Photovoltaikzellen wurden in der Frühzeit der Photovoltaik hauptsächlich in der Raumfahrt, im Militär und anderen Bereichen eingesetzt. In den letzten 20 Jahren sind die Kosten für Photovoltaikzellen jedoch drastisch gesunken, was den sprunghaften Anstieg der Photovoltaik-Nutzung in einer Vielzahl globaler Anwendungen begünstigt hat. Ende 2019 erreichte die weltweit installierte Leistung von Solar-PV-Anlagen 616 GW und wird voraussichtlich bis 2050 50 % der weltweiten Stromerzeugungskapazität ausmachen. Da die Lichtabsorption im Photovoltaik-Halbleitermaterial hauptsächlich im Dickenbereich von wenigen Mikrometern bis zu mehreren hundert Mikrometern stattfindet und die Oberfläche des Halbleitermaterials die Zellleistung maßgeblich beeinflusst, findet die Vakuum-Dünnschichttechnologie breite Anwendung in der Solarstromerzeugung.
Industriell gefertigte Photovoltaikzellen lassen sich in zwei Hauptkategorien einteilen: kristalline Silizium-Solarzellen und Dünnschicht-Solarzellen. Zu den modernsten Technologien für kristalline Siliziumzellen zählen die PERC-Technologie (Passivated Emitter and Backside Cell), die HJT-Technologie (Heterojunction), die PERT-Technologie (Passivated Emitter Backside Full Diffusion) und die Topcon-Technologie (Tunneled Oxide Passivated Contact). Die Funktionen der Dünnschichten in kristallinen Siliziumzellen umfassen hauptsächlich Passivierung, Reflexionsreduzierung, P/N-Dotierung und Leitfähigkeit. Gängige Dünnschicht-Batterietechnologien basieren auf Cadmiumtellurid, Kupfer-Indium-Gallium-Selenid und Chalkogeniden. Dünnschichten werden hier vorwiegend als lichtabsorbierende oder leitfähige Schicht eingesetzt. Die Herstellung von Dünnschichten in Photovoltaikzellen erfolgt häufig mittels verschiedener Vakuumbeschichtungsverfahren.
–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsmaschinenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungsdatum: 12. September 2023