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Introduzione della deposizione di vapore sotto vuoto, sputtering e rivestimento ionico

Fonte dell'articolo:vuoto Zhenhua
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Pubblicato:22-11-07

Il rivestimento sottovuoto comprende principalmente la deposizione di vapore sottovuoto, il rivestimento sputtering e il rivestimento ionico, tutti utilizzati per depositare vari film metallici e non metallici sulla superficie delle parti in plastica mediante distillazione o sputtering in condizioni di vuoto, che possono ottenere un rivestimento superficiale molto sottile con l'eccezionale vantaggio di una rapida adesione, ma anche il prezzo è più alto e i tipi di metalli che possono essere utilizzati sono inferiori e sono generalmente utilizzati per il rivestimento funzionale di prodotti di qualità superiore.
Introduzione della deposizione di vapore sotto vuoto, sputtering e i
La deposizione sottovuoto da vapore è un metodo per riscaldare il metallo sotto alto vuoto, facendolo fondere, evaporare e formare una sottile pellicola metallica sulla superficie del campione dopo il raffreddamento, con uno spessore di 0,8-1,2 um.Riempie le piccole parti concave e convesse sulla superficie del prodotto formato per ottenere una superficie speculare. deve essere rivestito.

Lo sputtering di solito si riferisce allo sputtering del magnetron, che è un metodo di sputtering a bassa temperatura ad alta velocità.Il processo richiede un vuoto di circa 1×10-3Torr, ovvero uno stato di vuoto di 1,3×10-3Pa riempito con gas inerte argon (Ar) e tra il substrato plastico (anodo) e il target metallico (catodo) più l'alta tensione corrente continua, a causa dell'eccitazione elettronica del gas inerte generato dalla scarica luminescente, producendo plasma, il plasma farà esplodere gli atomi del bersaglio metallico e li depositerà sul substrato di plastica.La maggior parte dei rivestimenti metallici generici utilizza lo sputtering CC, mentre i materiali ceramici non conduttivi utilizzano lo sputtering CA RF.

Il rivestimento ionico è un metodo in cui viene utilizzata una scarica di gas per ionizzare parzialmente il gas o la sostanza evaporata in condizioni di vuoto, e la sostanza evaporata o i suoi reagenti vengono depositati sul substrato mediante bombardamento di ioni gas o ioni della sostanza evaporata.Questi includono rivestimento ionico magnetron sputtering, rivestimento ionico reattivo, rivestimento ionico a scarica catodica cava (metodo di deposizione di vapore del catodo cavo) e rivestimento ionico multi-arco (rivestimento ionico arco catodico).

Magnetron verticale a doppia faccia che sputtering rivestimento continuo in linea
Ampia applicabilità, può essere utilizzato per prodotti elettronici come lo strato di schermatura EMI del guscio del notebook, i prodotti piatti e persino tutti i prodotti della coppa della lampada all'interno di una certa specifica di altezza possono essere prodotti.Grande capacità di carico, bloccaggio compatto e bloccaggio sfalsato di coppe leggere coniche per rivestimento su entrambi i lati, che possono avere una maggiore capacità di carico.Qualità stabile, buona consistenza dello strato di pellicola da lotto a lotto.Alto grado di automazione e bassi costi di manodopera.


Tempo di pubblicazione: Nov-07-2022