1. လေဟာနယ်အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာ၏နိယာမ
ဖုန်စုပ်ခန်းအတွင်း လေဟာနယ်အတွင်း စွန့်ထုတ်သည့်နည်းပညာကို အသုံးပြု၍ cathode ပစ္စည်း၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အက်တမ်နှင့် အိုင်းယွန်းများ အက်တမ်နှင့် အိုင်းယွန်းများ အက်တမ်များကို cathode တွင် ဖြစ်ပေါ်စေသည်။ လျှပ်စစ်စက်ကွင်း၏ လုပ်ဆောင်ချက်အောက်တွင်၊ အက်တမ်နှင့် အိုင်းယွန်းအလင်းတန်းများသည် အရှိန်ပြင်းပြင်းဖြင့် anode အဖြစ် workpiece ၏မျက်နှာပြင်ကို ဗုံးကြဲသည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ တုံ့ပြန်မှုဓာတ်ငွေ့တစ်ခု ရောက်ရှိလာပြီး အလွန်ကောင်းမွန်သော ဂုဏ်သတ္တိရှိသော အပေါ်ယံအလွှာကို workpiece ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ဖွဲ့စည်းထားသည်။
2. လေဟာနယ်အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံပိုင်း၏လက္ခဏာများ
(၁) အပေါ်ယံအလွှာကို ကောင်းစွာ ကပ်ထားသောကြောင့် ဖလင်အလွှာသည် ကျွတ်ရန် မလွယ်ကူပါ။
(၂) အပေါ်ယံပတ်၍ ကောင်းမွန်စွာ ဖုံးအုပ်ထားပြီး မျက်နှာပြင် ဖုံးလွှမ်းမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။
(၃) အရည်အသွေးကောင်းမွန်သော coating အလွှာ။
(၄) အစစ်ခံနှုန်းမြင့်မားပြီး ဖလင်ဖန်တီးမှု မြန်ဆန်ခြင်း။
(၅) သင့်လျော်သော အလွှာပစ္စည်းများနှင့် အကာအရံအတွက် ဖလင်ပစ္စည်းများ ကျယ်ပြန့်ခြင်း။
အကြီးစား multi-arc magnetron ဆန့်ကျင်ဘက်လက်ဗွေရာ ပေါင်းစပ်ထားသော အပေါ်ယံပစ္စည်းကိရိယာ
လက်ဗွေဆန့်ကျင်သော magnetron sputtering coating စက်သည် ဟာ့ဒ်ဝဲစက်မှုလုပ်ငန်း၊ ပန်းကန်ခွက်ယောက် ဟာ့ဒ်ဝဲ၊ တိုက်တေနီယမ်သံမဏိပြား၊ သံမဏိစုပ်ခွက်နှင့် ကြီးမားသော သံမဏိပြား ပြုပြင်ခြင်းတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည့် အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering၊ multi-arc ion နှင့် AF နည်းပညာပေါင်းစပ်မှုကို လက်ခံပါသည်။ ၎င်းသည် ကောင်းမွန်သော adhesion၊ ထပ်တလဲလဲနိုင်မှု၊ ဖလင်အလွှာ၏သိပ်သည်းဆနှင့် တူညီမှု၊ အထွက်နှုန်းမြင့်မားပြီး ထုတ်ကုန်အထွက်နှုန်းမြင့်မားသည်။
စာတိုက်အချိန်- မေ ၃၁-၂၀၂၄