真空イオンコーティング技術の概要

1.真空イオンコーティング技術の原理
真空チャンバー内で真空アーク放電技術を用いることで、陰​​極材料表面にアーク光を発生させ、陰極材料上に原子やイオンを形成させる。電界の作用により、原子・イオンビームが高速で陽極となる被加工物の表面に衝突する。同時に、反応ガスを真空チャンバー内に導入することで、被加工物の表面に優れた特性を持つコーティング層が形成される。
2.真空イオンコーティングの特性
（１）塗膜層の密着性が良好で、塗膜層が剥がれにくい。
（２）良好な被覆性と表面被覆性の向上。
（３）コーティング層の品質が良い。
（４）高い成膜速度と速い膜形成。
（５）コーティングに適した基材およびフィルム材料の幅広い種類

大型マルチアークマグネトロン指紋防止一体型コーティング装置

指紋防止マグネトロンスパッタリングコーティング装置は、中周波マグネトロンスパッタリング、マルチアークイオン、AF技術を組み合わせたもので、ハードウェア業界、食器類、チタンステンレス鋼板、ステンレスシンク、大型ステンレス鋼板の加工に幅広く使用されています。優れた密着性、再現性、膜層の密度と均一性、高生産性、高製品歩留まりを実現しています。