1. Pozadie žiadosti
S rýchlym pokrokom inteligentných kokpitov a špičkových zobrazovacích technológií kladú optické komponenty, ako sú systémy HUD (Head-Up Display) a krycie sklá automobilových displejov, čoraz prísnejšie nároky na výkon povlakov. Tenké vrstvy musia nielen poskytovať vynikajúce optické vlastnosti, ale aj udržiavať dlhodobú stabilitu v zložitých prevádzkových prostrediach a zároveň spĺňať požiadavky na rovnomernosť veľkej plochy, vysokú konzistenciu a schopnosť hromadnej výroby.
V aplikáciách HUD presnosť hrúbky reflexných vrstiev a viacvrstvových dielektrických vrstiev spolu so stabilitou indexu lomu a priľnavosťou filmu priamo ovplyvňuje jasnosť obrazu a účinnosť jasu. V dôsledku toho sa procesná kapacita a prevádzková stabilita zariadení na nanášanie povrchov stali kritickými faktormi pri výrobe optických súčiastok.
2. Výzvy vo výrobe optických tenkých vrstiev
① Komplexné viacvrstvové fóliové stohy vyžadujú pokročilú integráciu procesov
HUD a špičkové krycie sklo zvyčajne vyžadujú viacvrstvové štruktúry pozostávajúce z kovových reflexných vrstiev, dielektrických funkčných vrstiev a ochranných funkčných povlakov, čo kladie vyššie nároky na zariadenia schopné viacprocesnej integrácie.
② Úzke optické tolerančné okno vyžaduje vysoko presnú kontrolu hrúbky
Malé výkyvy v hrúbke dielektrickej vrstvy môžu spôsobiť zmeny v odrazivosti a farebnom posune, čo priamo ovplyvňuje kvalitu obrazu HUD. To kladie prísne požiadavky na presnosť monitorovania hrúbky filmu a opakovateľnosť procesu.
③ Súčasná potreba vyššej priepustnosti a konzistencie
S rastúcim objemom výroby na automobilovom trhu a trhu so spotrebnou elektronikou musia procesy optického povlakovania vyvažovať veľkoobjemovú výrobnú kapacitu s konzistentnosťou medzi jednotlivými šaržami. Konvenčné systémy s nízkym plnením čoraz menej dokážu splniť požiadavky na čas cyklu.
④ Spoľahlivosť filmu priamo ovplyvňuje životnosť produktu
Nedostatočná hustota filmu alebo slabá priľnavosť môžu viesť k poruche pri cykloch teploty a vlhkosti alebo pri dlhodobej prevádzke, čo v konečnom dôsledku ovplyvní spoľahlivosť a kvalitu konečného produktu.
3. Vákuové riešenie Zhenhua
Aby spoločnosť Zhenhua Vacuum splnila požiadavky špičkových aplikácií v oblasti optických tenkých vrstiev, predstavuje systém optického naprašovania magnetrónovým naprašovaním GFM1916, ktorý integruje procesy PVD a CVD spolu so systémom nanášania s asistenciou iónového zdroja, čo umožňuje stabilnú a vysokovýkonnú výrobu optických vrstiev vo veľkom meradle.
Systém je navrhnutý s ohľadom na vysokú automatizáciu, veľkú kapacitu substrátu a presné riadenie procesu, pričom vyvažuje výkon filmu, efektivitu výroby a stabilitu procesu, aby spĺňal požiadavky hromadnej výroby vysoko štandardných optických produktov, ako sú komponenty HUD.
Systém optického nanášania magnetrónovým naprašovaním GFM1916
1. Plne automatizované riadenie
Vysoká úroveň automatizácie s užívateľsky prívetivým ovládaním.
2. Veľká nosnosť a vysoká priepustnosť
Konštrukcia valcového rotačného držiaka substrátu poskytuje nosnosť až dvojnásobnú v porovnaní s systémami naparovania elektrónovým lúčom, čo podporuje rôzne geometrie substrátov s flexibilnými možnosťami použitia.
3. Vynikajúci filmový výkon
Integrovaný systém PVD + CVD nanášania s pomocou iónového zdroja vytvára filmy s vysokou hustotou, stabilným indexom lomu a silnou priľnavosťou. Podporuje jednocyklové nanášanie hliníkových reflexných vrstiev, dielektrických filmov a AF (anti-fingerprint) povlakov.
4. Presná kontrola náteru
Vybavený monitorovacím systémom s kremenným kryštálom pre presnú kontrolu hrúbky filmu, čo zaisťuje vysokú stabilitu procesu a opakovateľnosť. Riadiaci systém SPEEDFLO s uzavretou slučkou v kombinácii s plnou automatizáciou efektívne zvyšuje rýchlosť nanášania SiO₂, dosahuje odrazivosť viditeľného svetla nad 90 % a spĺňa tak prísne optické požiadavky aplikácií HUD.
Oblasti použitia:
HUD (Head-Up displej), krycie sklo displeja a ďalšie presné optické komponenty.
-Tento článok bol publikovaný spoločnosťou zariadenie na vákuové nanášanievýrobca Zhenhua Vacuum
Čas uverejnenia: 29. januára 2026