೋಹಗಳು (ತಾಮ್ರ, ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ) ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್‌ಗಳು. ಉಕ್ಕು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ 45 ಉಕ್ಕು, 35SiMn, 40Cr, 40CrNi, 40MnB, 38CrMoAl. ಕಡಿಮೆ ಇಂಗಾಲದ ಉಕ್ಕನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ 20Cr, 20CrMnTi, 20MnB, 20CrMnTo ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಉತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯಿಂದಾಗಿ ನಕಲಿ ಉಕ್ಕನ್ನು ಗೇರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಎರಕಹೊಯ್ದ ಉಕ್ಕನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 400mm ವ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಯೊಂದಿಗೆ ಗೇರ್‌ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಎರಕಹೊಯ್ದ ಕಬ್ಬಿಣದ ಗೇರ್‌ಗಳು ಅಂಟು ಮತ್ತು ಪಿಟ್ಟಿಂಗ್ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ವಿರೋಧಿಸುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಪ್ರಭಾವ ಮತ್ತು ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧದ ಕೊರತೆ, ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಸ್ಥಿರ ಕೆಲಸಕ್ಕಾಗಿ, ಶಕ್ತಿಯು ಕಡಿಮೆ ವೇಗ ಅಥವಾ ದೊಡ್ಡ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ಸಂಕೀರ್ಣ ಆಕಾರವಲ್ಲ, ನಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯ ಕೊರತೆಯ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಕೆಲಸ ಮಾಡಬಹುದು, ಮುಕ್ತ ಪ್ರಸರಣಕ್ಕೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ನಾನ್-ಫೆರಸ್ ಲೋಹಗಳು ತವರ ಕಂಚು, ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ-ಕಬ್ಬಿಣ ಕಂಚು ಮತ್ತು ಎರಕಹೊಯ್ದ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ, ಇದನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಟರ್ಬೈನ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಗೇರ್‌ಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಸ್ಲೈಡಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಘರ್ಷಣೆ-ವಿರೋಧಿ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಕಳಪೆಯಾಗಿವೆ, ಹಗುರ, ಮಧ್ಯಮ ಲೋಡ್ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ-ವೇಗದ ಗೇರ್‌ಗಳಿಗೆ ಮಾತ್ರ. ಲೋಹವಲ್ಲದ ವಸ್ತು ಗೇರ್‌ಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ತೈಲ-ಮುಕ್ತ ನಯಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆಯಂತಹ ವಿಶೇಷ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಕೆಲವು ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಗೃಹೋಪಯೋಗಿ ಉಪಕರಣಗಳು, ವೈದ್ಯಕೀಯ ಉಪಕರಣಗಳು, ಆಹಾರ ಯಂತ್ರೋಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಜವಳಿ ಯಂತ್ರೋಪಕರಣಗಳಂತಹ ಕಡಿಮೆ ಮಾಲಿನ್ಯದಂತಹ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳ ಕ್ಷೇತ್ರ.

ಗೇರ್ ಲೇಪನ ಸಾಮಗ್ರಿಗಳು

ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಅತ್ಯಂತ ಭರವಸೆಯ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿವೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಶಾಖ ನಿರೋಧಕತೆ, ಕಡಿಮೆ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಪ್ರತಿರೋಧ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಖ್ಯೆಯ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳು ಅಂತರ್ಗತವಾಗಿ ಶಾಖ ನಿರೋಧಕವಾಗಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಲೋಹಗಳ ಮೇಲೆ ಕಡಿಮೆ ಉಡುಗೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಿವೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಭಾಗಗಳಿಗೆ ಲೋಹದ ವಸ್ತುಗಳ ಬದಲಿಗೆ ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳ ಬಳಕೆಯು ಘರ್ಷಣೆ ಉಪದ ಜೀವಿತಾವಧಿಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು, ಕೆಲವು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ವಸ್ತುಗಳು, ಬಹು-ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮತ್ತು ಇತರ ಕಠಿಣ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಬಹುದು. ಪ್ರಸ್ತುತ, ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಎಂಜಿನ್ ಶಾಖ-ನಿರೋಧಕ ಭಾಗಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ, ಉಡುಗೆ ಭಾಗಗಳಲ್ಲಿ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಪ್ರಸರಣ, ತುಕ್ಕು-ನಿರೋಧಕ ಭಾಗಗಳಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಸೀಲಿಂಗ್ ಭಾಗಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿದೆ, ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳ ನಿರೀಕ್ಷೆಗಳ ವ್ಯಾಪಕ ಅನ್ವಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.

ಜರ್ಮನಿ, ಜಪಾನ್, ಯುನೈಟೆಡ್ ಸ್ಟೇಟ್ಸ್, ಯುನೈಟೆಡ್ ಕಿಂಗ್‌ಡಮ್ ಮತ್ತು ಇತರ ದೇಶಗಳಂತಹ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಹೊಂದಿದ ದೇಶಗಳು ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಮತ್ತು ಅನ್ವಯಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಾಮುಖ್ಯತೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತವೆ, ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಸೆರಾಮಿಕ್‌ಗಳ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಸಿದ್ಧಾಂತ ಮತ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲು ಸಾಕಷ್ಟು ಹಣ ಮತ್ತು ಮಾನವಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೂಡಿಕೆ ಮಾಡುತ್ತವೆ. ಜರ್ಮನಿ “SFB442″ ಎಂಬ ಕಾರ್ಯಕ್ರಮವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದೆ, ಇದರ ಉದ್ದೇಶವೆಂದರೆ ಪರಿಸರ ಮತ್ತು ಮಾನವ ದೇಹಕ್ಕೆ ಹಾನಿಕಾರಕವಾದ ನಯಗೊಳಿಸುವ ಮಾಧ್ಯಮವನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಲು ಭಾಗಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸೂಕ್ತವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸಲು PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸುವುದು. ಜರ್ಮನಿಯ PW ಗೋಲ್ಡ್ ಮತ್ತು ಇತರರು SFB442 ನಿಂದ ಹಣವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ರೋಲಿಂಗ್ ಬೇರಿಂಗ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಿದರು ಮತ್ತು ರೋಲಿಂಗ್ ಬೇರಿಂಗ್‌ಗಳ ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ತೀವ್ರ ಒತ್ತಡದ ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳ ಕಾರ್ಯವನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು ಎಂದು ಕಂಡುಕೊಂಡರು. ಜರ್ಮನಿಯಲ್ಲಿ ಜೋಕಿಮ್, ಫ್ರಾಂಜ್ ಮತ್ತು ಇತರರು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಯಾಸ-ನಿರೋಧಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುವ WC/C ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸಿದರು, EP ಸೇರ್ಪಡೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಲೂಬ್ರಿಕಂಟ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನದು, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಹಾನಿಕಾರಕ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳನ್ನು ಲೇಪನಗಳೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಯಿಸುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಇದೇ ರೀತಿ ನೀಡುತ್ತದೆ. DFG (ಜರ್ಮನ್ ಸಂಶೋಧನಾ ಆಯೋಗ) ದಿಂದ ನಿಧಿಯೊಂದಿಗೆ ಜರ್ಮನಿಯ ಆಚೆನ್‌ನ ತಾಂತ್ರಿಕ ವಿಶ್ವವಿದ್ಯಾಲಯದ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್ ಸೈನ್ಸ್ ಸಂಸ್ಥೆಯ E. Lugscheider ಮತ್ತು ಇತರರು, PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು 100Cr6 ಉಕ್ಕಿನ ಮೇಲೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಆಯಾಸ ನಿರೋಧಕತೆಯಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಹೆಚ್ಚಳವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿದರು. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಯುನೈಟೆಡ್ ಸ್ಟೇಟ್ಸ್ ಜನರಲ್ ಆಯಾಸ ಪಿಟಿಂಗ್ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮೋಟಾರ್ಸ್ ತನ್ನ VolvoS80Turbo ಮಾದರಿಯ ಕಾರ್ ಗೇರ್ ಮೇಲ್ಮೈ ಶೇಖರಣಾ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದೆ; ಪ್ರಸಿದ್ಧ ಟಿಮ್ಕೆನ್ ಕಂಪನಿಯು ES200 ಗೇರ್ ಮೇಲ್ಮೈ ಫಿಲ್ಮ್ ಎಂಬ ಹೆಸರನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿದೆ; ನೋಂದಾಯಿತ ಟ್ರೇಡ್‌ಮಾರ್ಕ್ MAXIT ಗೇರ್ ಲೇಪನ ಜರ್ಮನಿಯಲ್ಲಿ ಕಾಣಿಸಿಕೊಂಡಿದೆ; ನೋಂದಾಯಿತ ಟ್ರೇಡ್‌ಮಾರ್ಕ್ Graphit-iC ಮತ್ತು Dymon-iC ಕ್ರಮವಾಗಿ ನೋಂದಾಯಿತ ಟ್ರೇಡ್‌ಮಾರ್ಕ್ Graphit-iC ಮತ್ತು Dymon-iC ಗೇರ್ ಲೇಪನಗಳು UK ಯಲ್ಲಿ ಲಭ್ಯವಿದೆ.

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಪ್ರಸರಣದ ಪ್ರಮುಖ ಬಿಡಿಭಾಗಗಳಾಗಿ, ಗೇರ್‌ಗಳು ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಗೇರ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳ ಅನ್ವಯವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡುವುದು ಬಹಳ ಮುಖ್ಯವಾದ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಮಹತ್ವವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಪ್ರಸ್ತುತ, ಗೇರ್‌ಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲಾದ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಪಿಂಗಾಣಿಗಳು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಈ ಕೆಳಗಿನಂತಿವೆ.

1、TiN ಲೇಪನ ಪದರ
1, ಟಿಎನ್

ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ TiN ಸೆರಾಮಿಕ್ ಪದರವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಶಕ್ತಿ, ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆ ಗುಣಾಂಕ, ಉತ್ತಮ ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆ ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಮೇಲ್ಮೈ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಲೇಪನಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಇದನ್ನು ವಿವಿಧ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಉಪಕರಣ ಮತ್ತು ಅಚ್ಚು ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಗೇರ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನದ ಅನ್ವಯದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಮುಖ್ಯ ಕಾರಣವೆಂದರೆ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ನಡುವಿನ ಬಂಧದ ಸಮಸ್ಯೆ. ಗೇರ್‌ಗಳ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುವ ಅಂಶಗಳು ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಅಚ್ಚುಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಜಟಿಲವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಗೇರ್ ಮೇಲ್ಮೈ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯಲ್ಲಿ ಒಂದೇ TiN ಲೇಪನದ ಅನ್ವಯವು ಬಹಳ ಸೀಮಿತವಾಗಿದೆ. ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆ ಗುಣಾಂಕ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆಯ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದರೂ, ಇದು ದುರ್ಬಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ದಪ್ಪವಾದ ಲೇಪನವನ್ನು ಪಡೆಯುವುದು ಕಷ್ಟಕರವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಅದರ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಆಡಲು ಲೇಪನವನ್ನು ಬೆಂಬಲಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ತಲಾಧಾರದ ಅಗತ್ಯವಿದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಮತ್ತು ಹೈ-ಸ್ಪೀಡ್ ಸ್ಟೀಲ್ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸೆರಾಮಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಗೇರ್ ವಸ್ತುವು ಮೃದುವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರ ಮತ್ತು ಲೇಪನದ ಸ್ವರೂಪದ ನಡುವಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ದೊಡ್ಡದಾಗಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಕಳಪೆಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಲೇಪನವು ಲೇಪನವನ್ನು ಬೆಂಬಲಿಸಲು ಸಾಕಾಗುವುದಿಲ್ಲ, ಬಳಕೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಲೇಪನವನ್ನು ಸುಲಭವಾಗಿ ಬೀಳುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನದ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಆಡಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ, ಆದರೆ ಬೀಳುವ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನ ಕಣಗಳು ಗೇರ್‌ನಲ್ಲಿ ಅಪಘರ್ಷಕ ಉಡುಗೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತವೆ, ಗೇರ್‌ನ ಉಡುಗೆ ನಷ್ಟವನ್ನು ವೇಗಗೊಳಿಸುತ್ತವೆ. ಸೆರಾಮಿಕ್ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ನಡುವಿನ ಬಂಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಸಂಯೋಜಿತ ಮೇಲ್ಮೈ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸುವುದು ಪ್ರಸ್ತುತ ಪರಿಹಾರವಾಗಿದೆ. ಸಂಯೋಜಿತ ಮೇಲ್ಮೈ ಚಿಕಿತ್ಸಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣಾ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಇತರ ಮೇಲ್ಮೈ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಅಥವಾ ಲೇಪನಗಳ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಒಂದೇ ಮೇಲ್ಮೈ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಸಾಧಿಸಲಾಗದ ಸಂಯೋಜಿತ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಲು ತಲಾಧಾರ ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಮಾರ್ಪಡಿಸಲು ಎರಡು ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು/ಉಪಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ. ಅಯಾನ್ ನೈಟ್ರೈಡಿಂಗ್ ಮತ್ತು PVD ಯಿಂದ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ TiN ಸಂಯೋಜಿತ ಲೇಪನವು ಹೆಚ್ಚು ಸಂಶೋಧಿಸಲಾದ ಸಂಯೋಜಿತ ಲೇಪನಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ನೈಟ್ರೈಡಿಂಗ್ ತಲಾಧಾರ ಮತ್ತು TiN ಸೆರಾಮಿಕ್ ಸಂಯೋಜಿತ ಲೇಪನವು ಬಲವಾದ ಬಂಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಬೇಸ್ ಬಾಂಡಿಂಗ್ ಹೊಂದಿರುವ TiN ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ಸೂಕ್ತ ದಪ್ಪವು ಸುಮಾರು 3~4μm ಆಗಿದೆ. ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ದಪ್ಪವು 2μm ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಿದ್ದರೆ, ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ದಪ್ಪವು 5μm ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿದ್ದರೆ, ಫಿಲ್ಮ್ ಬೇಸ್ ಬಾಂಡಿಂಗ್ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ.

2, ಬಹು-ಪದರದ, ಬಹು-ಘಟಕ TiN ಲೇಪನ

TiN ಲೇಪನಗಳ ಕ್ರಮೇಣ ಮತ್ತು ವ್ಯಾಪಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ, TiN ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಹೇಗೆ ಸುಧಾರಿಸುವುದು ಮತ್ತು ವರ್ಧಿಸುವುದು ಎಂಬುದರ ಕುರಿತು ಹೆಚ್ಚು ಹೆಚ್ಚು ಸಂಶೋಧನೆಗಳು ನಡೆಯುತ್ತಿವೆ. ಇತ್ತೀಚಿನ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ, Ti-CN, Ti-CNB, Ti-Al-N, Ti-BN, (Tix,Cr1-x)N, TiN/Al2O3, ಇತ್ಯಾದಿಗಳಂತಹ ಬೈನರಿ TiN ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಆಧರಿಸಿ ಬಹು-ಘಟಕ ಲೇಪನಗಳು ಮತ್ತು ಬಹುಪದರದ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ. TiN ಲೇಪನಗಳಿಗೆ Al ಮತ್ತು Si ನಂತಹ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಮತ್ತು ಲೇಪನಗಳ ಗಡಸುತನಕ್ಕೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ B ನಂತಹ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದರಿಂದ ಲೇಪನಗಳ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಬಲವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು.

ಬಹುಘಟಕ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಸಂಕೀರ್ಣತೆಯಿಂದಾಗಿ, ಈ ಅಧ್ಯಯನದಲ್ಲಿ ಹಲವು ವಿವಾದಗಳಿವೆ. (Tix,Cr1-x)N ಬಹುಘಟಕ ಲೇಪನಗಳ ಅಧ್ಯಯನದಲ್ಲಿ, ಸಂಶೋಧನಾ ಫಲಿತಾಂಶಗಳಲ್ಲಿ ದೊಡ್ಡ ವಿವಾದವಿದೆ. (Tix,Cr1-x)N ಲೇಪನಗಳು TiN ಅನ್ನು ಆಧರಿಸಿವೆ ಎಂದು ಕೆಲವರು ನಂಬುತ್ತಾರೆ, ಮತ್ತು Cr TiN ಡಾಟ್ ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಬದಲಿ ಘನ ದ್ರಾವಣದ ರೂಪದಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರಬಹುದು, ಆದರೆ ಪ್ರತ್ಯೇಕ CrN ಹಂತದಲ್ಲಿ ಅಲ್ಲ. ಇತರ ಅಧ್ಯಯನಗಳು (Tix,Cr1-x)N ಲೇಪನಗಳಲ್ಲಿ Ti ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಬದಲಾಯಿಸುವ Cr ಪರಮಾಣುಗಳ ಸಂಖ್ಯೆ ಸೀಮಿತವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಉಳಿದ Cr ಸಿಂಗಲ್ಟ್ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿದೆ ಅಥವಾ N ನೊಂದಿಗೆ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಲೇಪನಕ್ಕೆ Cr ಅನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದರಿಂದ ಮೇಲ್ಮೈ ಕಣಗಳ ಗಾತ್ರ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಗಡಸುತನ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು Cr ನ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ ಶೇಕಡಾವಾರು 3l% ತಲುಪಿದಾಗ ಲೇಪನದ ಗಡಸುತನವು ಅದರ ಅತ್ಯುನ್ನತ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ತಲುಪುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಲೇಪನದ ಆಂತರಿಕ ಒತ್ತಡವು ಅದರ ಗರಿಷ್ಠ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ತಲುಪುತ್ತದೆ.

3, ಇತರ ಲೇಪನ ಪದರ

ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ TiN ಲೇಪನಗಳ ಜೊತೆಗೆ, ಗೇರ್ ಮೇಲ್ಮೈ ಬಲಪಡಿಸುವಿಕೆಗಾಗಿ ಅನೇಕ ವಿಭಿನ್ನ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ಪಿಂಗಾಣಿಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

(1) ಜಪಾನ್‌ನ ವೈ. ಟೆರೌಚಿ ಮತ್ತು ಇತರರು ಆವಿ ಶೇಖರಣಾ ವಿಧಾನದಿಂದ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಅಥವಾ ಟೈಟಾನಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಗೇರ್‌ಗಳ ಘರ್ಷಣೆಯ ಉಡುಗೆಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿದರು. ಲೇಪನ ಮಾಡುವ ಮೊದಲು ಸುಮಾರು HV720 ಮೇಲ್ಮೈ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು 2.4 μm ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನವನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಗೇರ್‌ಗಳನ್ನು ಕಾರ್ಬರೈಸ್ ಮಾಡಿ ಹೊಳಪು ಮಾಡಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಕಾರ್ಬೈಡ್‌ಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (CVD) ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್‌ಗೆ ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (PVD) ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಯಿತು, ಸುಮಾರು 2 μm ಸೆರಾಮಿಕ್ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪದೊಂದಿಗೆ. ಘರ್ಷಣೆಯ ಉಡುಗೆ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಕ್ರಮವಾಗಿ ತೈಲ ಮತ್ತು ಒಣ ಘರ್ಷಣೆಯ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ತನಿಖೆ ಮಾಡಲಾಯಿತು. ಸೆರಾಮಿಕ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಲೇಪನ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಗೇರ್ ವೈಸ್‌ನ ಗಾಲಿಂಗ್ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಸ್ಕ್ರಾಚ್ ಪ್ರತಿರೋಧವು ಗಣನೀಯವಾಗಿ ವರ್ಧಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ.

(2) ರಾಸಾಯನಿಕವಾಗಿ ಲೇಪಿತವಾದ Ni-P ಮತ್ತು TiN ನ ಸಂಯೋಜಿತ ಲೇಪನವನ್ನು Ni-P ಅನ್ನು ಪರಿವರ್ತನಾ ಪದರವಾಗಿ ಪೂರ್ವ-ಲೇಪಿಸಿ ನಂತರ TiN ಅನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಯಿತು. ಈ ಸಂಯೋಜಿತ ಲೇಪನದ ಮೇಲ್ಮೈ ಗಡಸುತನವನ್ನು ಸ್ವಲ್ಪ ಮಟ್ಟಿಗೆ ಸುಧಾರಿಸಲಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಲೇಪನವು ತಲಾಧಾರದೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮವಾಗಿ ಬಂಧಿತವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಅಧ್ಯಯನವು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.

(3) WC/C, B4C ತೆಳುವಾದ ಪದರ
ಜಪಾನ್ ಇನ್‌ಸ್ಟಿಟ್ಯೂಟ್ ಆಫ್ ಟೆಕ್ನಾಲಜಿಯ ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ವಿಭಾಗದ ಎಂ. ಮುರಕಾವಾ ಮತ್ತು ಇತರರು, ಗೇರ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ WC/C ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸಿದರು ಮತ್ತು ಅದರ ಸೇವಾ ಜೀವನವು ತೈಲ-ಮುಕ್ತ ನಯಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಸಾಮಾನ್ಯ ಕ್ವೆನ್ಚ್ಡ್ ಮತ್ತು ಗ್ರೌಂಡ್ ಗೇರ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಮೂರು ಪಟ್ಟು ಹೆಚ್ಚು. ಫ್ರಾಂಜ್ ಜೆ ಮತ್ತು ಇತರರು FEZ-A ಮತ್ತು FEZ-C ಗೇರ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ WC/C ಮತ್ತು B4C ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು PVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸಿದರು ಮತ್ತು PVD ಲೇಪನವು ಗೇರ್ ಘರ್ಷಣೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಗೇರ್ ಅನ್ನು ಬಿಸಿ ಅಂಟಿಸುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಅಂಟಿಸುವಿಕೆಗೆ ಕಡಿಮೆ ಒಳಗಾಗುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಗೇರ್‌ನ ಲೋಡ್-ಬೇರಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಪ್ರಯೋಗವು ತೋರಿಸಿದೆ.

(4) ಸಿಆರ್ಎನ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು
CrN ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು TiN ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತವೆ ಏಕೆಂದರೆ ಅವುಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು CrN ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು TiN ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚು ನಿರೋಧಕವಾಗಿರುತ್ತವೆ, ಉತ್ತಮ ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ, TiN ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಆಂತರಿಕ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಉತ್ತಮ ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಚೆನ್ ಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಇತರರು HSS ನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಫಿಲ್ಮ್-ಆಧಾರಿತ ಬಂಧದೊಂದಿಗೆ ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ TiAlCrN/CrN ಸಂಯೋಜಿತ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದರು ಮತ್ತು ಬಹುಪದರದ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಡಿಸ್ಲೋಕೇಶನ್ ಸ್ಟ್ಯಾಕಿಂಗ್ ಸಿದ್ಧಾಂತವನ್ನು ಸಹ ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸಿದರು, ಎರಡು ಪದರಗಳ ನಡುವಿನ ಡಿಸ್ಲೋಕೇಶನ್ ಶಕ್ತಿಯ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ದೊಡ್ಡದಾಗಿದ್ದರೆ, ಒಂದು ಪದರದಲ್ಲಿ ಸಂಭವಿಸುವ ಡಿಸ್ಲೋಕೇಶನ್ ಅದರ ಇಂಟರ್ಫೇಸ್ ಅನ್ನು ಇನ್ನೊಂದು ಪದರಕ್ಕೆ ದಾಟಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ, ಹೀಗಾಗಿ ಇಂಟರ್ಫೇಸ್‌ನಲ್ಲಿ ಡಿಸ್ಲೋಕೇಶನ್ ಸ್ಟ್ಯಾಕಿಂಗ್ ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವಸ್ತುವನ್ನು ಬಲಪಡಿಸುವ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಝಾಂಗ್ ಬಿನ್ ಎಟ್ CrNx ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳ ಹಂತ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಘರ್ಷಣೆಯ ಉಡುಗೆ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಸಾರಜನಕ ಅಂಶದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿದರು ಮತ್ತು ಅಧ್ಯಯನವು ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳಲ್ಲಿನ Cr2N (211) ವಿವರ್ತನೆಯ ಶಿಖರವು ಕ್ರಮೇಣ ದುರ್ಬಲಗೊಂಡಿತು ಮತ್ತು N2 ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ CrN (220) ಶಿಖರವು ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಾಯಿತು, ಫಿಲ್ಮ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿರುವ ದೊಡ್ಡ ಕಣಗಳು ಕ್ರಮೇಣ ಕಡಿಮೆಯಾದವು ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಸಮತಟ್ಟಾಯಿತು ಎಂದು ತೋರಿಸಿದೆ. N2 ಗಾಳಿಯಾಡುವಿಕೆ 25 ಮಿಲಿ/ನಿಮಿಷ ಇದ್ದಾಗ (ಗುರಿ ಮೂಲದ ಆರ್ಕ್ ಕರೆಂಟ್ 75 ಎ ಆಗಿದ್ದಾಗ, ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾದ CrN ಫಿಲ್ಮ್ ಉತ್ತಮ ಮೇಲ್ಮೈ ಗುಣಮಟ್ಟ, ಉತ್ತಮ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು N2 ಗಾಳಿಯಾಡುವಿಕೆ 25 ಮಿಲಿ/ನಿಮಿಷ ಇದ್ದಾಗ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ (ಗುರಿ ಮೂಲದ ಆರ್ಕ್ ಕರೆಂಟ್ 75 ಎ, ಋಣಾತ್ಮಕ ಒತ್ತಡ 100 ವಿ).

(5) ಸೂಪರ್‌ಹಾರ್ಡ್ ಫಿಲ್ಮ್
ಸೂಪರ್‌ಹಾರ್ಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ 40GPa ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆ ಗುಣಾಂಕ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣಾ ಗುಣಾಂಕ, ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ವಜ್ರ ಫಿಲ್ಮ್ ಮತ್ತು CN ಫಿಲ್ಮ್ ಹೊಂದಿರುವ ಘನ ಫಿಲ್ಮ್ ಆಗಿದೆ. ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ವಜ್ರ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ದೀರ್ಘ-ಶ್ರೇಣಿಯ ಆದೇಶದ ರಚನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಖ್ಯೆಯ CC ಟೆಟ್ರಾಹೆಡ್ರಲ್ ಬಂಧಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಅವುಗಳನ್ನು ಟೆಟ್ರಾಹೆಡ್ರಲ್ ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಕಾರ್ಬನ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ಎಂದೂ ಕರೆಯುತ್ತಾರೆ. ಒಂದು ರೀತಿಯ ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಕಾರ್ಬನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಆಗಿ, ವಜ್ರದಂತಹ ಲೇಪನ (DLC) ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕ ಮಾಡ್ಯುಲಸ್, ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣೆಯ ಕಡಿಮೆ ಗುಣಾಂಕ, ಉತ್ತಮ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ, ಉತ್ತಮ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆ ಗುಣಾಂಕದಂತಹ ವಜ್ರದಂತೆಯೇ ಅನೇಕ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಗೇರ್ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ಲೇಪನ ವಜ್ರದಂತಹ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು 6 ಅಂಶದಿಂದ ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಆಯಾಸ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು ಎಂದು ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಕಾರ್ಬನ್-ನೈಟ್ರೋಜನ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ಎಂದೂ ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ CN ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು β-Si3N4 ಕೋವೆಲನ್ಸಿಯ ಸಂಯುಕ್ತಗಳಂತೆಯೇ ಸ್ಫಟಿಕ ರಚನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ ಮತ್ತು β-C3N4 ಎಂದೂ ಕರೆಯಲ್ಪಡುತ್ತವೆ. ಲಿಯು ಮತ್ತು ಕೋಹೆನ್ ಮತ್ತು ಇತರರು. ಮೊದಲ-ಪ್ರಕೃತಿ ತತ್ವದಿಂದ ಸೂಡೊಪೊಟೆನ್ಶಿಯಲ್ ಬ್ಯಾಂಡ್ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಕಠಿಣ ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರಗಳನ್ನು ನಡೆಸಲಾಯಿತು, β-C3N4 ದೊಡ್ಡ ಬಂಧಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಸ್ಥಿರವಾದ ಯಾಂತ್ರಿಕ ರಚನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಕನಿಷ್ಠ ಒಂದು ಉಪ-ಸ್ಥಿರ ಸ್ಥಿತಿ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರಬಹುದು ಮತ್ತು ಅದರ ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕ ಮಾಡ್ಯುಲಸ್ ವಜ್ರಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಬಹುದು, ಉತ್ತಮ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ, ಇದು ಮೇಲ್ಮೈ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು ವಸ್ತುವಿನ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಘರ್ಷಣೆ ಗುಣಾಂಕವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಎಂದು ದೃಢಪಡಿಸಿತು.

(6) ಇತರ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಲೇಪನ ಪದರ
ಕೆಲವು ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಗೇರ್‌ಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಲು ಪ್ರಯತ್ನಿಸಲಾಗಿದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ, 45# ಉಕ್ಕಿನ ಗೇರ್‌ಗಳ ಹಲ್ಲಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ Ni-P-Co ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಪದರದ ಶೇಖರಣೆಯು ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಫೈನ್ ಧಾನ್ಯ ಸಂಘಟನೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಪದರವಾಗಿದ್ದು, ಇದು ಜೀವಿತಾವಧಿಯನ್ನು 1.144~1.533 ಬಾರಿ ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು. Cu-Cr-P ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಎರಕಹೊಯ್ದ ಕಬ್ಬಿಣದ ಗೇರ್‌ನ ಹಲ್ಲಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಅದರ ಬಲವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು Cu ಲೋಹದ ಪದರ ಮತ್ತು Ni-W ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಲೇಪನವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ; ಲೇಪಿತವಲ್ಲದ ಗೇರ್‌ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ 4~6 ಪಟ್ಟು ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು HT250 ಎರಕಹೊಯ್ದ ಕಬ್ಬಿಣದ ಗೇರ್‌ನ ಹಲ್ಲಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ Ni-W ಮತ್ತು Ni-Co ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಲೇಪನವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.