1. Das Prinzip der Vakuum-Ionenbeschichtungstechnologie
Mithilfe der Vakuumbogenentladungstechnologie in einer Vakuumkammer wird auf der Oberfläche des Kathodenmaterials ein Lichtbogen erzeugt, der zur Bildung von Atomen und Ionen auf dem Kathodenmaterial führt. Unter dem Einfluss eines elektrischen Feldes treffen die Atom- und Ionenstrahlen mit hoher Geschwindigkeit auf die Oberfläche des Werkstücks, das als Anode dient. Gleichzeitig wird ein Reaktionsgas in die Vakuumkammer eingeleitet, wodurch sich auf der Werkstückoberfläche eine Beschichtung mit hervorragenden Eigenschaften bildet.
2. Eigenschaften der Vakuumionenbeschichtung
(1) Gute Haftung der Beschichtungsschicht, die Filmschicht löst sich nicht leicht ab.
(2) Gute Rundumbeschichtung und verbesserte Oberflächenabdeckung.
(3) Gute Qualität der Beschichtungsschicht.
(4) Hohe Abscheidungsrate und schnelle Filmbildung.
(5) Breites Spektrum an geeigneten Substratmaterialien und Filmmaterialien für die Beschichtung
Großflächige, integrierte Anti-Fingerprint-Beschichtungsanlage mit Mehrbogen-Magnetrontechnologie
Die Anti-Fingerprint-Magnetron-Sputteranlage kombiniert Mittelfrequenz-Magnetron-Sputtern, Multi-Arc-Ionen- und AF-Technologie und findet breite Anwendung in der Hardwareindustrie, insbesondere bei der Herstellung von Geschirr, Titan-Edelstahlplatten, Edelstahlspülen und der Bearbeitung großer Edelstahlplatten. Sie zeichnet sich durch gute Haftung, Wiederholgenauigkeit, Dichte und Gleichmäßigkeit der Beschichtung sowie hohe Leistung und Produktausbeute aus.
Veröffentlichungsdatum: 31. Mai 2024