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業界ニュース
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真空蒸着プロセス
真空蒸着プロセスは一般的に、基板表面洗浄、コーティング前処理、蒸着、ピックアップ、めっき後処理、試験、完成品といった工程を含む。（１）基板表面洗浄。真空チャンバー壁、基板フレーム、その他…続きを読む -
真空コーティング入門
真空を使用する理由：汚染の防止：真空中では、空気やその他のガスが存在しないため、成膜材料が大気中のガスと反応して膜を汚染するのを防ぎます。密着性の向上：空気がないため、膜は空気に触れることなく基板に直接密着します。続きを読む -
薄膜成膜技術
薄膜成膜は、半導体産業だけでなく、材料科学や工学の多くの分野で用いられる基本的なプロセスです。これは、基板上に薄い材料層を形成するプロセスです。成膜された薄膜の厚さは、わずか数原子から…まで、幅広い範囲にわたります。続きを読む -
光学産業で使用される各種光学フィルム
光学分野では、光学ガラスや石英の表面に、膜の後に異なる物質の層または複数の層をめっきすることで、高い反射率、無反射率（つまり、膜の透過率を高める）、または特定の割合の反射率や透過率を得ることができます。続きを読む -
真空コーティング装置の構成部品
真空コーティング装置は、真空環境下で薄膜を成膜する技術の一種であり、電子機器、光学、材料科学、エネルギーなどの分野で広く利用されています。真空コーティング装置は主に以下の部分で構成されています。真空チャンバー：これは真空チャンバーの中核部分です。続きを読む -
真空コーティング装置の用途
真空コーティング装置は、多くの産業や分野を網羅する幅広い応用分野を有しています。主な応用分野には、以下が含まれます。家電製品および集積回路：真空コーティング技術は、金属構造などの家電製品において幅広い用途があります。続きを読む -
振華自動車工業における自動車用ランプの表面処理応用
ランプは自動車の重要な部品の一つであり、ランプの反射板の表面処理は、その機能性と装飾性を高めることができます。一般的なランプカップの表面処理プロセスには、化学メッキ、塗装、真空コーティングなどがあります。塗装と化学メッキは、より伝統的なランプカップの表面処理方法です。続きを読む -
真空コーティング装置の構成部品
真空コーティング装置は通常、それぞれ固有の機能を持つ複数の主要コンポーネントで構成されており、それらが連携して効率的で均一な膜形成を実現します。以下に、主要コンポーネントとその機能について説明します。 主要コンポーネント 真空チャンバー： 機能： 真空チャンバーは、...続きを読む -
熱蒸着コーティングシステムの動作原理
蒸着コーティング装置は、基板表面に薄膜材料を堆積させるために使用される装置の一種であり、光学デバイス、電子デバイス、装飾コーティングなどの分野で広く使用されています。蒸着コーティングは主に高温を利用して固体を...続きを読む -
インラインコーターの紹介
真空インラインコーターは、連続的で高スループットの生産環境向けに設計された先進的なコーティングシステムです。基板を個別のグループで処理するバッチコーターとは異なり、インラインコーターでは基板がコーティングプロセスのさまざまな段階を連続的に通過できます。続きを読む -
スパッタリング真空コーター
スパッタリング真空コーターは、基板上に薄膜状の材料を成膜するために使用される装置です。このプロセスは、半導体、太陽電池、および光学・電子用途向けの各種コーティングの製造に一般的に使用されています。その基本的な動作原理の概要は次のとおりです。1.V...続きを読む -
真空コーティングシステムの概要
真空コーティングシステムは、真空環境下で表面に薄膜またはコーティングを施す技術です。このプロセスにより、高品質で均一かつ耐久性のあるコーティングが実現し、エレクトロニクス、光学、自動車、航空宇宙などの様々な産業において重要な役割を果たします。様々な…続きを読む -
スパッタリング光学インライン真空コーティングシステムとは何ですか？
マグネトロンスパッタリング光学インライン真空コーティングシステムは、さまざまな基板上に薄膜を成膜するために使用される高度な技術であり、光学、エレクトロニクス、材料科学などの産業で一般的に使用されています。以下に詳細な概要を示します。構成要素と特徴：1...続きを読む -
ダイヤモンド薄膜技術 - 第2章
（３）高周波プラズマCVD（RFCVD）RFは、容量結合法と誘導結合法の２つの異なる方法でプラズマを生成するために使用できます。RFプラズマCVDは13.56MHzの周波数を使用します。RFプラズマの利点は、マイクロ波プラズマよりもはるかに広い領域に拡散することです。続きを読む -
ダイヤモンド薄膜技術―第1章
ホットフィラメントCVDは、低圧下でダイヤモンドを成長させる最も初期かつ最も一般的な方法です。1982年、松本らは耐火金属フィラメントを2000℃以上に加熱し、その温度でフィラメントを通過するH2ガスが容易に水素原子を生成することを発見しました。原子状水素の生成は…続きを読む
