En el mundo acelerado de hoy, donde el contenido visual tiene una gran influencia, la tecnología de recubrimiento óptico desempeña un papel fundamental en la mejora de la calidad de diversas pantallas. Desde teléfonos inteligentes hasta televisores, los recubrimientos ópticos han revolucionado la forma en que percibimos y experimentamos el contenido visual.
El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón se realiza mediante descarga luminiscente, con baja densidad de corriente de descarga y baja densidad de plasma en la cámara de recubrimiento. Esto hace que la tecnología de pulverización catódica con magnetrón presente desventajas, como baja fuerza de unión entre la película y el sustrato, baja tasa de ionización del metal y baja tasa de deposición...
1. Ideal para la pulverización catódica y el recubrimiento de películas aislantes. El cambio rápido de polaridad de los electrodos permite pulverizar directamente los objetivos aislantes y obtener películas aislantes. Si se utiliza una fuente de alimentación de CC para pulverizar y depositar la película aislante, esta bloqueará la entrada de iones positivos.
El proceso de recubrimiento por evaporación al vacío incluye la evaporación de los materiales de la película, el transporte de átomos de vapor en alto vacío y el proceso de nucleación y crecimiento de átomos de vapor en la superficie de la pieza de trabajo. El grado de deposición al vacío del recubrimiento por evaporación al vacío es alto, gener...
El TiN fue el primer recubrimiento duro utilizado en herramientas de corte, con ventajas como alta resistencia, dureza y resistencia al desgaste. Es el primer material de recubrimiento duro industrializado y ampliamente utilizado, ampliamente utilizado en herramientas y moldes recubiertos. El recubrimiento duro de TiN se depositó inicialmente a 1000 °C...
El plasma de alta energía puede bombardear e irradiar materiales poliméricos, rompiendo sus cadenas moleculares, formando grupos activos, aumentando la energía superficial y generando grabado. El tratamiento superficial con plasma no afecta la estructura interna ni el rendimiento del material, sino que solo reduce significativamente...
El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco catódico es básicamente el mismo que otras tecnologías de recubrimiento, y algunas operaciones como la instalación de piezas de trabajo y la aspiración ya no se repiten. 1. Limpieza por bombardeo de piezas de trabajo Antes del recubrimiento, se introduce gas argón en la cámara de recubrimiento con un...
1. Características del flujo de electrones de la luz de arco. La densidad del flujo de electrones, el flujo de iones y los átomos neutros de alta energía en el plasma de arco generado por la descarga de arco es mucho mayor que la de la descarga luminiscente. Hay más iones de gas y de metal ionizados, átomos de alta energía excitados y diversos grupos activos...
1) La modificación superficial con plasma se refiere principalmente a ciertas modificaciones de papel, películas orgánicas, textiles y fibras químicas. El uso de plasma para la modificación textil no requiere el uso de activadores y el proceso de tratamiento no daña las características de las propias fibras.
La aplicación de las películas delgadas ópticas es muy amplia, y abarca desde gafas, lentes de cámaras, cámaras de teléfonos móviles, pantallas LCD para teléfonos móviles, computadoras y televisores, iluminación LED, dispositivos biométricos, hasta ventanas de ahorro de energía en automóviles y edificios, así como instrumentos médicos, te...
1. Tipo de película en la pantalla de información. Además de las películas delgadas TFT-LCD y OLED, la pantalla de información también incluye películas de electrodos de cableado y películas de electrodos de píxeles transparentes en el panel. El proceso de recubrimiento es el proceso principal de las pantallas TFT-LCD y OLED. Con el proceso continuo...
Durante el recubrimiento por evaporación, la nucleación y el crecimiento de la capa de película son la base de varias tecnologías de recubrimiento iónico 1.Nucleación En la tecnología de recubrimiento por evaporación al vacío, después de que las partículas de la capa de película se evaporan de la fuente de evaporación en forma de átomos, vuelan directamente al w...
1. La polarización de la pieza de trabajo es baja. Gracias a la adición de un dispositivo para aumentar la tasa de ionización, la densidad de corriente de descarga aumenta y la tensión de polarización se reduce a 0,5-1 kV. La retropulverización causada por el bombardeo excesivo de iones de alta energía y el daño a la superficie de la pieza de trabajo...
1) Los objetivos cilíndricos tienen una mayor tasa de utilización que los objetivos planos. Durante el proceso de recubrimiento, ya sea un objetivo de pulverización catódica cilíndrica de tipo magnético rotatorio o de tipo tubo rotatorio, toda la superficie del tubo del objetivo pasa continuamente por el área de pulverización generada frente a...
Proceso de polimerización directa por plasma El proceso de polimerización por plasma es relativamente simple tanto para los equipos de polimerización por electrodos internos como para los equipos de polimerización por electrodos externos, pero la selección de parámetros es más importante en la polimerización por plasma, porque los parámetros tienen una mayor...