Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ə xoş gəlmisiniz.
Sənaye Xəbərləri
-
Sərt örtüklərin növləri
TiN yüksək möhkəmlik, yüksək sərtlik və aşınma müqaviməti kimi üstünlükləri ilə kəsici alətlərdə istifadə edilən ən erkən sərt örtükdür. Bu, ilk sənayeləşmiş və geniş istifadə olunan sərt örtük materialıdır, örtüklü alətlərdə və örtüklü qəliblərdə geniş istifadə olunur. TiN sərt örtük əvvəlcə 1000 ℃ temperaturda qoyulmuşdur...Daha ətraflı oxuyun -
Plazma Səthinin Modifikasiyasının Xüsusiyyətləri
Yüksək enerjili plazma polimer materiallarını bombalaya və şüalandıra, onların molekulyar zəncirlərini qıra, aktiv qruplar əmələ gətirə, səth enerjisini artıra və aşındırma yarada bilər. Plazma səthinin təmizlənməsi toplu materialın daxili quruluşuna və performansına təsir göstərmir, lakin yalnız əhəmiyyətli dərəcədə c...Daha ətraflı oxuyun -
Kiçik Qövs Mənbəli İon Kaplama Prosesi
Katodik qövs mənbəyinin ion örtüyü prosesi əsasən digər örtük texnologiyaları ilə eynidir və iş parçalarının quraşdırılması və tozsoran kimi bəzi əməliyyatlar artıq təkrarlanmır. 1.İş hissələrinin bombardmanla təmizlənməsi Örtülməzdən əvvəl arqon qazı örtük kamerasına...Daha ətraflı oxuyun -
Qövs elektron axınının xüsusiyyətləri və yaranma üsulları
1. Qövs işıqlı elektron axınının xüsusiyyətləri Qövs boşalması nəticəsində yaranan qövs plazmasında elektron axınının, ion axınının və yüksək enerjili neytral atomların sıxlığı parıltı boşalmasından xeyli yüksəkdir. Daha çox qaz ionları və metal ionları ionlaşmış, həyəcanlanmış yüksək enerjili atomlar və müxtəlif aktiv q...Daha ətraflı oxuyun -
Plazma Səthinin Modifikasiyasının Tətbiq Sahələri
1) Plazma səthinin modifikasiyası əsasən kağız, üzvi filmlər, tekstil və kimyəvi liflərin müəyyən modifikasiyalarına aiddir. Tekstil modifikasiyası üçün plazmanın istifadəsi aktivatorların istifadəsini tələb etmir və müalicə prosesi liflərin öz xüsusiyyətlərinə zərər vermir. ...Daha ətraflı oxuyun -
Optik nazik təbəqələr sahəsində ion örtüyünün tətbiqi
Optik nazik filmlərin tətbiqi çox genişdir, eynəklər, kamera linzaları, mobil telefon kameraları, cib telefonları, kompüterlər və televizorlar üçün LCD ekranlar, LED işıqlandırma, biometrik cihazlar, avtomobillərdə və binalarda enerjiyə qənaət edən pəncərələrə, o cümlədən tibbi alətlərə qədər...Daha ətraflı oxuyun -
İnformasiya ekranı filmləri və ion örtük texnologiyası
1. İnformasiya displeyində filmin növü TFT-LCD və OLED nazik plyonkalara əlavə olaraq, məlumat displeyinə ekran panelində naqil elektrod plyonkaları və şəffaf piksel elektrod plyonkaları da daxildir. Kaplama prosesi TFT-LCD və OLED displeyin əsas prosesidir. Davamlı proqramla...Daha ətraflı oxuyun -
Vakuum buxarlanma örtüklü film təbəqəsinin böyümə qanunu
Buxarlanma ilə örtülmə zamanı plyonka təbəqəsinin nüvələşməsi və böyüməsi müxtəlif ion örtük texnologiyasının əsasını təşkil edir.Daha ətraflı oxuyun -
Təkmilləşdirilmiş parıltı boşalması ion örtük texnologiyasının ümumi xüsusiyyətləri
1. İş parçasının əyriliyi aşağıdır İonlaşma sürətini artırmaq üçün bir cihazın əlavə edilməsi səbəbindən boşalma cərəyanının sıxlığı artır və əyilmə gərginliyi 0,5 ~ 1kV-ə qədər azalır. Yüksək enerjili ionların həddindən artıq bombardmanı və iş parçasının səthinə ziyan vurması nəticəsində yaranan arxa püskürmə...Daha ətraflı oxuyun -
Silindrik hədəflərin üstünlükləri
1) Silindrik hədəflər planar hədəflərdən daha yüksək istifadə nisbətinə malikdir. Kaplama prosesində, istər fırlanan maqnit tipli, istərsə də fırlanan boru tipli silindrik püskürtmə hədəfi olsun, hədəf borunun səthinin bütün hissələri davamlı olaraq boruların qarşısında yaranan püskürtmə sahəsindən keçir...Daha ətraflı oxuyun -
Plazma birbaşa polimerləşmə prosesi
Plazma birbaşa polimerləşmə prosesi Plazma polimerləşmə prosesi həm daxili elektrod polimerləşdirmə avadanlığı, həm də xarici elektrod polimerləşdirmə avadanlığı üçün nisbətən sadədir, lakin plazma polimerləşməsində parametr seçimi daha vacibdir, çünki parametrlər böyük...Daha ətraflı oxuyun -
İsti məftil qövsü ilə gücləndirilmiş plazma kimyəvi buxar çökdürmə texnologiyası
Qaynar məftil qövsü ilə gücləndirilmiş plazma kimyəvi buxar çökdürmə texnologiyası qövs plazmasını yaymaq üçün isti naqilli qövs silahından istifadə edir və qısaldılmış isti tel qövsü PECVD texnologiyasıdır. Bu texnologiya qaynar məftilli qövs tapançasının ion örtük texnologiyasına bənzəyir, lakin fərq ondan ibarətdir ki, qövs tapançası ilə əldə edilən bərk film...Daha ətraflı oxuyun -
Sərt örtüklərin çökdürülməsi üçün ənənəvi üsullara giriş
1. Termal CVD texnologiyası Sərt örtüklər əsasən metal keramika örtükləridir (TiN və s.), örtükdə metalın reaksiyası və reaktiv qazlaşdırma nəticəsində əmələ gəlir. Əvvəlcə termal CVD texnologiyası istilik enerjisi ilə birləşmə reaksiyasının aktivləşmə enerjisini təmin etmək üçün istifadə edilmişdir ...Daha ətraflı oxuyun -
Müqavimətli buxarlanma mənbəyi örtüyü nədir?
Müqavimətli buxarlanma mənbəyi örtüyü əsas vakuum buxarlanma örtük üsuludur. "Buxarlanma" vakuum kamerasındakı örtük materialının qızdırıldığı və buxarlandığı nazik təbəqənin hazırlanması üsuluna aiddir, beləliklə material atomları və ya molekulları buxarlanır və...Daha ətraflı oxuyun -
Katodik Qövs İon Kaplama Texnologiyasına Giriş
Katodik qövs ion örtük texnologiyası soyuq sahə qövsü boşalma texnologiyasından istifadə edir. Soyuq sahə qövsünün boşaldılması texnologiyasının örtük sahəsində ən erkən tətbiqi ABŞ-da Multi Arc şirkəti tərəfindən həyata keçirilmişdir. Bu prosedurun ingiliscə adı arc ionplating (AIP)-dir. Katod qövs ion örtüyü...Daha ətraflı oxuyun
