នៅក្នុងវិទ្យាសាស្ត្រសម្ភារៈ និងវិស្វកម្ម វិស័យថ្នាំកូតខ្សែភាពយន្តស្តើងដើរតួនាទីយ៉ាងសំខាន់នៅក្នុងឧស្សាហកម្មចាប់ពីគ្រឿងអេឡិចត្រូនិចរហូតដល់ការផលិតកម្រិតខ្ពស់។ ក្នុងចំណោមបច្ចេកវិជ្ជាផ្សេងៗដែលអាចរកបាន ការបញ្ចេញចំហាយរាងកាយ (PVD) sputtering បានលេចចេញជាវិធីសាស្រ្តប្រកបដោយភាពច្នៃប្រឌិត និងមានប្រសិទ្ធភាពសម្រាប់ការដាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើងនៅលើស្រទាប់ខាងក្រោម។ អត្ថបទនេះនឹងស្វែងយល់អំពីពិភពនៃ PVD sputtering ពិភាក្សាអំពីកម្មវិធី អត្ថប្រយោជន៍ និងការអភិវឌ្ឍន៍ចុងក្រោយបំផុត។ PVD sputtering ដែលត្រូវបានគេស្គាល់ថាជា magnetron sputtering គឺជាបច្ចេកទេសមួយដែលត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្ម semiconductor ដើម្បីដាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើងនៅលើ wafers ។ វាពាក់ព័ន្ធនឹងការប្រើប្រាស់ប្លាស្មាដើម្បីយកអាតូមចេញពីវត្ថុគោលដៅ ដែលបន្ទាប់មកត្រូវបានដាក់នៅលើស្រទាប់ខាងក្រោមបង្កើតជាខ្សែភាពយន្តស្តើងមួយ។
ដំណើរការផ្តល់នូវអត្ថប្រយោជន៍ជាច្រើនដូចជា ការគ្រប់គ្រងយ៉ាងច្បាស់លាស់នៃកម្រាស់ខ្សែភាពយន្ត ភាពស្អិតជាប់ដ៏ល្អឥតខ្ចោះ និងសមត្ថភាពក្នុងការដាក់វត្ថុធាតុជាច្រើនរួមមានលោហៈ អុកស៊ីដ និងនីទ្រីត។ កម្មវិធីនៃ PVD sputtering គឺធំទូលាយនិងផ្លាស់ប្តូរ។ នៅក្នុងឧស្សាហកម្មអេឡិចត្រូនិក វាត្រូវបានគេប្រើជាទូទៅដើម្បីដាក់វត្ថុធាតុ conductive ដូចជាអាលុយមីញ៉ូម និងទង់ដែង ដែលអនុញ្ញាតឱ្យផលិតសមាសធាតុតូចៗ និងសៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា។ លើសពីនេះទៀត PVD sputtering ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្មថ្នាំកូតអុបទិក ដូចជាថ្នាំកូតប្រឆាំងនឹងការឆ្លុះបញ្ចាំងនៅលើកញ្ចក់ និងកញ្ចក់ ដើម្បីបង្កើនប្រសិទ្ធភាពនៃការបញ្ជូនពន្លឺ។ ភាពជឿនលឿនថ្មីៗនេះនៅក្នុងបច្ចេកវិទ្យា PVD sputtering កំពុងធ្វើឱ្យវាកាន់តែមានប្រជាប្រិយភាព។ ការវិវឌ្ឍន៍ដ៏គួរឱ្យកត់សម្គាល់មួយគឺការដាក់បញ្ចូលនូវការបញ្ចេញទឹករំអិលដែលមានប្រតិកម្មដែលអាចដាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើងនៃសមាសធាតុជាមួយនឹងលក្ខណៈសម្បត្តិដែលប្រសើរឡើង។ តាមរយៈការដាក់បញ្ចូលឧស្ម័នដែលមានប្រតិកម្មទៅក្នុងបន្ទប់បូមធូលីកំឡុងពេលបញ្ចេញ ក្រុមហ៊ុនផលិតអាចគ្រប់គ្រងសមាសភាព និង stoichiometry នៃខ្សែភាពយន្តដែលបានដាក់ទុក ដោយផ្តល់នូវការធ្វើឱ្យប្រសើរឡើងនូវដំណើរការ និងមុខងារ។
លើសពីនេះទៀត ការច្នៃប្រឌិតគោលដៅបានពង្រីកសមត្ថភាពនៃ PVD sputtering ។ ជាឧទាហរណ៍ ការប្រើគោលដៅផ្សំដែលមានសម្ភារៈជាច្រើនអាចដាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើងដែលមានឯកទេសខ្ពស់ជាមួយនឹងលក្ខណៈសម្បត្តិតែមួយគត់។ នេះបើកទ្វារឆ្ពោះទៅរកការអភិវឌ្ឍន៍សម្ភារៈថ្មីសម្រាប់ឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិកកម្រិតខ្ពស់ ការផ្ទុកថាមពល និងឧបករណ៍ជីវវេជ្ជសាស្ត្រ។ សរុបមក PVD sputtering គឺជាបច្ចេកទេសស្រោបខ្សែភាពយន្តស្តើងដ៏មានអានុភាព ជាមួយនឹងកម្មវិធីដ៏ធំទូលាយ និងការជឿនលឿនថ្មីៗ។ ជាមួយនឹងការគ្រប់គ្រងយ៉ាងច្បាស់លាស់លើការទម្លាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើង និងភាពឆបគ្នាជាមួយវត្ថុធាតុផ្សេងៗ វាបានក្លាយជាចំណុចសំខាន់នៅក្នុងឧស្សាហកម្មដូចជាអេឡិចត្រូនិក និងអុបទិក។ ការស្រាវជ្រាវដែលកំពុងបន្ត និងការច្នៃប្រឌិតក្នុងវិស័យ PVD sputtering ត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងពង្រឹងបន្ថែមទៀតនូវសមត្ថភាពរបស់វា ដោយអនុញ្ញាតឱ្យមានការបង្កើតសម្ភារថ្មី និងជំរុញព្រំដែននៃការរីកចម្រើនផ្នែកបច្ចេកវិទ្យា។
- អត្ថបទនេះត្រូវបានចេញផ្សាយដោយក្រុមហ៊ុនផលិតម៉ាស៊ីនបូមធូលីZhenhua Vacuum ។
ពេលវេលាបង្ហោះ៖ ថ្ងៃទី២៧ ខែឧសភា ឆ្នាំ២០២៥