1. Принцип вакуумной ионной технологии нанесения покрытий.
При использовании технологии вакуумного дугового разряда в вакуумной камере на поверхности катодного материала генерируется дуговой свет, вызывающий образование атомов и ионов на катодном материале. Под действием электрического поля пучки атомов и ионов с высокой скоростью бомбардируют поверхность заготовки, выступающей в качестве анода. Одновременно в вакуумную камеру подается реакционный газ, и на поверхности заготовки образуется покрытие с превосходными свойствами.
2. Характеристики вакуумного ионного напыления
(1) Хорошая адгезия слоя покрытия, пленочный слой нелегко отслаивается.
(2) Хорошее обволакивающее покрытие и улучшенное покрытие поверхности.
(3) Хорошее качество покрытия.
(4) Высокая скорость осаждения и быстрое формирование пленки.
(5) Широкий выбор подходящих материалов подложки и пленочных материалов для нанесения покрытий.
Крупномасштабное многодуговое магнетронное оборудование для нанесения антиотпечатковых покрытий
Установка для нанесения антиотпечатковых покрытий методом магнетронного распыления использует комбинацию среднечастотного магнетронного распыления, многодугового ионного распыления и технологии AF и широко применяется в металлообрабатывающей промышленности, производстве столовых приборов, титановых пластин из нержавеющей стали, раковин из нержавеющей стали и крупногабаритных изделий из нержавеющей стали. Она обладает хорошей адгезией, повторяемостью, плотностью и однородностью пленочного слоя, высокой производительностью и высоким выходом продукции.
Дата публикации: 31 мая 2024 г.