W dzisiejszym szybko zmieniającym się świecie, w którym treści wizualne mają duży wpływ, technologia powłok optycznych odgrywa ważną rolę w poprawie jakości różnych wyświetlaczy. Od smartfonów po ekrany telewizyjne, powłoki optyczne zrewolucjonizowały sposób, w jaki postrzegamy i doświadczamy treści wizualnych. ...
Powłoka napylana magnetronowo jest wykonywana w wyładowaniu jarzeniowym, z niską gęstością prądu wyładowania i niską gęstością plazmy w komorze powlekania. To sprawia, że technologia napylana magnetronowo ma wady, takie jak niska siła wiązania podłoża filmu, niska szybkość jonizacji metalu i niska szybkość osadzania...
1. Korzystne dla rozpylania i galwanizacji folii izolacyjnej. Szybka zmiana biegunowości elektrody może być wykorzystana do bezpośredniego rozpylania celów izolacyjnych w celu uzyskania folii izolacyjnych. Jeśli źródło zasilania prądem stałym jest używane do rozpylania i osadzania folii izolacyjnej, folia izolacyjna zablokuje jony dodatnie przed wejściem...
1. Proces powlekania metodą parowania próżniowego obejmuje odparowywanie materiałów foliowych, transport atomów pary w wysokiej próżni oraz proces nukleacji i wzrostu atomów pary na powierzchni przedmiotu obrabianego. 2. Stopień próżniowego osadzania powłoki metodą parowania próżniowego jest wysoki, generalnie...
TiN to najwcześniejsza twarda powłoka stosowana w narzędziach skrawających, z zaletami takimi jak wysoka wytrzymałość, wysoka twardość i odporność na zużycie. Jest to pierwszy przemysłowy i szeroko stosowany twardy materiał powłokowy, szeroko stosowany w powlekanych narzędziach i powlekanych formach. Twarda powłoka TiN została pierwotnie osadzona w temperaturze 1000 ℃...
Wysokoenergetyczna plazma może bombardować i napromieniowywać materiały polimerowe, rozrywając ich łańcuchy cząsteczkowe, tworząc grupy aktywne, zwiększając energię powierzchniową i generując trawienie. Obróbka powierzchni plazmą nie wpływa na wewnętrzną strukturę i wydajność materiału masowego, ale jedynie znacząco...
Proces powlekania jonowego za pomocą katodowego źródła łuku elektrycznego jest zasadniczo taki sam, jak w przypadku innych technologii powlekania, a niektóre operacje, takie jak instalowanie elementów obrabianych i odkurzanie, nie są już powtarzane. 1. Czyszczenie elementów obrabianych przez bombardowanie Przed powlekaniem do komory powlekającej wprowadza się argon z...
1. Charakterystyka przepływu elektronów w łuku świetlnym Gęstość przepływu elektronów, przepływu jonów i wysokoenergetycznych atomów neutralnych w plazmie łuku generowanej przez wyładowanie łukowe jest znacznie wyższa niż w przypadku wyładowania jarzeniowego. Jest więcej jonów gazowych i jonów metali zjonizowanych, wzbudzonych atomów wysokoenergetycznych i różnych aktywnych gro...
1) Modyfikacja powierzchni plazmą odnosi się głównie do pewnych modyfikacji papieru, folii organicznych, tekstyliów i włókien chemicznych. Zastosowanie plazmy do modyfikacji tekstyliów nie wymaga użycia aktywatorów, a proces obróbki nie uszkadza właściwości samych włókien. ...
Zastosowanie cienkich warstw optycznych jest bardzo szerokie, począwszy od okularów, obiektywów aparatów fotograficznych, kamer telefonów komórkowych, ekranów LCD do telefonów komórkowych, komputerów i telewizorów, oświetlenia LED, urządzeń biometrycznych aż po energooszczędne szyby w samochodach i budynkach, a także instrumenty medyczne, tec...
1. Rodzaj folii w wyświetlaczu informacyjnym Oprócz cienkich folii TFT-LCD i OLED wyświetlacz informacyjny obejmuje również folie elektrodowe i przezroczyste folie elektrodowe pikseli w panelu wyświetlacza. Proces powlekania jest podstawowym procesem wyświetlacza TFT-LCD i OLED. Dzięki ciągłemu prog...
Podczas powlekania przez parowanie, nukleacja i wzrost warstwy filmu stanowią podstawę różnych technologii powlekania jonowego. 1. Nukleacja W technologii powlekania przez parowanie próżniowe, po odparowaniu cząstek warstwy filmu ze źródła parowania w postaci atomów, lecą one bezpośrednio do w...
1. Polaryzacja przedmiotu obrabianego jest niska. Dzięki dodaniu urządzenia zwiększającego szybkość jonizacji, gęstość prądu rozładowania wzrasta, a napięcie polaryzacji zostaje zmniejszone do 0,5~1 kV. Odpryskiwanie wsteczne spowodowane nadmiernym bombardowaniem jonami o wysokiej energii i efekt uszkodzenia powierzchni przedmiotu obrabianego...
1) Cele cylindryczne mają wyższy wskaźnik wykorzystania niż cele płaskie. W procesie powlekania, niezależnie od tego, czy jest to obrotowy typ magnetyczny, czy obrotowy typ rurowy cylindryczny cel rozpylania, wszystkie części powierzchni rury docelowej ciągle przechodzą przez obszar rozpylania generowany przed...
Proces polimeryzacji bezpośredniej w plazmie Proces polimeryzacji plazmowej jest stosunkowo prosty zarówno w przypadku urządzeń do polimeryzacji z wewnętrzną elektrodą, jak i urządzeń do polimeryzacji z zewnętrzną elektrodą, jednak w przypadku polimeryzacji plazmowej ważniejszy jest dobór parametrów, ponieważ mają one największe znaczenie...