Le plasma à haute énergie peut bombarder et irradier les matériaux polymères, rompant leurs chaînes moléculaires, formant des groupes actifs, augmentant l'énergie de surface et générant une gravure. Le traitement de surface par plasma n'affecte pas la structure interne ni les performances du matériau, mais seulement de manière significative…
Le procédé de revêtement ionique par arc cathodique est fondamentalement identique aux autres technologies de revêtement ; certaines opérations, telles que la mise en place des pièces et la mise sous vide, sont désormais supprimées. 1. Nettoyage des pièces par bombardement ionique : avant le revêtement, de l’argon est introduit dans la chambre de revêtement…
1. Caractéristiques du flux d'électrons de la lumière d'arc : La densité du flux d'électrons, du flux d'ions et des atomes neutres de haute énergie dans le plasma d'arc généré par une décharge d'arc est bien supérieure à celle d'une décharge luminescente. On y observe une plus grande quantité d'ions gazeux et d'ions métalliques ionisés, d'atomes de haute énergie excités et de divers groupes actifs…
1) La modification de surface par plasma concerne principalement certaines modifications du papier, des films organiques, des textiles et des fibres chimiques. L'utilisation du plasma pour la modification des textiles ne nécessite pas d'activateurs et le traitement ne détériore pas les propriétés intrinsèques des fibres.
Les applications des couches minces optiques sont très vastes : verres, objectifs d’appareils photo, appareils photo de téléphones portables, écrans LCD pour téléphones portables, ordinateurs et téléviseurs, éclairage LED, dispositifs biométriques, vitrages à économie d’énergie pour automobiles et bâtiments, instruments médicaux, etc.
1. Types de films utilisés dans l'affichage : Outre les films minces TFT-LCD et OLED, l'affichage comprend également des films d'électrodes et des films d'électrodes de pixels transparents. Le procédé de revêtement est essentiel à la fabrication des écrans TFT-LCD et OLED. Avec les progrès constants…
Lors du revêtement par évaporation, la nucléation et la croissance de la couche de film constituent la base de diverses technologies de revêtement ionique. 1. Nucléation : Dans la technologie de revêtement par évaporation sous vide, après que les particules de la couche de film soient évaporées de la source d'évaporation sous forme d'atomes, elles se dirigent directement vers le substrat...
1. La polarisation de la pièce est faible. En raison de l'ajout d'un dispositif visant à augmenter le taux d'ionisation, la densité de courant de décharge augmente et la tension de polarisation est réduite à 0,5 à 1 kV. La pulvérisation cathodique inverse causée par un bombardement excessif d'ions de haute énergie et les dommages causés à la surface de la pièce...
1) Les cibles cylindriques présentent un taux d'utilisation supérieur aux cibles planes. Lors du processus de revêtement, qu'il s'agisse d'une cible de pulvérisation cylindrique magnétique rotative ou d'une cible tubulaire rotative, toute la surface du tube cible traverse continuellement la zone de pulvérisation générée devant...
Procédé de polymérisation directe par plasma. Le procédé de polymérisation par plasma est relativement simple, que ce soit pour les équipements à électrode interne ou externe. Cependant, le choix des paramètres est crucial en polymérisation par plasma, car ces paramètres ont une influence considérable sur l'efficacité du procédé.
La technologie de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à arc à fil chaud (PECVD) utilise un canon à arc à fil chaud pour générer un plasma d'arc. Cette technologie est similaire à la technologie de revêtement ionique par canon à arc à fil chaud, mais s'en distingue par le fait que le film solide obtenu par arc à fil chaud…
1. Technologie CVD thermique. Les revêtements durs sont principalement des revêtements métallo-céramiques (TiN, etc.), formés par la réaction entre le métal du revêtement et une gazéification réactive. Initialement, la technologie CVD thermique était utilisée pour fournir l'énergie d'activation de la réaction de combinaison par l'énergie thermique à…
Le revêtement par évaporation sous vide est une méthode de base de revêtement par évaporation sous vide. Le terme « évaporation » désigne une méthode de préparation de couches minces dans laquelle le matériau de revêtement, contenu dans une chambre à vide, est chauffé et évaporé, de sorte que les atomes ou molécules du matériau se vaporisent et s'échappent de la chambre.
La technologie de revêtement ionique par arc cathodique utilise la technologie de décharge d'arc à champ froid. La première application de cette technologie dans le domaine du revêtement a été réalisée par la société Multi Arc aux États-Unis. Ce procédé est appelé « arc ionplating » (AIP). Revêtement ionique par arc cathodique…
Il existe de nombreux types de supports pour les verres et les lentilles, tels que le CR39, le PC (polycarbonate), le Trivex 156 (1,53), les plastiques à indice de réfraction moyen, le verre, etc. Pour les verres correcteurs, la transmittance des lentilles en résine et en verre n'est que d'environ 91 %, et une partie de la lumière est réfléchie par les deux faces.