ဖိုတွန်အစောပိုင်းကာလတွင် ဖိုတိုဗို့အားဆဲလ်များကို အဓိကအားဖြင့် အာကာသ၊ စစ်ရေးနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် အသုံးပြုခဲ့ကြသည်။ လွန်ခဲ့သော နှစ် ၂၀ အတွင်း၊ ဖိုတိုဗို့အားဆဲလ်များ၏ ကုန်ကျစရိတ်သည် သိသိသာသာ ကျဆင်းသွားခဲ့ပြီး ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးတွင် အာကာသတွင်းခုန် ဖိုတိုဗို့အားကို မြှင့်တင်ပေးခဲ့သည်။ ၂၀၁၉ ခုနှစ်ကုန်တွင် ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်းရှိ နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံး PV ၏ စုစုပေါင်း တပ်ဆင်စွမ်းရည်သည် 616GW အထိ ရောက်ရှိခဲ့ပြီး ၂၀၅၀ ခုနှစ်တွင် ကမ္ဘာ့စုစုပေါင်း ဓာတ်အားထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်၏ 50% အထိ ရောက်ရှိရန် မျှော်လင့်ရသည်။ ဖိုတိုဗို့အား တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကြောင့် အလင်းစုပ်ယူမှုသည် မိုက်ခရွန်အနည်းငယ်မှ မိုက်ခရွန်ရာပေါင်းများစွာအထိ အဓိကဖြစ်ပေါ်ပြီး ဆဲလ်၏ မျက်နှာပြင်စွမ်းဆောင်ရည်သည် အလွန်အရေးကြီးသောကြောင့် ဆဲလ်၏ ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာသည် နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးရှိသည်။
စက်မှုလုပ်ငန်းသုံး photovoltaic ဆဲလ်များကို အဓိကအမျိုးအစားနှစ်မျိုးခွဲခြားနိုင်သည်- crystalline silicon ဆိုလာဆဲလ်များနှင့် thin film ဆိုလာဆဲလ်များ။ ခေတ်မီ crystalline silicon ဆဲလ်နည်းပညာများတွင် passivated emitter and backside cell (PERC) နည်းပညာ၊ heterojunction (HJT) နည်းပညာ၊ passivated emitter backside full diffusion (PERT) နည်းပညာနှင့် tunneled oxide passivated contact (Topcon) ဆဲလ်နည်းပညာတို့ ပါဝင်သည်။ crystalline silicon ဆဲလ်များရှိ thin film များ၏ လုပ်ဆောင်ချက်များတွင် အဓိကအားဖြင့် passivation၊ reflection reduction၊ P/N doping နှင့် conductivity တို့ပါဝင်သည်။ အဓိက thin-film ဘက်ထရီနည်းပညာများတွင် cadmium telluride၊ copper indium gallium selenide နှင့် chalcogenide တို့ ပါဝင်သည်။ Thin film များကို အဓိကအားဖြင့် အလင်းစုပ်ယူသောအလွှာ၊ conductive layer စသည်တို့အဖြစ် အသုံးပြုကြသည်။ photovoltaic ဆဲလ်များတွင် thin film များပြင်ဆင်ခြင်းကို vacuum coating နည်းပညာအမျိုးအစားအမျိုးမျိုးတွင် ပိုမိုအသုံးပြုလေ့ရှိသည်။
- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာစက်ထုတ်လုပ်သူGuangdong Zhenhua
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၃ ခုနှစ်၊ စက်တင်ဘာလ ၁၂ ရက်