真空イオンコーティング技術の紹介

1.真空イオンコーティング技術の原理
真空チャンバー内で真空アーク放電技術を用いることで、陰​​極材料の表面にアーク光を発生させ、陰極材料上に原子とイオンを形成します。電界の作用下で、原子とイオンのビームは陽極となるワークピースの表面に高速で衝突します。同時に、反応ガスが真空チャンバー内に導入され、ワー​​クピースの表面に優れた特性を持つコーティング層が形成されます。
2.真空イオンコーティングの特徴
（１）コーティング層の密着性が良好で、フィルム層が剥がれにくい。
（２）良好なラップアラウンドコーティングと表面被覆率の向上
（３）コーティング層の品質が良好である。
（４）高い堆積速度と速い成膜速度。
（５）コーティングに適した基材とフィルム材料の幅広い範囲

大型マルチアークマグネトロン指紋防止一体型コーティング装置

指紋防止マグネトロンスパッタリングコーティング機は、中周波マグネトロンスパッタリング、マルチアークイオン、AF技術を組み合わせたもので、金物業界、食器金物、チタンステンレス鋼板、ステンレスシンク、大型ステンレス鋼板の加工に広く使用されています。優れた密着性、再現性、膜層の密度と均一性、高出力、高製品歩留まりを誇ります。