Selamat datang ke Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Berita
-
Pelapis Vakum Anti Cap Jari Logam
Penggunaan mesin salutan vakum anti-cap jari logam mewakili kemajuan besar dalam teknologi perlindungan permukaan. Dengan menggabungkan teknologi vakum dan salutan khusus, mesin ini mencipta lapisan nipis, tahan haus pada permukaan logam yang melindungi daripada cap jari dan kesan lain...Baca lagi -
Mesin Salutan Vakum Praktikal
Dalam bidang pembuatan termaju dan pengeluaran perindustrian, permintaan untuk mesin salutan vakum praktikal semakin meningkat. Mesin canggih ini merevolusikan cara pelbagai bahan disalut, memberikan ketahanan, prestasi dan estetika yang dipertingkatkan. Dalam blog ini...Baca lagi -
Prinsip dan Klasifikasi Pemilihan Bahan Sasaran
Dengan perkembangan teknologi salutan sputtering yang semakin meningkat, terutamanya teknologi salutan sputtering magnetron, pada masa ini, untuk apa-apa bahan boleh disediakan oleh filem sasaran pengeboman ion, kerana sasaran itu terbantut dalam proses menyalutnya kepada beberapa jenis substrat, kualiti...Baca lagi -
Ciri-ciri Utama Salutan Sputtering RF
A. Kadar sputtering yang tinggi. Sebagai contoh, apabila memercikkan SiO2, kadar pemendapan boleh sehingga 200nm/min, biasanya sehingga 10~100nm/min. Dan kadar pembentukan filem adalah berkadar terus dengan kuasa frekuensi tinggi. B. Lekatan antara filem dan substrat adalah lebih besar daripada vakum vakum...Baca lagi -
Garisan Salutan Pengeluaran Filem Lampu Kereta
Barisan pengeluaran filem lampu kereta adalah bahagian penting dalam industri pembuatan automotif. Barisan pengeluaran ini bertanggungjawab untuk salutan dan pengeluaran filem lampu kereta, yang memainkan peranan penting dalam meningkatkan estetika dan kefungsian lampu kereta. Memandangkan permintaan untuk kualiti tinggi...Baca lagi -
Peranan Medan Magnet dalam Sputtering Magnetron
Magnetron sputtering terutamanya termasuk pengangkutan plasma pelepasan, goresan sasaran, pemendapan filem nipis dan proses lain, medan magnet pada proses sputtering magnetron akan memberi kesan. Dalam sistem sputtering magnetron ditambah medan magnet ortogon, elektron tertakluk kepada...Baca lagi -
Keperluan Mesin Salutan Vakum Sistem Pengepaman
Mesin salutan vakum pada sistem pengepaman mempunyai keperluan asas berikut: (1) Sistem vakum salutan harus mempunyai kadar pengepaman yang cukup besar, yang seharusnya bukan sahaja mengepam keluar dengan cepat gas yang dilepaskan daripada substrat dan bahan tersejat dan komponen dalam vakum...Baca lagi -
Mesin Salutan PVD Barang Kemas
Mesin salutan PVD barang kemas menggunakan proses yang dikenali sebagai Pemendapan Wap Fizikal (PVD) untuk menggunakan salutan nipis tetapi tahan lama pada kepingan barang kemas. Proses ini melibatkan penggunaan sasaran logam pepejal ketulenan tinggi, yang disejat dalam persekitaran vakum. Wap logam yang terhasil kemudian mengalir...Baca lagi -
Mesin Salutan Vakum Pvd Fleksibel Kecil
Salah satu kelebihan utama mesin salutan vakum PVD fleksibel kecil adalah serba boleh. Mesin ini direka bentuk untuk menampung pelbagai saiz dan bentuk substrat, menjadikannya sesuai untuk proses pembuatan berskala kecil atau tersuai. Selain itu, saiznya yang padat dan konfigurasi fleksibel...Baca lagi -
Alat Pemotong Mesin Salutan Vakum
Dalam industri pembuatan yang sentiasa berkembang, alat pemotong memainkan peranan penting dalam membentuk produk yang kami gunakan setiap hari. Daripada pemotongan ketepatan dalam industri aeroangkasa kepada reka bentuk yang kompleks dalam bidang perubatan, permintaan untuk alat pemotong berkualiti tinggi terus meningkat. Untuk memenuhi permintaan ini, kami...Baca lagi -
Kesan pengeboman ion pada antara muka lapisan filem/substrat
Apabila pemendapan atom membran bermula, pengeboman ion mempunyai kesan berikut pada antara muka membran/substrat. (1) Percampuran fizikal. Kerana suntikan ion bertenaga tinggi, percikan atom termendap dan suntikan undur atom permukaan dan fenomena perlanggaran lata,...Baca lagi -
Pemulihan dan Pembangunan Salutan Sputtering Vakum
Sputtering ialah fenomena di mana zarah bertenaga (biasanya ion positif gas) mengenai permukaan pepejal (di bawah dipanggil bahan sasaran), menyebabkan atom (atau molekul) pada permukaan bahan sasaran terlepas daripadanya. Fenomena ini ditemui oleh Grove pada tahun 1842 apabila...Baca lagi -
Ciri-ciri salutan sputtering magnetron Bab 2
Ciri-ciri salutan sputtering magnetron (3) Sputtering tenaga rendah. Oleh kerana voltan katod rendah digunakan pada sasaran, plasma terikat oleh medan magnet di ruang berhampiran katod, dengan itu menghalang zarah bercas tenaga tinggi ke sisi orang substrat ditembak. yang...Baca lagi -
Ciri-ciri salutan sputtering magnetron Bab 1
Berbanding dengan teknologi salutan lain, salutan sputtering magnetron dicirikan oleh ciri-ciri berikut: parameter kerja mempunyai julat pelarasan dinamik besar kelajuan dan ketebalan pemendapan salutan (keadaan kawasan bersalut) boleh dikawal dengan mudah, dan tiada reka bentuk...Baca lagi -
Teknologi pemendapan dibantu pancaran ion
Teknologi pemendapan dibantu rasuk ion ialah teknologi suntikan pancaran ion dan salutan pemendapan wap yang digabungkan dengan teknologi pemprosesan komposit permukaan ion. Dalam proses pengubahsuaian permukaan bahan yang disuntik ion, sama ada bahan semikonduktor atau bahan kejuruteraan, Ia adalah...Baca lagi
