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Notizie del settore

  • Tipi di rivestimenti duri

    Tipi di rivestimenti duri

    Il TiN è il primo rivestimento duro utilizzato negli utensili da taglio, con vantaggi quali elevata resistenza, elevata durezza e resistenza all'usura. È il primo materiale di rivestimento duro industrializzato e ampiamente utilizzato, ampiamente utilizzato in utensili e stampi rivestiti. Il rivestimento duro TiN è stato inizialmente depositato a 1000 °C...
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  • Caratteristiche della modifica della superficie del plasma

    Caratteristiche della modifica della superficie del plasma

    Il plasma ad alta energia può bombardare e irradiare materiali polimerici, rompendone le catene molecolari, formando gruppi attivi, aumentando l'energia superficiale e generando un effetto di incisione. Il trattamento superficiale al plasma non influisce sulla struttura interna e sulle prestazioni del materiale, ma solo in modo significativo...
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  • Il processo di rivestimento ionico con sorgente ad arco piccolo

    Il processo di rivestimento ionico con sorgente ad arco piccolo

    Il processo di rivestimento ionico con sorgente ad arco catodico è fondamentalmente lo stesso delle altre tecnologie di rivestimento e alcune operazioni, come l'installazione dei pezzi e l'aspirazione, non vengono più ripetute. 1. Pulizia a bombardamento dei pezzi Prima del rivestimento, il gas argon viene introdotto nella camera di rivestimento con un...
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  • Caratteristiche e metodi di generazione del flusso di elettroni ad arco

    Caratteristiche e metodi di generazione del flusso di elettroni ad arco

    1. Caratteristiche del flusso di elettroni nella luce ad arco. La densità del flusso di elettroni, del flusso di ioni e degli atomi neutri ad alta energia nel plasma ad arco generato dalla scarica ad arco è molto più elevata rispetto a quella della scarica a bagliore. Ci sono più ioni gassosi e ioni metallici ionizzati, atomi ad alta energia eccitati e vari gruppi attivi...
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  • Campi di applicazione della modifica della superficie al plasma

    Campi di applicazione della modifica della superficie al plasma

    1) La modifica superficiale al plasma si riferisce principalmente ad alcune modifiche di carta, film organici, tessuti e fibre chimiche. L'uso del plasma per la modifica tessile non richiede l'uso di attivatori e il processo di trattamento non danneggia le caratteristiche delle fibre stesse.
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  • Applicazione del rivestimento ionico nel campo dei film sottili ottici

    Applicazione del rivestimento ionico nel campo dei film sottili ottici

    L'applicazione delle pellicole ottiche sottili è molto ampia e spazia dagli occhiali, agli obiettivi delle macchine fotografiche, alle fotocamere dei telefoni cellulari, agli schermi LCD per cellulari, computer e televisori, all'illuminazione a LED, ai dispositivi biometrici, ai finestrini a risparmio energetico nelle automobili e negli edifici, nonché agli strumenti medici, ai...
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  • Pellicole per la visualizzazione delle informazioni e tecnologia di rivestimento ionico

    Pellicole per la visualizzazione delle informazioni e tecnologia di rivestimento ionico

    1. Tipo di pellicola nel display informativo: oltre ai film sottili TFT-LCD e OLED, i display informativi includono anche pellicole per elettrodi di cablaggio e pellicole trasparenti per pixel nel pannello del display. Il processo di rivestimento è il processo principale dei display TFT-LCD e OLED. Con la programmazione continua...
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  • La legge di crescita dello strato di pellicola di rivestimento per evaporazione sotto vuoto

    La legge di crescita dello strato di pellicola di rivestimento per evaporazione sotto vuoto

    Durante il rivestimento per evaporazione, la nucleazione e la crescita dello strato di pellicola sono alla base di varie tecnologie di rivestimento ionico. 1.Nucleazione Nella tecnologia di rivestimento per evaporazione sotto vuoto, dopo che le particelle dello strato di pellicola sono evaporate dalla fonte di evaporazione sotto forma di atomi, volano direttamente verso...
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  • Caratteristiche comuni della tecnologia di rivestimento ionico a scarica luminosa migliorata

    Caratteristiche comuni della tecnologia di rivestimento ionico a scarica luminosa migliorata

    1. La polarizzazione del pezzo è bassa. Grazie all'aggiunta di un dispositivo per aumentare la velocità di ionizzazione, la densità di corrente di scarica aumenta e la tensione di polarizzazione si riduce a 0,5~1 kV. Il backsputtering, causato dall'eccessivo bombardamento di ioni ad alta energia, e il conseguente danneggiamento della superficie del pezzo...
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  • Vantaggi dei target cilindrici

    Vantaggi dei target cilindrici

    1) I target cilindrici hanno un tasso di utilizzo maggiore rispetto ai target planari. Nel processo di rivestimento, che si tratti di un target di sputtering cilindrico di tipo magnetico rotante o di un target di sputtering cilindrico a tubo rotante, tutte le parti della superficie del tubo target attraversano continuamente l'area di sputtering generata di fronte...
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  • Processo di polimerizzazione diretta al plasma

    Processo di polimerizzazione diretta al plasma

    Processo di polimerizzazione diretta al plasma Il processo di polimerizzazione al plasma è relativamente semplice sia per le apparecchiature di polimerizzazione a elettrodo interno che per quelle a elettrodo esterno, ma nella polimerizzazione al plasma la selezione dei parametri è più importante, perché i parametri hanno una maggiore...
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  • Tecnologia di deposizione chimica da vapore al plasma potenziata dall'arco a filo caldo

    Tecnologia di deposizione chimica da vapore al plasma potenziata dall'arco a filo caldo

    La tecnologia di deposizione chimica da vapore al plasma potenziata con arco a filo caldo utilizza la pistola ad arco a filo caldo per emettere plasma ad arco, abbreviata come tecnologia PECVD ad arco a filo caldo. Questa tecnologia è simile alla tecnologia di rivestimento ionico con pistola ad arco a filo caldo, ma la differenza è che il film solido ottenuto...
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  • Introduzione alle tecniche convenzionali per il deposito di rivestimenti duri

    Introduzione alle tecniche convenzionali per il deposito di rivestimenti duri

    1. Tecnologia CVD termica I rivestimenti duri sono principalmente rivestimenti metallo-ceramici (TiN, ecc.), che si formano dalla reazione del metallo nel rivestimento e dalla gassificazione reattiva. Inizialmente, la tecnologia CVD termica veniva utilizzata per fornire l'energia di attivazione della reazione combinata mediante energia termica a...
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  • Che cosa è il rivestimento della sorgente di evaporazione per resistenza?

    Che cosa è il rivestimento della sorgente di evaporazione per resistenza?

    Il rivestimento con sorgente di evaporazione a resistenza è un metodo di rivestimento per evaporazione sotto vuoto di base. "Evaporazione" si riferisce a un metodo di preparazione di film sottili in cui il materiale di rivestimento nella camera a vuoto viene riscaldato ed evaporato, in modo che gli atomi o le molecole del materiale vaporizzino e fuoriescano dalla...
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  • Introduzione alla tecnologia di placcatura ionica ad arco catodico

    Introduzione alla tecnologia di placcatura ionica ad arco catodico

    La tecnologia di rivestimento ionico ad arco catodico utilizza la tecnologia di scarica ad arco a campo freddo. La prima applicazione della tecnologia di scarica ad arco a campo freddo nel campo dei rivestimenti è stata effettuata dalla Multi Arc Company negli Stati Uniti. Il nome inglese di questa procedura è "arc ionplating" (AIP). Il rivestimento ionico ad arco catodico...
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