1. Вакуумдук иондук каптоо технологиясынын принциби
Вакуумдук камерада вакуумдук жаа разряддоо технологиясын колдонуу менен катод материалынын бетинде жаа жарыгы пайда болот, бул катод материалында атомдордун жана иондордун пайда болушуна алып келет. Электр талаасынын таасири астында атом жана ион нурлары анод катары жогорку ылдамдыкта жумушчу бөлүктүн бетин бомбалайт. Ошол эле учурда, вакуумдук камерага реакциялык газ киргизилет жана жумушчу бөлүктүн бетинде эң сонун касиеттерге ээ каптоо катмары пайда болот.
2. Вакуумдук иондук каптоонун мүнөздөмөлөрү
(1) Каптоо катмарынын жакшы адгезиясы, пленка катмары оңой менен түшүп калбайт.
(2) Жакшы оролгон каптоо жана жакшыртылган беттик жабуу.
(3) Каптоо катмарынын сапаты жакшы.
(4) Жогорку чөкмө ылдамдыгы жана тез пленка пайда болушу.
(5) Каптоо үчүн ылайыктуу субстрат материалдарынын жана пленка материалдарынын кеңири түрү
Ири масштабдуу көп жаалуу магнетрондук манжа изине каршы интеграцияланган каптоо жабдуулары
Манжа изине каршы магнетрон чачыратуучу каптоочу машина орто жыштыктагы магнетрон чачыратуунун, көп доголуу иондун жана AF технологиясынын айкалышын колдонот, ал жабдуу өнөр жайында, идиш-аяк жабдыктарында, титан дат баспас болоттон жасалган плитада, дат баспас болоттон жасалган раковинада жана чоң дат баспас болоттон жасалган плитаны иштетүүдө кеңири колдонулат. Ал жакшы адгезияга, кайталануучулукка, пленка катмарынын тыгыздыгына жана бирдейлигине, жогорку өндүрүмдүүлүккө жана жогорку продукциянын өндүрүмдүүлүгүнө ээ.
Жарыяланган убактысы: 2024-жылдын 31-майы