1. Infoekraanil kuvatava filmi tüüp
Lisaks TFT-LCD ja OLED õhukestele kiledele sisaldab infoekraan ka juhtmestiku elektroodikilesid ja läbipaistvaid pikslielektroodikilesid kuvapaneelil. Katteprotsess on TFT-LCD ja OLED kuvarite põhiprotsess. Infoekraantehnoloogia pideva arenguga muutuvad õhukeste kilede jõudlusnõuded infoekraane kuvades üha rangemaks, nõudes selliste parameetrite nagu ühtlus, paksus, pinna karedus, takistus ja dielektriline konstant täpset kontrolli. 1. Infoekraankile tüüp
Lisaks TFT-LCD ja OLED õhukestele kiledele sisaldab infoekraan ka juhtmestiku elektroodikilesid ja läbipaistvaid pikslielektroodikilesid kuvapaneelil. Katteprotsess on TFT-LCD ja OLED-ekraanide põhiprotsess. Infoekraantehnoloogia pideva arenguga muutuvad õhukeste kilede jõudlusnõuded infoekraane kuvades üha rangemaks, nõudes selliste parameetrite nagu ühtlus, paksus, pinna karedus, takistus ja dielektriline konstant täpset kontrolli.
2. Lameekraanide suurus
Lameekraanide tööstuses kasutatakse tootmisliini jagamiseks tavaliselt klaassubstraadi suurust. Tootmises toodetakse tavaliselt kõigepealt suured substraadid ja seejärel lõigatakse need toote ekraani suuruseks. Mida suurem on substraadi suurus, seda sobivam see on suurte ekraanide valmistamiseks. Praegu on TFT-LCD-ekraane arendatud 50-tolliste ja suuremate ekraanide 11 põlvkonna liini (3000 mm x 3320 mm) tootmiseks, samas kui OLED-ekraane arendatakse 18–37-tolliste ja suuremate ekraanide 6 põlvkonna liini (1500 mm x 1850 mm) tootmiseks. Kuigi klaassubstraadi suurus ei ole otseselt seotud kuvaritoote lõpptulemusega, on suurte substraatide töötlemisel suurem tootlikkus ja madalamad kulud. Seetõttu on suurte paneelide töötlemine olnud infoekraanide tööstuse oluline arengusuund. Suurte pindade töötlemisel on aga ka halva ühtluse ja madala suurepärase kiiruse probleem, mida lahendatakse peamiselt protsessiseadmete uuendamise ja tehnoloogia täiustamise abil.
Teisest küljest on infokile töötlemisel vaja arvestada aluspinna laagritemperatuuriga. Töötlemistemperatuuri alandamine võib tõhusalt laiendada infokile rakendusala ja vähendada kulusid. Samal ajal on painduvate kuvamisseadmete arendamisega seoses painduvatele aluspindadele, mis ei ole kõrge temperatuuri suhtes vastupidavad (peamiselt üliõhuke klaas, pehmed plastid ja puidukiud), madala temperatuuri tehnoloogiale kehtestatud rangemad nõuded. Praegu on kõige sagedamini kasutatavad painduvad polümeerplastist aluspinnad üldiselt võimelised taluma temperatuuri alla 300 ℃, sealhulgas polüimiin (PI), polüarüülühendid (PAR) ja polüetüleentereftalaat (PET).
Võrreldes teiste katmismeetoditega,ioonkatte tehnoloogiaSee suudab tõhusalt vähendada õhukese kile valmistamise protsessi temperatuuri, valmistatud infokilel on suurepärased omadused, suur tootmispind ja ühtlane suurus, see vastab kuvaseadmete vajadustele ja sellel on kõrge suurepärane kiirus, mistõttu ioonkatmistehnoloogiat kasutatakse laialdaselt infokilede tööstuslikus tootmises ja teadusuuringutes. Ioonkatmistehnoloogia on infokilede valdkonna põhitehnoloogia, mis soodustab TFT-LCD ja OLED-ekraanide sündi, rakendamist ja arengut.
Postituse aeg: 25. mai 2023