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ナノセラミック真空コーティング機
管理者による 24-01-24
ナノセラミック真空コーティング装置は、真空蒸着プロセスを用いて様々な基板にセラミック材料の薄層をコーティングする最先端技術です。この高度なコーティング方法は、硬度の向上、熱安定性の向上、優れた耐摩耗性など、多くの利点をもたらします。
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いくつかの一般的なターゲット材料
管理者による 24-01-24
1. クロムターゲット クロムはスパッタリング膜材料として、基板との密着性が高く、容易に結合できるだけでなく、クロムと酸化物が反応してCrO3膜を生成するため、機械的特性、耐酸性、熱安定性に優れています。さらに、不完全酸化状態のクロムは、CrO3膜よりも優れた機械的特性、耐酸性、熱安定性を有します。
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イオンビーム支援蒸着技術
管理者による 24-01-24
1. イオンビームアシスト蒸着技術は、膜と基板間の強力な接着力、つまり膜層強度を特徴としています。実験結果によると、イオンビームアシスト蒸着の接着力は、熱蒸着に比べて数倍から数百倍向上することが示されています。
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反応性スパッタリングコーティングの特性と用途
2018年1月24日 adminより
スパッタリングコーティングプロセスでは、化合物をターゲットとして化学合成膜を作製することができます。しかし、ターゲット材料をスパッタリングした後に生成される膜の組成は、ターゲット材料の元の組成から大きく逸脱することが多く、そのため…
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金属皮膜抵抗器の温度係数特性
2018年1月24日 adminより
金属膜の抵抗温度係数は膜厚によって変化し、薄膜では負、厚膜では正となります。より厚い膜はバルク材料と類似していますが、同一ではありません。一般的に、抵抗温度係数は負から正へと変化します。
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イオンコーティングの特性と応用 第2章
2012年1月24日 adminより
③ コーティングの品質が高い イオン衝撃により膜の密度が向上し、膜の組織構造が改善され、膜層の均一性が良好になり、メッキ組織が緻密になり、ピンホールや気泡が少なくなり、膜の品質が向上します。
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イオンコーティングの特性と応用 - 第1章
2012年1月24日 adminより
蒸着めっきやスパッタリングめっきと比較した場合、イオンプレーティングの最も重要な特徴は、堆積時に高エネルギーイオンが基板と薄膜層に衝突することです。荷電イオンの衝突は、主に以下の一連の効果を生み出します。① 膜/基板…
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カラーフィルム用特殊磁気制御コーティング装置
2011年1月24日 adminより
カラーフィルム用の特殊マグネトロンコーティング装置は、磁場の力を利用してフィルム基材へのコーティング材の塗布を正確に制御します。この革新的な技術により、コーティング工程において比類のない均一性と安定性を実現し、高品質なフィルムを実現します。
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時計用スパッタリングコーティング機
2011年1月24日 adminより
時計用スパッタコーティング装置は、物理蒸着(PVD)プロセスを用いて、時計部品にコーティング材の薄膜を形成します。この方法は、優れた密着性と均一な塗布面積を実現し、金属、セラミック、ダイヤモンドライクカーボンなど、多様なコーティングオプションに対応します。その結果、時計部品の耐久性が向上し、より優れた仕上げを実現します。
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耐酸化性フィルムコーティング機
管理者による 2009年1月24日
耐酸化皮膜コーティング装置は、金属部品の酸化を防ぎ、耐久性と寿命を向上させる保護層を形成する最先端技術です。この装置は、材料の表面に薄い皮膜コーティングを施し、腐食に対するバリアを形成します。
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一体型ランプ保護フィルム装置
管理者による 2009年1月24日
現代の照明器具に高度な技術を取り入れることで、その性能と効率は飛躍的に向上します。しかし、同時に様々な外的要因による損傷を受けやすくもなります。そのため、これらの貴重な資産を保護し、その耐用年数を最大限に延ばすためには、…
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ターゲットの選択と分類
管理者による 2009年1月24日
スパッタリングコーティング、特にマグネトロンスパッタリングコーティング技術の発展に伴い、現在では、あらゆる材料に対してイオン衝撃ターゲットフィルムを作製することが可能です。これは、ターゲットが何らかの基板にコーティングする過程でスパッタされるため、測定品質が...
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ステンレス鋼プラズマコーティング機
2008年1月24日 adminより
近年、ステンレス鋼製品の需要は、その優れた耐食性と現代的な美観から高まっています。そのため、メーカーは市場の需要拡大に対応するため、ステンレス鋼のコーティングにおける新たな、より優れた方法を常に模索しています。これが、ステンレス鋼のコーティング技術が、今まさに求められている理由です。
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蛇口ゴールド真空コーティング機
2008年1月24日 adminより
業界をリードする金真空コーティング装置の発売は、表面コーティング技術における大きな進歩です。従来、金コーティングの適用は複雑で高価なプロセスであり、特殊な設備と熟練した技術者を必要としていました。しかし、この新型装置は、従来の金メッキ技術をはるかに凌駕する画期的な技術革新を約束します。
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フィルム形成に影響を与える要因 第2章
2005年1月24日 adminより
(4)ターゲット材料。ターゲット材料は、一般的にスパッタリングコーティングの鍵となる材料です。ターゲット材料が要件を満たしていれば、良好な膜層を得るためにはプロセスパラメータを厳密に制御する必要があります。ターゲット材料中の不純物や表面酸化物、その他の不純物質は、…
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