Nazik təbəqə çökdürmə texnologiyası sahəsində silindrik maqnetron püskürtmə səmərəli və çox yönlü bir üsula çevrilmişdir. Bu innovativ texnologiya tədqiqatçılara və sənaye mütəxəssislərinə nazik təbəqələri müstəsna dəqiqlik və vahidliklə çökdürmək üçün bir yol təqdim edir. Silindrik maqnetron s...
Qızıl püskürtmə maşınları aparıcı texnologiyaya çevrilərək müxtəlif səthlərə nazik qızıl təbəqəsi tətbiq etməyimizi dəyişdirib. Müstəsna performansları və müstəsna dəqiqliyi ilə bu maşınlar elektronikadan optikaya qədər müxtəlif sahələrdə oyun dəyişdiricilərinə çevrilib. Bu sənətdə...
Son illərdə səth emalı sənayesi mini PVD örtük maşınlarının tətbiqi sayəsində əhəmiyyətli irəliləyişlər əldə etmişdir. Bu innovativ texnologiya səthlərin təkmilləşdirilməsi üsulunda inqilab yaradır, misilsiz səmərəlilik və dəqiqlik təmin edir. Bu bloq yazısında biz...
Texnologiya görünməmiş bir sürətlə inkişaf etməyə davam etdikcə, aparıcı optik maşın istehsalçıları tərəfindən təqdim edilən yeniliklər və irəliləyişlər sayəsində optik sənayesi əlamətdar bir transformasiyaya şahid olub. Qabaqcıl texnologiyalar və öhdəliklərlə təchiz olunmuş bu şirkətlər...
1. Boş katod ion örtük maşını və isti məftil qövs ion örtük maşını Boş katod silahı və isti məftil qövs silahı örtük kamerasının yuxarı hissəsində, anod alt hissəsində, iki elektromaqnit rulon isə örtük kamerasının yuxarı və aşağı hissəsində quraşdırılıb...
1. İon şüası püskürtmə örtüyü Materialın səthi orta enerjili ion şüası ilə bombardman edilir və ionların enerjisi materialın kristal qəfəsinə daxil olmur, əksinə enerjini hədəf atomlarına ötürür və bu da onların materialın səthindən uzaqlaşmasına səbəb olur və sonra...
Qabaqcıl səth örtük texnologiyası sahəsində bir ad fərqlənir - maqnetron püskürtmə vakuum örtük maşını. Bu qabaqcıl avadanlıq etibarlı və səmərəli səth örtük həlləri təqdim etməklə sənayedə dalğalar yaradır. Elektronikadan avtomobillərə, aerokosmikdən...
Son illərdə kompozit optik filmlər təsirli xüsusiyyətləri və müxtəlif sənaye sahələrində tətbiqləri sayəsində geniş populyarlıq qazanmışdır. Bu filmin yüksək keyfiyyətinə töhfə verən əsas amillərdən biri onun yaradılmasında istifadə olunan qabaqcıl örtük prosesidir. Bu gün biz bu barədə danışacağıq...
2009-cu ildə kalsit nazik təbəqəli hüceyrələr görünməyə başlayanda çevrilmə səmərəliliyi cəmi 3,8% idi və çox sürətlə artdı, 2018-ci il bölməsinə görə, laboratoriya səmərəliliyi 23%-i keçib. Xalkogenid birləşməsinin əsas molekulyar formulu ABX3-dür və A mövqeyi adətən Cs+ kimi metal ionudur...
Metal üzvi kimyəvi buxar çöküntüsü (MOCVD), qazlı materialın mənbəyi metal üzvi birləşmə qazıdır və çöküntünün əsas reaksiya prosesi CVD-yə bənzəyir. 1.MOCVD xam qazı MOCVD üçün istifadə olunan qaz mənbəyi metal-üzvi birləşmə (MOC) qazıdır. Metal-üzvi birləşmələr sabitdir...
Son illərdə örtük sənayesi vakuum metallaşdırma örtük maşınlarının tətbiqi ilə diqqətəlayiq bir irəliləyişin şahidi olub. Bu qabaqcıl maşınlar örtüklərin müxtəlif səthlərə tətbiq olunma tərzində inqilab edərək, heç vaxt görünməmiş üstün bir görünüş və davamlılıq təqdim edib...
(1) kəsici alət sahəsi DLC filmi alət kimi istifadə olunur (məsələn, qazmalar, frezerlər, karbid əlavələri və s.) örtük, alətin ömrünü və alət kənarının sərtliyini yaxşılaşdıra, itiləmə müddətini azalda bilər, eyni zamanda çox aşağı sürtünmə faktoruna, aşağı yapışmaya və əla aşınma müqavimətinə malikdir. Buna görə də, DLC film alətləri ...
Nazik təbəqəli günəş batareyaları həmişə sənayenin tədqiqat mərkəzi olub, bir neçə çevrilmə səmərəliliyi kadmium tellurid (CdTe) nazik təbəqəli batareya və mis indium qallium selenid (CICS, Cu, In, Ga, Se qısaltması) nazik təbəqəli batareya texnologiyasının 20%-dən çoxuna çata bilər...
Demək olar ki, bütün tipik optik filmlər maye kristal proyeksiya displey sistemlərində istifadə olunur. Tipik bir LCD proyeksiya displey optik sistemi işıq mənbəyini (metal halid lampası və ya yüksək təzyiqli civə lampası), işıqlandırma optik sistemini (işıq sistemi və polyarizasiya çevrilməsi daxil olmaqla) ehtiva edir...
Volfram filamenti yüksək sıxlıqlı elektron axını yaymaq üçün isti elektronlar buraxan yüksək temperatura qədər qızdırılır və eyni zamanda isti elektronları yüksək enerjili elektron axınına sürətləndirmək üçün sürətləndirici elektrod qurulur. Yüksək sıxlıqlı, yüksək enerjili elektron axını daha çox xlorid ola bilər...